selective formationとは 意味・読み方・使い方

To provide compositions suitable for selective filling or selective coating film formation of a fold of a folded balloon.例文帳に追加

折り畳まれたバルーンの折り目の選択的な充填または選択的な被膜に好適な組成物の提供。 - 特許庁

SILVER/SILVER HALIDE REFERENCE ELECTRODE, ITS FORMATION AND ION-SELECTIVE ELECTRODE例文帳に追加

銀／ハロゲン化銀参照電極、その製造方法およびイオン選択性電極 - 特許庁

SELECTIVE SEMISPHERICAL SILICON GRAIN CHARGE STORING ELECTRODE FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の選択的半球形シリコングレ—ン電荷貯蔵電極形成方法 - 特許庁

FORMING METHOD FOR THICK OXIDE IN TRENCH BOTTOM BY SELECTIVE OXIDE STICKING FORMATION例文帳に追加

選択的酸化物付着形成によるトレンチ底部における厚い酸化物の形成 - 特許庁

SELECTIVE METAL LAYER FORMING METHOD, FORMATION OF CAPACITOR BY USE THEREOF, AND CONTACT HOLE FILLING METHOD例文帳に追加

選択的な金属層形成方法とこれを用いたキャパシタ形成およびコンタクトホ—ル埋立方法 - 特許庁

FILM FORMATION METHOD USING CHARGED PARTICLE BEAM, SELECTIVE ETCHING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線を用いた成膜方法と選択エッチング方法および荷電粒子線装置 - 特許庁

To provide a selective semispherical silicon grain(HSG) charge storing electrode formation of semiconductor device, capable of satisfactorily securing capacitor effective surface area by attaining a specific grain size when forming a selective HSG.例文帳に追加

選択的ＨＳＧ形成時に所望のグレーンサイズを得ることにより、キャパシタ有効表面積を充分確保することができる半導体装置の選択的半球形シリコングレーン電荷貯蔵電極形成方法を提供する。 - 特許庁

The medium for determining authenticity has a light selective reflection layer having such light selective reflectivity that either of left-handed circularly polarized light or right-handed circularly polarized light in incident light beams is reflected, a hologram formation layer and a reflection layer in this order.例文帳に追加

入射光のうち左円偏光および右円偏光のいずれか一方を反射する光選択反射性を有する光選択反射層、ホログラム形成層および反射層をこの順に有する真偽判定用媒体。 - 特許庁