「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

Lead terminal parts 12, to which lead wires through which currents are supplied to 3-phase coils, junction terminal parts 13 to which the junction terminals of the 3-phase coils are soldered, and furthermore, a ring- shaped wiring pattern 14 with which one phase among three phases are wired are arranged on the surface layer of a multilayer printed board 11.例文帳に追加

多層プリント基板１１には、三相のコイルに電流を供給するリード線を接続するためのリード端子部１２と、三相のコイルの中継端子を半田付けする中継端子部１３と、さらに三相のうち１相を配線するリング状の配線パターン１４を表面層に配置している。 - 特許庁

The crystallization apparatus producing a crystalline semiconductor film is equipped with a lighting optical system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that it is reduced to a minimum intensity at a point corresponding to the phase-shifting part of the phase-shifting mask (1).例文帳に追加

位相シフトマスク（１）を照明する照明光学系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

To provide a phase shifting mask capable of relatively easily suppressing size variation and dislocation of a pattern in projection exposure with an error in production nearly equal to that in the case of a conventional bored phase shifting mask by making the intensity of transmitted light from bored regions and that from unbored regions nearly equal to each other in a bored phase shifting mask.例文帳に追加

掘り込み型の位相シフトマスクにおいて、掘り込み部からの透過光と非掘り込み部からの透過光の強度を略一致させて、投影露光時のパターンのサイズ変動や位置ずれを、比較的容易に、かつ従来の掘り込み型位相シフトマスクと同程度の製造誤差で抑えることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The crystallization apparatus forming the crystalline semiconductor film is equipped with a lighting system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that light is reduced to a minimum in intensity at a point corresponding to the phase shifting part of the phase-shifting mask.例文帳に追加

位相シフトマスク（１）を照明する照明系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

In this half-tone phase-shifting photomask 108 having a pattern of a half-tone phase-shifting film 102 which includes at least chromium and fluorine on a transparent substrate 101, the optical characteristic variation due to the excimer laser irradiation for exposure is reduced by patterning the film which is subjected to heat treatment with the half-tone phase-shifting film 102.例文帳に追加

透明基板１０１上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜１０２のパターンを有するハーフトーン位相シフトフォトマスク１０８において、ハーフトーン位相シフト膜１０２により熱処理を施した膜をパターニングすることにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減した。 - 特許庁

An in-pulse phase separating circuit 51 detects the pulse trains having the same phase characteristic through pattern recognition by detecting the phase characteristic peculiar to a radio wave emitting device caused by the component of the device and a PRF measuring circuit 52 calculates PRFs from the detected pulse trains.例文帳に追加

この抽出したパルス列ごとにパルス内位相分離回路５１で、電波発射装置の構成部品に起因する電波発射装置固有の位相特性を検出してパタン認識により同一の位相特性を有するパルス列を検出し、この検出したパルス列からＰＲＦ計測回路５２でＰＲＦを算出する。 - 特許庁

A target temperature pattern comprising target temperatures at every phase of the rotation of a honeycomb rotor 101 is stored in a target temperature setting part 12 and the target temperature at every phase constituting the target temperature pattern is read synchronizing to each phase of the rotation of the honeycomb rotor 101 to be set to a temperature control part 11 for controlling the temperature of air A sent into the honeycomb rotor 101 to a set target temperature.例文帳に追加

ハニカムロータ１０１の回転の各位相ごとの目標温度からなる目標温度パターンを目標温度設定部１２に記憶しておき、その目標温度パターンを構成する各位相ごとの目標温度を、そのハニカムロータ１０１の回転の各位相に同期して読み出して、ハニカムロータ１０１に送り込む空気Ａの温度を設定された目標温度に制御する温度制御部１１に設定する。 - 特許庁

An identical resist film is pattern-exposed twice with the first half tone phase shift mask 10 and the second half tone phase shift mask 20 each having translucent sections 12 and 22 for the holes corresponding to the holes belonging to each group.例文帳に追加

そして、各組に属するホールと対応するホール用透光部１２及び２２を有する第１のハーフトーン型位相シフトマスク１０及び第２のハーフトーン型位相シフトマスク２０を用いて同一のレジスト膜に対してパターン露光を２回行なう。 - 特許庁

The light transparent planar body 10 consists of parallel flat plates and the diaphragm pattern layers 20 and 30 consist of thin films formed on both surfaces 11 and 12 of the light transparent planar body 10 by deposition or printing from a gaseous phase or liquid phase.例文帳に追加

光透過性板状体１０は、平行平板からなり、絞りパターン層２０，３０は、気相もしくは液相からの堆積または印刷により光透過性板状体１０の両面１１，１２上に形成された薄膜からなる。 - 特許庁

A signal VCTL1 with a trapezoidal waveform which rises and falls repeatedly in every certain electrical angle section before and after a timing when a current application pattern is changed in accordance with the electrical angle of the rotor of a motor, and a signal VCTL2 whose phase is opposite to the phase of the signal VCTL1, are generated.例文帳に追加

モータの回転子の電気角に応じて通電パターンを切り替える時期の前後の一定の電気角区間ごとに、上昇と下降とを反復する台形波である信号VCTL1と、その逆相の信号である信号VCTL2が生成される。 - 特許庁

By the decoding device 11, till an analog PLL (phase locked loop) circuit 13 is locked, the address information ADD is demodulated from a phase inversion pattern of an ADIP detected on the basis of a 1st clock Dpck to be produced by a digital PLL circuit 12.例文帳に追加

デコード装置１１は、アナログＰＬＬ回路１３がロックするまで、デジタルＰＬＬ回路１２により生成される第１クロックＤｐｃｋに基づいて検出したＡＤＩＰの位相反転パターンからアドレス情報ＡＤＤ を復調する。 - 特許庁

To provide, as an ArF excimer laser mask, a phase shift mask blank which has minimized wavelength dependency of transmittance so as to make defect inspection possible, and which is processed with a single dry etching gas, and also to provide a phase shift mask and a pattern transfer method using the blank.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a symbol timing detecting circuit and a receiver for a multilevel phase modulated signal in which a symbol timing can be detected in a short period of time without depending on eccentricity in the pattern of a demodulated symbol in a demodulation circuit using a multilevel phase modulating system.例文帳に追加

多値位相変調方式を用いた復調回路において、短時間でシンボルタイミングを検出でき、かつ、復調シンボルのパターン偏りに依存しないシンボルタイミング検出回路及び多値位相変調信号の受信装置を提供する。 - 特許庁

A Levenson phase shift mask 4 is subjected to projection exposure and the intensity distribution of the light which transmitted through the Levenson phase shift mask 4 is detected by a CCD camera 6, to obtain the relation between the defocus quantity on the CCD camera 6 and the dimension of the optical pattern.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク４を投影露光し、このレベンソン位相シフトマスク４を透過した光の強度分布をＣＣＤカメラ６により検出し、ＣＣＤカメラ６上のデフォーカス量と、光学的パターン寸法との関係を求める。 - 特許庁

To provide an array antenna system where a time for measuring the excitation amplitude and phase of each element antenna is reduced as to the array antenna system for electronically performing beam scanning or pattern formation by the phase control of a plurality of element antennas.例文帳に追加

複数の素子アンテナの位相制御により電子的にビーム走査或いはパターン形成を行うアレイアンテナ装置に関し、各素子アンテナの励振振幅及び位相の測定に要する時間の短縮を図ったアレイアンテナ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a clock phase adjuster stably adjusting the phase of a clock on the basis of the state of the change of a sampling value obtained in synchronism with the clock from reproducing signals corresponding to a prescribed pattern.例文帳に追加

本発明の課題は、所定パターンに対応した再生信号からクロックに同期して得られるサンプリング値の変化の状態に基づいてそのクロックの安定した位相調整を行うことのできるクロック位相調整装置を提供することである。 - 特許庁

In the selection, a selection pattern is used to minimize the peak power of an OFDM symbol from a phase relation between the values of the parity bits and the subcarrier.例文帳に追加

この選択を行う際、パリティビットの値とサブキャリア間の位相関係とから、ＯＦＤＭシンボルのピーク電力が最も小さくなるような選択パターンを用いる。 - 特許庁

This enables the current flowing to the pattern 4 and probe 3, and the temperature of a probe unit 1 for use in the photochemical gas phase deposit method can be raised.例文帳に追加

したがって、電流通路パターン４及び探針３へ電流を流すことが可能となり、光化学気相堆積法用プローブ１の温度を上昇させることができる。 - 特許庁

To reduce a detection time of a frame synchronization pattern in a phase modulation signal (B-PSK) at a lowest transmission rate in hierarchical transmission and to enhance the detection accuracy.例文帳に追加

階層化伝送における最低速伝送の位相変調信号（Ｂ−ＰＳＫ）におけるフレーム同期パターンの検出時間を短縮し、かつ、検出精度の向上を図る。 - 特許庁

An isolated light-shielding pattern comprising a light-shielding film region 101 and a phase shift region 102 is formed on a transparent substrate 100 serving as a mask.例文帳に追加

マスクとなる透過性基板１００上に、遮光膜領域１０１と位相シフト領域１０２とから構成された孤立した遮光性パターンが形成されている。 - 特許庁

To perform focus detection without depending on an object due to an object pattern or the like in a digital still camera which uses a color photographic sensor to perform phase difference type focus detection.例文帳に追加

カラー撮影センサを用いて位相差方式の焦点検出を行なうデジタルスチルカメラにおいて、被写体パターン等による被写体依存のない焦点検出を行なう。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern which can prevent delta CD(critical dimension) or CD reversal phenomenon generated in an alternating phase inversion mask and improve the resolution and focus margin.例文帳に追加

交番位相反転マスクで発生するΔＣＤ現象やＣＤ逆転現象を防止し、解像度およびフォーカスマージンが向上したパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the information is recorded on the optical information recording medium by being corresponded to the modulation pattern of the phase of the reference light generated based on the information of peculiar the individual.例文帳に追加

これにより、個人の固有の情報に基づいて作成された参照光の位相の変調パターンに対応づけられて、光情報記録媒体に情報が記録される。 - 特許庁

To provide valve timing change device which can change automatically according to set pattern response time at valve timing control in accordance with rotating phase of housing and vein rotor.例文帳に追加

ハウジングとベーンロータとの回転位相に応じ、バルブタイミング制御における応答速度が所定のパターンに従って自動的に変るバルブタイミング変更装置の提供。 - 特許庁

Then, the computer apparatus 30 calculates the phase at the same position in these four brightness band-like pattern composed images SGk, and calculates the three-dimensional shape of the workpiece WK using trigonometry.例文帳に追加

そして、これら４つの明暗縞状パターン合成画像ＳＧｋにおける同一位置の位相を計算し、三角法を用いてワークＷＫの３次元形状を計算する。 - 特許庁

To provide a method for accurately adjusting the rotational phase of each photoreceptor, by effectively removing the disturbing components contained in a toner pattern for color shift adjusting.例文帳に追加

色ずれ調整用のトナーパターンに含まれる外乱成分を効果的に除去し、各感光体の回転位相を精度よく調整することのできる手法を提供する。 - 特許庁

To accurately produce a hologram having a desired interference stripe pattern even when the phase and/or amplitude modulation due to a spatial optical modulator is not sufficient.例文帳に追加

空間光変調素子による位相および／または振幅変調が不十分であっても、望ましい干渉縞パターンを有するホログラムを精度良く作製すること。 - 特許庁

To obtain a polymer blend material in which a phase separation structure is formed in a light exposure pattern formed by irradiating light having an arbitrary light intensity distribution.例文帳に追加

任意の光強度分布を有する光を照射することにより形成する露光パターンの中に相分離構造が形成したポリマーブレンド材料を実現する。 - 特許庁

Phase differences are made even by the fine projecting and recessed structures in the nano order and a diffraction function having diffraction efficiency nearly free from wavelength dependency can be exhibited by the diffraction pattern.例文帳に追加

ナノオーダーの微小凹凸構造により位相差が揃えられて、回折パターンにより回折効率に波長依存性が少ない回折機能を発揮することができる。 - 特許庁

A line defect correcting part 33 obtains pixels of the same phase as line defective pixels in the moire pattern, and corrects the line defective pixels using the value of the pixels.例文帳に追加

ライン欠損補正部３３は、その画素数から、モアレパターン中でライン欠損画素と同じ位相の画素を求め、その画素の値を用いてライン欠損画素を補正する。 - 特許庁

Due to the multiple exposure, the light intensity of the respective patterns is the same even if the phase absolute value in the mask varies, thereby improving the dimensional accuracy of the transferred pattern.例文帳に追加

多重露光により、マスクにおける位相の絶対値が変動しても、それぞれのパターンの光強度は同一となり、転写されたパターン寸法精度が向上する。 - 特許庁

Of the opposite ports, n-pieces of ports are terminated, and signals having predetermined phase differences are supplied to the residual (8-n) pieces of ports (thereby controlling a radiation pattern).例文帳に追加

反対側のポートのうちｎ個のポートが終端され、残りの８−ｎ個のポートに所定の位相差を有する信号が給電される（ことで放射パターンが制御される）。 - 特許庁

An excitation pattern of a motor 20 is defined as a micro step in a low-speed driving mode corresponding to the time t2 and as 1-2 phase excitation in a high-speed driving mode corresponding to the time t1.例文帳に追加

モータ２０の励磁パターンは、時間ｔ２に対応する低速駆動時にマイクロステップとし、時間ｔ１に対応する高速駆動時に１−２相励磁とする。 - 特許庁

The device etches a random bit pattern on the second recording medium before recording the information onto the first recording medium and generates the second recording medium as a phase plate.例文帳に追加

装置は、第１記録媒体に情報を記録する前に、ランダムなビットパターンを第２記録媒体に焼き付け処理し第２記録媒体を位相板として生成する。 - 特許庁

To provide a high-strength dual-phase hot-dip galvannealed steel sheet which has high strength and superior formability, and can inhibit the occurrence of a surface defect such as an unplated pattern.例文帳に追加

高強度で成形性に優れ、不めっき模様等の表面欠陥の発生を抑制できる高強度複合組織合金化溶融亜鉛めっき鋼板を提供すること。 - 特許庁

A contour follower section 12 obtains the positions of respective points constituting the endocardium (epicardium) in the tomographic image data acquired in the respective heart time phases for every time phase by pattern matching.例文帳に追加

輪郭追跡部１２は、各心時相に取得された断層像データにおける内膜（外膜）を構成する各点の位置を時相ごとにパターンマッチングによって求める。 - 特許庁

An isolated light shielding pattern composed of a light shielding film region 101 and a phase shift region 102 is formed on a transmitting substrate 100 serving as a mask.例文帳に追加

マスクとなる透過性基板１００上に、遮光膜領域１０１と位相シフト領域１０２とから構成された孤立した遮光性パターンが形成されている。 - 特許庁

The band diffusion part 105 changes a phase of the terahertz wave generated from the generation part 101 to diffuse a band, by the code pattern output from the signal generation part 107.例文帳に追加

帯域拡散部105は、信号生成部107より出力される符号パターンによって、発生部101から発生するテラヘルツ波の位相を変化させて帯域を拡散する。 - 特許庁

Based on the phase ϕ1 connected and position relation between the camera and a light source emitting the light pattern, depth to a surface of the measuring object is calculated.例文帳に追加

そして、この接続した位相φ１と、カメラ及び前記光パターンを照射した光源の位置関係とに基づいて、計測対象物体の表面までの奥行きを計算する。 - 特許庁

Such a mask includes a phase shifting technique for forming a dark area of the image by utilizing a destructive interference, and is not restricted so as to coincide with the desired printing pattern.例文帳に追加

こうしたマスクは、破壊的干渉を利用して、イメージの暗領域を画定する位相シフト技術を含み、所望の印刷パターンに合致するように拘束されない。 - 特許庁

To enhance tolerance of relative displacement for a phase modulation pattern of reference light during recording and playback in a hologram recording and playback device.例文帳に追加

ホログラム記録再生装置において、記録時と再生時とでの参照光の位相変調パターンについての相対的な位置ずれに対するトレランスの向上を図る - 特許庁

The main pattern 101 has a half-shielding part 101A which partially transmits the exposure light and has a first transmittance, and a phase shifter 101B.例文帳に追加

主パターン１０１は、露光光を部分的に透過させる第１の透過率を有する第１の半遮光部１０１Ａと、位相シフター１０１Ｂとから構成されている。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which enables an improvement in exposure dimensional accuracy without allowing illumination light to substantially receive the influence of shifter side walls and without depending on pattern shapes.例文帳に追加

照明光がシフター側壁の影響を実質上受けることなく、且つパターン形状によらず露光寸法精度向上が可能となる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

Here, the reflection type hologram lens pattern 10 has the groove depth of gratings so set that only the light of the 2nd wavelength λ2 is given a phase difference 2nπ.例文帳に追加

ここで、反射型ホログラムレンズ・パターン１０は、第２の波長λ_2の光に対してのみ、２ｎπの位相差を与えるように、格子の溝の深さが設定されている。 - 特許庁