sulfonium baseとは 意味・読み方・使い方

In a resist composition using a base resin based on a siloxane-based or silsesquioxane-based polymer compound containing silicon, a specific sulfonium compound is used as a quencher in place of a nitrogen base compound.例文帳に追加

シロキサン系又はシルセスキオキサン系等のケイ素含有高分子化合物を主成分とする基材樹脂を用いたレジスト組成物において、窒素系化合物の代わりに、特定のスルホニウム化合物をクエンチャーとして用いる。 - 特許庁

The insulation coating film 11 is formed by electropainting the battery case 6 with an electrolytically active electrodeposition paint composition with epoxy resin as a skeleton, and having as base resin resin containing a sulfonium group as a hydrated functional group.例文帳に追加

絶縁被膜１１は、エポキシ樹脂を骨格とし、スルホニウム基を水和官能基として含有する樹脂を基体樹脂とする電解活性型電着塗料組成物を電池ケース６に電着塗装することにより形成される。 - 特許庁

The resist composition contains: a base material component (A) of which the solubility in an alkali developing solution varies by an action of an acid; a fluoro-alkyl-substituted sulfonium salt type photo-acid generator (B); and a compound (D) expressed by general formula (d1) or general formula (d2).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、フッ素アルキル置換スルホニウム塩型光酸発生剤（Ｂ）、一般式（ｄ１）又は一般式（ｄ２）で表される化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The antireflection film including a low refractive index layer on a transparent film base is characterized in that the low refractive index layer includes at least: alkoxysilane compound (a) having epoxy group; sulfonium salt acid generator (b); silica fine particle (c) having outer shell layer and porous or hollow interior; ionizing radiation curable resin (d); and photo-radical polymerization initiator (e).例文帳に追加

透明フィルム基材上に低屈折率層を含む反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層が少なくとも（ａ）エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子、（ｄ）電離放射線硬化型樹脂、（ｅ）光ラジカル重合開始剤、からなることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁