tetrapropylammoniumとは 意味・読み方・使い方

This porous substrate characterized by comprising a zeolite which has a TPA (tetrapropylammonium ion)/SiO2 molar ratio of 0.015 to 0.08 and has perfectly been crystallized, or a zeolite which has a TPA (tetrapropylammonium ion)/SiO2 molar ratio of 0.02 to 0.12 and is being crystallized.例文帳に追加

ＴＰＡ（テトラプロピルアンモニウムイオン）／ＳｉＯ_2のモル比が、０．０１５以上０．０８以下であり、且つ完全に結晶化したゼオライト又は、ＴＰＡ（テトラプロピルアンモニウムイオン）／ＳｉＯ_2のモル比が、０．０２以上０．１２以下であり、且つ結晶化途上のゼオライトからなる多孔質基体である。 - 特許庁

When ammonium fluoride is used as the component (a), (e) the salt of hydrofluoric acid and a specified quaternary ammonium hydroxide (such as tetramethylammonium hydroxide or tetrapropylammonium hydroxide) and/or an alkanolamine may further be added.例文帳に追加

（ａ）成分としてフッ化アンモニウムを用いた場合、さらに（ｅ）フッ化水素酸と、特定の第４級アンモニウム水酸化物（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、等）および／またはアルカノールアミンとの塩を配合してもよい。 - 特許庁

The photoresist stripping solution comprises (a) a quaternary ammonium hydroxide such as tetrabutylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, methyltributylammonium hydroxide or methyltripropylammonium hydroxide, (b) a water-soluble amine, (c) water, (d) an anticorrosive and (e) a water-soluble organic solvent, wherein the mass ratio of the component (a) to the component (b) is 1:3 to 1:10.例文帳に追加

（ａ）テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリブチルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリプロピルアンモニウムヒドロキシド等の第４級アンモニウム水酸化物、（ｂ）水溶性アミン、（ｃ）水、（ｄ）防食剤、および（ｅ）水溶性有機溶媒を含有し、（ａ）成分：（ｂ）成分＝１：３〜１：１０（質量比）であるホトレジスト用剥離液。 - 特許庁