LEVENSONとは 意味・読み方・使い方

A method for manufacturing the Levenson phase shift mask includes a (a) step and a (b) step.例文帳に追加

レベンソンマスクの製造方法は、（ａ）工程と（ｂ）工程とを具備している。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a levenson type mask forming a fine pattern.例文帳に追加

微細なパターンを形成できるレベンソン型マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To ameliorate the deviation in position and the degradation in contrast in exposure patterns of a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスクの露光パターンに位置ずれ、コントラスト低下の改善を図る。 - 特許庁

To provide a Levenson phase shift mask capable of restraining properly light from a side wall of an engraved part of a substrate in the Levenson phase shift mask, capable of improving resolution and a focal depth, and capable of enhancing a transfer characteristic.例文帳に追加

レベンソンマスクにおける基板の掘り込み部の側壁からの光を適切に抑制することができ、解像度や焦点深度を改善し、転写特性を向上させることができるレベンソンマスクを提供する。 - 特許庁

Levenson masks 10 and 20 have patterns in which shifter parts 121,... and non-shifter parts 131,... are arranged opposite to each other across shading parts 111,....例文帳に追加

レベンソンマスク１０，２０は、遮光部１１１，…を挟んでシフタ部１２１，…及び非シフタ部１３１，…が対向配置されたパターンを有する。 - 特許庁

The phase difference abnormality and transmittance difference abnormality are detected, base on the relation to correct the device pattern of the Levenson phase shift mask 4.例文帳に追加

そして、この関係に基づいて、位相差異常及び透過率差異常を検出し、レベンソン位相シフトマスク４のデバイスパターンを補正する。 - 特許庁

Further, the Levenson masks 10 and 20 are formed in different patterns and used for a plurality of times of double exposure.例文帳に追加

また、レベンソンマスク１０，２０は、それぞれ異なるパターンが形成され、複数回の重ね露光に使われる。 - 特許庁