「phase pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To realize stable reproducing operation by suppressing phase deviation of a reproducing clock even in a data area away from a reference pattern.例文帳に追加

参照パターンから離れたデータ領域においても、再生クロックの位相ズレを抑制し、よって安定した再生動作を実現し得るようにすること。 - 特許庁

The band restoration part 106 changes the phase of the terahertz wave before detected by the detecting part 102, by the code pattern output from the delay part 108.例文帳に追加

帯域復元部106は、遅延部108より出力される符号パターンによって、検出部102で検出される前のテラヘルツ波の位相を変化させて帯域を復元する。 - 特許庁

To provide a mask for exposure capable of preventing the occurrence of an unnecessary projected pattern part in exposure using a single phase shift mask by a single exposure.例文帳に追加

単一の位相シフトマスクを用いた露光における、不要な投影パターン部分の発生を、単一の露光で防止しうる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an uneven pattern-forming sheet showing excellent performance when used for an optical element such as an anti-reflective body, a phase retardation plate and the like.例文帳に追加

反射防止体や位相差板等の光学素子として利用した際に優れた性能を示す凹凸パターン形成シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus which adds phase data for controlling the thinning of a specific pattern part and the emission timing of a light emitting element.例文帳に追加

本発明は特定パターン部分について細線化及び発光素子の発光タイミングを制御する位相データの付加を行う画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The grating is therefore not imaged and an exposed pattern expressed by the depth or width of each of the grooves of the phase grating is transferred to a photosensitive material.例文帳に追加

それにより、格子が結像されなくなり、位相格子の各溝の深さや幅等で表現された露光パターンが感光材料に転写される。 - 特許庁

A toner pattern is formed on the endless belt when a phase and the maximum amplitude at a mark are calculated from a detection angle displacement error of an encoder for one round of the belt.例文帳に追加

ベルト１周分のエンコーダの検出角変位誤差からマークでの位相と最大振幅を算出する時に、エンドレスベルトにトナーパターンを作像する。 - 特許庁

To provide a Fourier iterative phase retrieval method which can reconstruct a real image close to an original image even for an incomplete diffraction pattern including noise or the like.例文帳に追加

ノイズなどを含む不完全な回折パターンに対しても、オリジナルに近い実像を再構成することができる、フーリエ反復位相回復法を提供する。 - 特許庁

Further, this method performs phase compensation in any of three predetermined magnetization reversals among the eight magnetization reversals when recording the first pattern.例文帳に追加

本方法は更に、前記第１のパターンを記録する際に前記８個の磁化反転の内、所定の３個の磁化反転のいずれかに位相補償を行う。 - 特許庁

A mask pattern 40 having a light shielding part 41 comprising a light shielding film such as a chromium film and phase shifters 42 and 43 is formed on a transmissive substrate 30.例文帳に追加

透過性基板３０上に、クロム膜等の遮光膜よりなる遮光部４１と位相シフター４２及び４３とを有するマスクパターン４０が形成されている。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck having surface embossments pattern for effectively balancing a uniform distribution of a backside gas, and gas-phase heat transfer and solid contact heat transfer.例文帳に追加

裏面ガスの均一な分布と、気相熱伝達と、固体接触熱伝達とのバランスを効果的に取る表面エンボスパターンを有する静電チャックを提供する。 - 特許庁

The phase change substance pattern corresponds to the undoped GeBiTe film, the doped GeBiTe film including impurities, or the GeTe film including impurities.例文帳に追加

前記相変化物質パターンは、アンドープトＧｅＢｉＴｅ膜、不純物を含むドープトＧｅＢｉＴｅ膜または不純物を含むＧｅＴｅ膜に相当する。 - 特許庁

Further, a resist film is pattern-exposed to transmitted light transmitted through the first opening part with phase shifted 180° and transmitted light transmitted through the second opening part.例文帳に追加

また、その位相が１８０度ずれた第１の開口部を透過した透過光と第２の開口部を透過した透過光により、レジスト膜をパターン露光する。 - 特許庁

A tread is parted into three areas, and blocks 30, 32 in the center section and a block in both side sections are shifted in phase so as to improve pattern noise property.例文帳に追加

トレッド１２を３つの領域に分断し、中央区域のブロック（３０，３２）と両側区域のブロック（１８）の位相をずらしてパターンノイズ性の向上を図る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor, by which the processing dimensional accuracy is improved, and also to provide a method for forming a mask pattern, and a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加

加工寸法精度の向上を図ることが可能な半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

A corrected distance vector is calculated, so that a read mark 3 and a write mark 4 can have the same phase state on a cyclic pattern basis.例文帳に追加

読み込みマーク３および書き込みマーク４が周期的なパターンを基準にして同じフェーズ状態を有するように、修正された距離ベクトルを計算する。 - 特許庁

To provide a circuit that can automatically and surely adjust a sampling phase even in the case of a moving picture as well as a still picture such as a test pattern.例文帳に追加

テストパターンなどの静止画像の場合のみならず、動画像の場合であっても自動的に確実にサンプリング位相調整のできる回路を提供すること。 - 特許庁

The above problem is solved by providing a voltage regulation calculating part 71 for calculating a voltage regulation based on the detection results of a voltmeter 11, a pattern setting part 72 for setting a phase control pattern based on the calculation results, and a switch control part 73 for conducting the phase control by turning on and off a switch 12 according to setting of the pattern setting part 72.例文帳に追加

電圧計１１の検出結果に基づいて電圧変動率を算出する電圧変動率算出部７１と、この算出結果に基づいて位相制御パターンを設定するパターン設定部７２と、パターン設定部７２の設定に沿ってスイッチ１２をオン／オフすることで位相制御を行うスイッチ制御部７３とを備えることによって、上記課題は解決される。 - 特許庁

In a phase shift mask having the translucent film 12 formed on a transparent glass substrate 10, when the thickness of the translucent film 12 is optimized to the pattern pitch in a fine pattern region 14, subpeaks generated by adjoining aperture may overlap in an isolated pattern region 16.例文帳に追加

透明なガラス基板１０上に半透過膜１２が形成された位相シフトマスクで、微細パターン領域１４におけるパターンのピッチに対して最適となるように半透過膜１２の厚さを調整すると、孤立パターン領域１６において、隣接する開口部によるサブピークが重なり合うことがある。 - 特許庁

Then the buffer areas, to which a signal pattern for phase lock loop, automatic gain adjustment at data reproduction and for automatic adjustment of a light source power and a signal pattern used for detecting a synchronization pattern, production of a recovered clock and end of block reproduction are recorded, are used for various purposes.例文帳に追加

そして、バッファエリアについては、データ再生時の位相同期ループや自動利得調整、光源パワーの自動調整用の信号パターンや、同期パターン、再生クロックの生成、ブロック再生終了の検出等に用いる信号パターンを記録することで各種の目的に利用できるようにした。 - 特許庁

As the driving pattern, there are; a type A of basic pattern which includes a bit arrangement which instructs a liquid crystal element to turn on or turn off for one gradation level for each subfield; and types B, C of shift pattern which shift the phase of the bit arrangement with respect to the type A in units 'six' which means the number of the subfields.例文帳に追加

駆動パターンには、一の階調レベルに対しサブフィールド毎に液晶素子をオン駆動またはオフ駆動を指示するビット配列からなる基本パターンのタイプＡと、当該タイプＡに対しサブフィールド数の「６」を単位としてビット配列の位相をシフトさせたシフトパターンのタイプＢ、Ｃとがある。 - 特許庁

The mask includes a mask pattern formed in front side of a transparent panel following the layout (layout) of a slanted line pattern extending in the direction turned in a certain direction from the axis of a rectangular coordinate system, and a phase grating of lines (line) extending at the back side of the panel in parallel with the extending mask pattern.例文帳に追加

透明基板の前面に直交座標系の軸から一定方向に回転した方向に延びる斜線パターンのレイアウト（layout）に従って形成されたマスクパターンと、基板の背面にマスクパターンの延長方向に並ぶ方向に延びたライン（line）形態の位相格子と、を含むマスクを提供する。 - 特許庁

The photomask is provided with: first and second transparent substrates 1, 2; a light shielding pattern 3 embedded in a trench 8 formed on one of the surfaces of the first transparent substrate 1; and a phase shift pattern 4 composed of a trench pattern formed on one surface of the second transparent substrate 2.例文帳に追加

フォトマスクは、第１と第２透明基板１，２と、第１透明基板１の一方の表面に形成されたトレンチ８内に埋設される遮光パターン３と、第２透明基板２の一方の表面に形成されたトレンチパターンで構成される位相シフトパターン４とを備える。 - 特許庁

In the photodiode group 5 for origin position detection, a photodiode 5z for phase z and a photodiode 5z' for phase z' are arrayed according to an M-series array pattern, and in the reflecting grating group 8 for origin position detection, a reflecting grating 81 and a non-reflecting grating 82 are arrayed following the same M-series array pattern.例文帳に追加

原点位置検出用のホトダイオード群５はＭ系列の配列パターンに従ってＺ相用ホトダイオード５ＺおよびＺ’相用ホトダイオード５Ｚ’が配列され、原点位置検出用の反射格子群８は、同じくＭ系列の配列パターン従って反射格子８１および非反射格子８２が配列されている。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask which need not form a superfine pattern, suppresses a sub peak of light intensity exerting adverse influence on image formation at the time of exposure and has a light shielding pattern of lowered transmissivity in an outside region of an element region where multiple exposure is applied and to provide a manufacturing method of the halftone phase shift mask.例文帳に追加

超微細なパターンの形成を必要とせず、露光時の像形成に悪影響を及ぼす光強度のサブピークを抑え、かつ、素子領域の外側の多重露光される領域での透過率を下げた遮光パターンを有するハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

The coma aberration of the optical system, shading of the light flux in the optical system and inclination of the main light beam of the illumination light with respect to the normal to a phase pattern forming plane W are inspected, based on the change in the asymmetry of an image corresponding to the edge of the phase pattern which is respectively detected in a defocused condition in the image detecting means.例文帳に追加

像検出手段において各デフォーカス状態で検出された位相パターンのエッジに対応する像の非対称性の変化に基づいて、光学系のコマ収差、光学系における光束ケラレ、および位相パターンの形成面（Ｗ）の法線に対する照明光の主光線の傾きを検査する。 - 特許庁

A stepping motor control circuit includes a pattern setting register 20 which stores an excitation pattern data group 201, which outputs an excitation pulse for 1-2-phase driving the stepping motor when reading every other one with one skip, and which is arrayed to output an excitation pulse for 2-2-phase driving when reading every three with three skips.例文帳に追加

パターン設定レジスタ２０には、励磁パターンデータ群２０１が記憶され、この励磁パターンデータ群２０１は、１スキップで１つおきに読み出した場合、ステッピングモータを１−２相駆動する励磁パルスが出力され、３スキップで３つおきに読み出した場合、２−２相駆動する励磁パルスが出力されるように配列されている。 - 特許庁

The halftone material film 11 is then dry-etched through the resist pattern 21a as a mask, the resist pattern 21a is removed with a special removing solution and a separately fabricated light shielding frame 31 is stuck to a prescribed position of the resulting halftone type phase shift mask of an intermediate stage to obtain the objective halftone type phase shift mask 100.例文帳に追加

レジストパターン２１ａをマスクにして、ドライエッチングにてハーフトーン材料膜１１をエッチング処理し、レジストパターン２１ａを専用の剥離液で剥離し、中間工程のハーフトーン型位相シフトマスクを作製し、別途作製した遮光性枠３１を所定位置に貼付し、ハーフトーン型位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁

The calculating means 12 analyzes output data corrected, so that the null interference fringe pattern can be observed at the photographing means 11 after the phase control element 9 aligns the phase distribution of the reference wave with the surface 7a to be measured.例文帳に追加

上記演算手段１２は、上記位相制御素子９により参照波の位相分布を被測定面７ａに合わせ、撮像手段１１でヌルの干渉縞を観測できるように補正した出力データを解析する。 - 特許庁

When phase-modulating reference light, a specific pixel array pattern formed of two or more pixels by the number of horizontal pixels M×the number of vertical pixels N (M, N are natural numbers≥1, M≠N) is used as a random phase unit.例文帳に追加

参照光を位相変調するのにあたり、水平画素数Ｍ×垂直画素数Ｎ（Ｍ，Ｎは１以上の自然数、Ｍ≠Ｎ）による２以上の画素により形成される特定の画素配列パターンをランダム位相単位とする。 - 特許庁

Using an intensity value of light of each selected pixel and an intensity value of a nearby pixel thereof and supposing that a DC component, an alternate current amplitude, and a phase of an interference pattern waveform contained in each pixel are equal, the phase is calculated, and a height is calculated.例文帳に追加

選択された各画素の光の強度値とその近傍の画素の強度値を利用し、各画素に含まれる干渉縞波形の直流成分、交流振幅、および位相が等しいと仮定、位相を求め、高さを求める。 - 特許庁

On an optical information recording medium, information is recorded by an interference pattern due to an interference between information light carrying the information and a reference light for recording, in which a phase of the light is spatially modulated by a phase space modulator.例文帳に追加

光情報記録媒体には、情報を担持した情報光と、位相空間変調器によって光の位相が空間的に変調された記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁

Provided that, in the formula (1), ξ is a value indicating a position in a radius direction of the lens in one period of the diffraction pattern, and ϕ(ξ) indicates a value (radian) of a phase shift amount of light passing the position ξ from the phase of light passing through a reference plane.例文帳に追加

但し、ξは、回折パターンの１周期におけるレンズの半径方向の位置を示す値であり、φ（ξ）は、基準面を通過した光の位相に対して、ξの位置を通過する光の位相のずれ量の値（ラジアン）を示す。 - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask with a light shielding frame disposed on a halftone material film around an effective region including a main pattern without adding a photomask producing step and to provide a method for producing the phase shifting mask.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程を増やさないで、メインパターンを含む有効領域周辺のハーフトーン材料膜上に遮光性の枠を設けたハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then an auxiliary channel beam output in a form of covering an antenna pattern of the main antenna 1 is obtained by applying weighting of amplitude and phase or only the phase to the aperture separation signals Xl, Xr, Xu, Xd and applying beam composition to the result.例文帳に追加

そして、開口分割信号Ｘｌ、Ｘｒ、Ｘｕ、Ｘｄに、振幅および位相、または位相のみの重み付けを施してビーム合成することにより、主アンテナ１のアンテナパターンを覆う形状の補助チャネルビーム出力を得る。 - 特許庁

The crystallization equipment comprises an optical system (2) for illuminating a phase shifter (1) of a one dimensional pattern and forms a crystallization semiconductor film by irradiating a semiconductor film (4) with light having specified light intensity distribution through the phase shifter.例文帳に追加

一次元パターンの位相シフター（１）を照明する照明光学系（２）を備え、位相シフターを介して所定の光強度分布を有する光を半導体膜（４）照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

In the cross-sectional structure of the phase shift mask 10, the pattern region 1 and dummy region 3 consist only a transparent substrate 5, while other region consists of the transparent substrate and a translucent film 6 which inverts the phase of light by 180°.例文帳に追加

位相シフトマスク１０は、その断面構造において、パターン領域１とダミー領域３は、透明基板５のみから成り、それ以外の領域は、透明基板５と、光の位相を１８０度反転させる半透明膜６とから成る。 - 特許庁

A direction angle of an individual pattern light forming the projected pattern light is calculated by the computer 3, based on an intensity value of the projected pattern light detected from the picked-up image, an intensity distribution is divided, a depth distance is calculated based on a phase value in each measuring point of a divided pattern, and the three-dimensional information is thereby obtained precisely.例文帳に追加

コンピュータ３により、撮像された画像から検出された投影パターン光の強度値から投影パターン光を形成している個別パターン光の方向角が算出されるとともに強度分布が分割され、分割されたパターンの各計測点における位相値から奥行き距離が算出されるので、精度の高い三次元情報を得ることができる。 - 特許庁

The block chain B has high affinity to the surface of the guide pattern 702 and the block chain B is selectively brought into contact with the surface of the guide pattern 702 when the block copolymer thin film 703 is separated in micro phase.例文帳に追加

また、ブロック鎖Ｂは、ガイドパターン７０２の表面への親和性が高く、ブロック共重合体薄膜７０３をミクロ相分離させた場合、ブロック鎖Ｂが選択的にガイドパターン７０２の表面に接触するものとする。 - 特許庁

Alternately, a radio frequency signal feature extraction means is used which has a signal feature pattern output means which outputs an instantaneous frequency characteristics from the output of the phase detection means as a radio frequency signal feature pattern.例文帳に追加

または、位相検出手段の出力から瞬時周波数特性を無線周波信号特徴パターンとして出力する信号特徴パターン出力手段を有する無線周波信号特徴抽出手段を使用する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transmission type phase shift photomask which efficiently manufactures the high-quality photomask which is free of roughness in an etching surface, is improved in the overlap accuracy of a resist pattern and a light shielding layer pattern and has excellent resolution property.例文帳に追加

エッチング面に荒れがなく、レジストパターンと遮光層パターンの重ね合わせ精度が向上した、解像性に優れた高品質なフォトマスクを効率よく製造する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a mask by which a pattern transferred onto a wafer can be prevented from being significantly deformed when a phase shift mask and oblique incidence lighting are combined with the mask having an asymmetrical layout to perform exposure.例文帳に追加

非対称なレイアウトのマスクに位相シフトマスクと斜入射照明を組み合わせて露光を行う場合に、ウエハ上に転写されるパターンが大きく変形することを防止できるパターン形成方法及びマスクを提供する。 - 特許庁

This lithography device is provided with a supporting structure configured to hold a phase shift mask configured so that any unpolarized radiation beam can be pattern-formed according to a desired pattern and a substrate table configured to hold a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、所望のパターンに従って非偏光放射のビームをパターン形成するように構成された位相シフト・マスクを保持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルとを備えている。 - 特許庁

In an optical processing machine for optically processing a matter to be processed optically by illuminating a pattern on a mask with a luminous flux from a light source means and projecting the pattern on the mask onto the matter to be processed with a projection lens, the mask utilizes phase shift.例文帳に追加

光源手段からの光束でマスク上のパターンを照明し、該マスク上のパターンを投影レンズで加工物上に投影して該加工物を光加工する光加工機において該マスクは位相シフトを利用していること。 - 特許庁

Alternatively, the identification device uses a radio frequency signal feature extracting means having a signal feature pattern output means for outputting an instantaneous frequency characteristic, as the radio frequency signal feature pattern, based on an output of a phase detecting means.例文帳に追加

または、位相検出手段の出力から瞬時周波数特性を無線周波信号特徴パターンとして出力する信号特徴パターン出力手段を有する無線周波信号特徴抽出手段を使用する。 - 特許庁