「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a halftone phase shift mask capable of giving suitable light transmissivity to a halftone film according to the size of a pattern.例文帳に追加

パターンの寸法に応じて適切な光透過率をハーフトーン膜に対して与えることが可能なハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask on which a fine photomask pattern is formed with high accuracy, and to provide a mask blank for producing the above mask.例文帳に追加

微細なフォトマスクパターンが高精度で形成されたハーフトーン型位相シフトマスクおよびこれを作製するためのマスクブランクを提供すること。 - 特許庁

The method includes photolithographically imaging a phase-shift mask pattern onto a photoresist layer of a substrate to form therein a periodic array of photoresist features.例文帳に追加

基板のフォトレジスト層に位相シフトマスクパターンをフォトリソグラフィによりイメージングして、フォトレジスト造形物の周期的配列を形成することを備える。 - 特許庁

A light shielding pattern 31a is formed on a translucent phase shift pattern 21a in an effective region 20 on a transparent substrate 11, while a light shielding zone 31b is formed in the peripheral part 30 and a second resist pattern 42a is formed on the light shielding zone 31b in the peripheral part 30.例文帳に追加

透明基板１１上の有効領域２０内に半透明位相シフトパターン２１ａ上に遮光パターン３１ａを、外周部３０に遮光帯３１ｂを形成し、外周部３０の遮光帯３１ｂ上に第２レジストパターン４２ａを形成する。 - 特許庁

The sum total of the intensity of the magnetization of a burst type of the servo pattern is made 0 by forming a DC signal part involved in the burst part of the servo pattern with a combination of positive and negative DC signal components and low-density dummy bits or a pattern shifted in its phase.例文帳に追加

サーボパターンのバースト部分に含まれる直流信号部分を、正と負の直流信号要素の組み合わせ、低密度のダミービット、もしくは位相をずらしたパターンで構成することにより、サーボパターンのバースト部分の磁化量の総和を０とする。 - 特許庁

Then the oscillator 1, the frequency divider 2, and the 4-phase modulation pattern generator 3 are respectively operated to generate a 4-value fixed pattern, the S/P converters 4a, 4b convert the 4-value fixed pattern into 8-bit parallel data suitable for an input section of the modulator 5 and supply the data to the modulator 5.例文帳に追加

そして、発振器１，分周器２，４相変調パターン発生器３のそれぞれを動作させて４値固定パターンを生成し、この４値固定パターンを変調器５の入力部に応じた８ビットパラレルデータに変換して変調器５に供給する。 - 特許庁

When a false pattern is generated in pattern formation, since the transmittance of the organic film pattern can easily be varied by irradiation with light, fine adjustment of the quantity of phase shift can easily be performed by varying the transmittance without varying the film thickness.例文帳に追加

そしてパターン形成に際して、疑似パターンが発生する場合は、光照射によって容易に透過率を変更可能であるため、膜厚を変更することなく、透過率を変更することにより、容易に、位相シフト量の微調整を行うことが可能となる。 - 特許庁

To provide such a three-dimensional information inputting camera which can eliminate a large difference in the input luminance levels of both informations and accurately obtain a pattern information i.e., a phase picture, by conducting flash projections with a pattern and without a pattern and accumulating the two photographed informations.例文帳に追加

パターン付きとパターン無しとのフラッシュ投影を行い、２つの撮像情報を蓄積する３次元情報入力カメラにおいて、両情報の入力輝度レベルに大きく差が出ないようにし、パターンの情報すなわち位相画像を精度良く得る。 - 特許庁

A hole pattern is transferred to a photoresist film 6 on a wafer 4 by reduced projection exposure with an edge emphasized phase shifting resist mask RM1 having a phase shifting film 2 and a light shielding film 3 each comprising a resist film.例文帳に追加

位相シフト膜２および遮光膜３をレジスト膜で構成したエッジ強調型位相シフトレジストマスクＲＭ１を用いた縮小投影露光処理によってウエハ４上のフォトレジスト膜６にホールパターンを転写する。 - 特許庁

Assuming a monochrome plane wave 100 completely made parallel and having wavelength λ0 made perpendicularly incident on the device 2000, the uniform phase distribution 150 of incident wave is converted into a specified phase shift pattern when the mirror 55 is substituted for the device.例文帳に追加

この装置の１つの重要な特徴は、アレイにおける各種要素の内の残余の各位相シフト或は真時間遅延を自動的に調整するために、１つのみのパラメータを要求することである。 - 特許庁

To provide an eaves type Levenson phase shift mask for transferring a fine pattern in which fragments of eaves are restored with high accuracy, and to provide a mask defect modifying method for restoring broken parts of the eaves of the eaves type phase shift mask.例文帳に追加

ひさし折れが修復された、微細パターンを高精度に転写できるひさし型レベンソン位相シフトマスクと、ひさし型位相シフトマスクのひさし折れ部分を修復できるマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

That is, the height of the pattern on the mask producing an unwanted phase shift effect is varied corresponding to 360° phase, and an out-of-focus state is generated on a wafer so as to attain increase in the intensity of light in the area originally intended to be dark.例文帳に追加

より詳しくは、不要な位相シフト効果が発生するマスク上のパターンの高さを３６０度位相で変更させ、ウェーハ上で焦点ズレを発生させ、本来暗くなる領域で光強度を大きくする。 - 特許庁

To provide a phase-change structure which contains a phase-change substance layer pattern of a minute size, having a superior step coverage or gap-fill characteristics for keeping a resistance margin and maintenance characteristic, in HARS (high-aspect-ratio-structure).例文帳に追加

抵抗マージンと維持特性を確保しながら優秀なステップカバレッジ、又は、ギャップフィル特性を有する、微小サイズの相変化物質層パターンをＨＡＲＳ（Ｈｉｇｈ＿Ａｓｐｅｃｔ＿Ｒａｔｉｏ＿Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ、高縦横比構造）内に含む相変化構造物を提供すること。 - 特許庁

This phase conversion memory device includes a cylindrical lower electrode which is formed on a semiconductor substrate and has a flat plate section and a vertical section, and a phase conversion pattern which is formed on part of the vertical section and is in contact with the lower electrode.例文帳に追加

この記憶素子は、半導体基板上に形成され、平板部及び垂直部を有するシリンダ型の下部電極と、垂直部の一部分上に形成されて下部電極と接する相変換パターンと、を含む。 - 特許庁

While changing a phase of a phase shifter 42 connected to the calibration target antenna element 22, a receiving power change pattern formed by the reference antenna element 21 and the calibration target antenna element 22 is acquired.例文帳に追加

そして、校正対象アンテナ素子２２に接続された移相器４２の位相を変化させつつ、基準アンテナ素子２１及び校正対象アンテナ素子２２によって形成される受信電力変化パターンを取得する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask having proper chemical resistance and light resistance and ensuring accurate pattern drawing without a charge-up phenomenon on patterning a resist film by electron beam lithography.例文帳に追加

耐薬品性、耐光性が良好で、レジスト膜に対して電子線描画してパターニングする際にも、チャージアップせずに正確なパターン描画ができるハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The 90° phase adjusting circuit consisting of a closed conductor pattern, a port connected to the antenna drawn out to the inside and a port connected to a coaxial line are formed to the printed circuit board, and the 90° phase adjusting circuit is contained to the rear side of the antenna.例文帳に追加

配線基板には閉じた導体パターンによる90°ハイブリッドと内側に引き出したアンテナと接続するポートと同軸線に接続するポートをを形成し、アンテナの裏面に90°ハイブリッドが収まるようにする。 - 特許庁

The microscope sample 10 has a resin-made phase body 11 having an unevenness pattern 16 of predetermined size in a predetermined shape and support members 12 and 13 which support the phase body.例文帳に追加

本発明の顕微鏡標本１０は、予め定めた形状および寸法の凹凸パターン１６を有する樹脂製の位相物体１１と、前記位相物体を支持する支持部材１２,１３とを備えたものである。 - 特許庁

To provide a half-tone phase-shifting photomask which does not change transmissivity and phase angle even when irradiated with excimer laser which is used for exposure for a long time, blanks thereof and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

露光に使用されるエキシマレーザーに長時間にわたって照射されても、透過率及び位相角が変化しないハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのブランクス、並びにこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Thus the occurrence of recessed portions on the phase-change material layer pattern or formation of a surface oxide film is suppressed to be able to considerably reduce the occurrence of defects in the phase-change memory device.例文帳に追加

これによって、相変化物質層パターンの上部に窪みが発生するか、あるいは表面酸化膜が形成されることを抑制して相変化メモリー装置の不良発生を著しく減少させることができる。 - 特許庁

And in the reception side circuit 3, a phase of an output signal PLL_OUT is made to be synchronized to the phase of the data signal and the command signal by controlling the phase of the output signal PLL_OUT received by a PLL 12 based on the synchronous pattern received by a receiver 10R.例文帳に追加

そして、受信側回路３では、ＰＬＬ１２が、出力信号ＰＬＬ＿ＯＵＴの位相を、受信器１０Ｒによって受信した同期パターンに基づいて制御することにより、出力信号ＰＬＬ＿ＯＵＴの位相を上記データ信号およびコマンド信号の位相に同期させる。 - 特許庁

The RFID antenna device 6 is provided with a phase adjustment section 14 which is connected electrically and serially to a circuit pattern 7a formed on the upper surface of a substrate 13 of an antenna 7 in the shape of a loop, and a phase component of the antenna 7 is adjusted by this phase adjustment section 14.例文帳に追加

ＲＦＩＤ用アンテナ装置６は、アンテナ７の基板１３の上面にループ状に形成されている配線パターン７ａに電気的に直列接続した位相調整部１４を設け、この位相調整部１４により、アンテナ７の位相成分を調整するようにした。 - 特許庁

The mask set contains: a pair of phase inversion regions which consist of two phase inversion regions having different phases arranged adjacent to each other to induce extinction interference and which define an access line; and a first opaque pattern formed on a transparent substrate to define the above phase inversion region pair.例文帳に追加

消滅干渉を起こせるように隣接配置された相異なる位相の位相反転領域２つよりなってアクセス配線を定義する位相反転領域対と前記位相反転領域対とを定義すべく透明基板上に形成された第１不透明パターンを含む。 - 特許庁

The space light modulator 30 is of the phase modulation type, has a plurality of two-dimensionally arranged pixels, phase modulation in each of the plurality of pixels is possible within a range of 4π, and presents the phase pattern for modulating phases of light in each of the plurality of pixels.例文帳に追加

空間光変調器３０は、位相変調型のものであって、２次元配列された複数の画素を有し、これら複数の画素それぞれにおける位相変調が４πの範囲で可能であり、複数の画素それぞれにおいて光の位相を変調する位相パターンを呈示する。 - 特許庁

A pattern alternately repeating a lower hook having a voltage minimum phase as a GND and an upper hook having a voltage maximum phase as a power supply every 60° electric angle is represented by linear approximation to create a sine wave driving voltage thus supplying a sine wave current to the three-phase coil.例文帳に追加

電圧最小相をＧＮＤとした下側フックと電圧最大相を電源とした上側フックを電気角６０ deg毎に交互に繰り返したパターンとし、このパターンを直線近似で表現して正弦波状の駆動電圧を生成して正弦波状の電流を上記３相コイルに流す。 - 特許庁

The image enhancing mask 6 has a semi-light-shielding mask pattern formed of the semi-light-shielding portion 8 which transmits the exposure light in the same phase with a translucent part 7 as a reference and the phase shifter 9 which transmits the exposure light in the opposite phase with the translucent part 7 as a reference.例文帳に追加

イメージ強調マスク６においては、透光部７を基準として露光光を同位相で透過させる半遮光部８と、透光部７を基準として露光光を反対位相で透過させる位相シフター９とによって、遮光性を有するマスクパターンが構成されている。 - 特許庁

The phase diffraction optical device has random phase distribution, in which a large number of unit patterns having different phase modulation functions are arranged with each unit pattern, consisting of recesses and projections having a period shorter than the wavelength of the light to be used, and different phase modulation functions in the unit patterns are obtained, by varying the width ratio of the recesses and projections in the recessed and projected part.例文帳に追加

異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。 - 特許庁

The method further includes a step of making a desired phase change for the part of the radiation beam when applying the pattern feature to the substrate and illuminating the phase modulation element using the part of the radiation beam when the phase modulation element is configured into a desired configuration by making the desired phase change.例文帳に追加

この方法には、さらに、基板にパターンフィーチャを加える際に放射ビームの上記部分に対して所望の位相変化を実施する工程であって、所望の位相変化の実施が、位相変調エレメントが所望の構成で構成されると、放射ビームの上記部分を使用して位相変調エレメントを照明する工程を含む工程が含まれている。 - 特許庁

In an aligner arranged to obtain a desired pattern by projection mapping using a phase shift mask 10, a polarization condition selecting unit 20 for selecting the polarization direction of illumination light with respect to the phase shift mask 10 is provided in parallel with the direction of the compositional side of a pattern formed on the phase shift mask 10 at the time of projection mapping.例文帳に追加

位相シフトマスク１０を用いた投影写像によって所望パターンを得るように構成された露光装置において、その投影写像の際に、前記位相シフトマスク１０上に形成されたパターンの構成辺の方向と平行になるように、その位相シフトマスク１０に対する照明光の偏光方向を選択する偏光状態選択ユニット２０を設ける。 - 特許庁

An address signal 10 which represents the address signal of track which is one of servo information is composed of a pattern 12 representing a gray code and a phase pattern 14 which extends over a plurality of tracks and intersects obliquely to the track direction X.例文帳に追加

サーボ情報の一つであるトラックのアドレス情報を示すアドレス信号10をグレイコードを示すパターン12と、複数トラックに跨って延びる、トラック方向Ｘに斜めに交叉する位相パターン14とにより構成する。 - 特許庁

After an area whose width in the mask pattern is smaller than designated is extracted, the phase shifter is inserted into the extracted area and a peripheral edge part of an area whose width in the mask pattern exceeds the designated size.例文帳に追加

続いて、マスクパターンにおける幅が所定の寸法以下である領域を抽出した後、抽出された領域、及びマスクパターンにおける幅が所定の寸法を越える領域の周縁部に位相シフターを挿入する。 - 特許庁

A retiming circuit calculates an initial phase offset and a frequency offset for a defined bit within the storage buffer using a first location of the first synchronization pattern and a second location of the second synchronization pattern.例文帳に追加

リタイミング回路は、第１の同期パターンの第１のロケーションおよび第２の同期パターンの第２のロケーションを使用してストレージ・バッファ内の定義されたビットに関する初期位相オフセットおよび周波数オフセットを算出する。 - 特許庁

To provide a phase delay compensation device which recognizes a data pattern in advance before data are outputted from a semiconductor element and which can minimize a skew generated by the change of the data pattern, and to provide a method therefor.例文帳に追加

データが半導体素子から出力される前にデータパターンを予め認識して、データパターンの変更によって生じるスキューを最小化することができる位相遅延補償装置及びその方法を提供すること。 - 特許庁

With this arrangement, only a blue color phase, of which it is the most difficult to determine the luminance difference and chromaticity difference, is distributed around the illumination pattern, and accordingly, color unevenness can be hardly generated in the vicinity of a periphery of the illumination pattern.例文帳に追加

これにより、照射パターン周辺に輝度差と色度差の判断が最も難しい青色の色相のみが配光されるようになり、照射パターンの周辺近傍における色むらを生じ難くすることができる。 - 特許庁

A pattern detector 9 detects a phase difference pattern between time information added to a first video signal (30FPS signal) and time information serving as a reference at the time of converting a second video signal (24FPS signal).例文帳に追加

第１の映像信号（３０ＦＰＳ信号）に付加された時間情報と、第２の映像信号（２４ＦＰＳ信号）変換時の基準となる時間情報との間の位相相違パターンをパターン検出器９で検出する。 - 特許庁

The halftone phase inversion trim mask contains: a second opaque pattern formed on the transparent substrate to prevent the access line from erasing; and a halftone pattern which defines a bus line connected to the access line.例文帳に追加

ハーフトーン位相反転トリムマスクは透明基板上に形成されてアクセス配線が消されることを防止する第２不透明パターンと前記アクセス配線と連結されるパス配線を定義するハーフトーンパターンとを含む。 - 特許庁

The polymer blend material comprises at least two kinds of polymers and has a light exposure pattern corresponding to light having a light intensity distribution and the light exposure pattern has a phase separation structure.例文帳に追加

本発明のポリマーブレンド材料は、少なくとも二種類のポリマーを含むポリマーブレンド材料であって、光強度分布を有する光に対応した露光パターンを備え、上記露光パターンは相分離構造を有している。 - 特許庁

To realize stable reproducing operation by suppressing phase deviation of a reproducing clock even in a data area away from a reference pattern.例文帳に追加

参照パターンから離れたデータ領域においても、再生クロックの位相ズレを抑制し、よって安定した再生動作を実現し得るようにすること。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus which adds phase data for controlling the thinning of a specific pattern part and the emission timing of a light emitting element.例文帳に追加

本発明は特定パターン部分について細線化及び発光素子の発光タイミングを制御する位相データの付加を行う画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The pattern 12 is formed on the first principal surface of the substrate 11 and has at least one form selected from a light shielding film, a translucent film and a phase control film.例文帳に追加

パターン１２は、透明基板１１の前記第１の主面上に形成され、遮光膜、半透明膜、位相制御膜のうち、少なくとも１つを有する。 - 特許庁

The invention further provides a method for filling the phase change ink composition in an inkjet printer device, melting the ink and ejecting the droplets of the molten ink against a substrate in an image-forming pattern.例文帳に追加

さらに、当該相変化インク組成物をインクジェットプリンター装置に入れ、溶融させ、その液滴を像形成パターンで基体上に噴出させる方法。 - 特許庁

The projections of the light extraction surface can be formed by etching using a dot pattern formed by phase separation of a block copolymer, as a mask.例文帳に追加

この光取り出し面の凸部は、ブロックコポリマーの相分離により形成されるドットパターンをマスクとしてエッチングすることにより形成させることができる。 - 特許庁

To adjust phase difference without increasing the amount of loss of light and without deteriorating an eye pattern when length of a waveguide is deviated from a design value.例文帳に追加

導波路の長さが設計値からずれている場合に、光の損失量を大きくすること無く、しかもアイパターンを劣化させることなく、位相差を調整する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus for facilitating a phase adjustment in switching of a frequency of a clock and making it difficult to visually recognize a pattern of beat noise.例文帳に追加

クロックの周波数の切り換えに伴う位相調整を容易にするとともに、ビートノイズのパターンを視認し難くすることができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an uneven pattern-forming sheet showing excellent performance when used for an optical element such as an anti-reflective body, a phase retardation plate and the like.例文帳に追加

反射防止体や位相差板等の光学素子として利用した際に優れた性能を示す凹凸パターン形成シートの製造方法を提供する。 - 特許庁