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極端紫外線の英語
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英訳・英語 extreme ultraviolet radiation
「極端紫外線」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 84件
極端紫外線用レジスト組成物例文帳に追加
RESIST COMPOSITION FOR EXTREME ULTRAVIOLET - 特許庁
極端紫外線光源装置例文帳に追加
極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及びリソグラフィ方法例文帳に追加
EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK, MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK AND LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁
極端紫外線光学鏡筒、極端紫外線反射光学素子、露光装置及び極端紫外線光学系の検査方法例文帳に追加
METHOD OF INSPECTING EXTREME ULTRAVIOLET OPTICAL BARREL, EXTREME ULTRAVIOLET REFLECTION OPTICAL ELEMENT, EXPOSURE SYSTEM, AND EXTREME ULTRAVIOLET OPTICAL SYSTEM - 特許庁
極端紫外線露光用マスク及びその製造方法並びに極端紫外線の露光方法例文帳に追加
MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE, AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND EXPOSURE METHOD OF EXTREME ULTRAVIOLET RAYS - 特許庁
反射度を高めた多層極端紫外線ミラー例文帳に追加
MULTILAYER EXTREME ULTRAVIOLET MIRROR HAVING IMPROVED REFLECTANCE - 特許庁
極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及び極端紫外線露光用マスクを用いたパターン転写方法例文帳に追加
MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, METHOD OF MANUFACTURING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE - 特許庁
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「極端紫外線」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 84件
極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク例文帳に追加
EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK, AND MASK BLANK - 特許庁
極端紫外線顕微鏡及び検査方法例文帳に追加
EXTREME-ULTRAVIOLET RAY MICROSCOPE AND TESTING METHOD - 特許庁
極端紫外線光学系及び露光装置例文帳に追加
EXTREME ULTRAVIOLET RAY OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁
極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク及びその製造方法並びにパターン転写方法例文帳に追加
MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁
極端紫外線露光用マスクブランク及び極端紫外線露光用マスク並びにパターン転写方法例文帳に追加
MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁
フレア(極端紫外線の散乱)の悪影響を低減し得る極端紫外線光学鏡筒等を提供する。例文帳に追加
To provide an extreme ultraviolet optical barrel or the like which is capable of reducing the adverse effect of a flare (scattering of extreme ultraviolet). - 特許庁
極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法例文帳に追加
CLEANING METHOD OF OPTICS SYSTEM FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY - 特許庁
リソグラフィ装置は、極端紫外線放射を生成する放射源を含む。例文帳に追加
The lithography apparatus includes a radiation source which generates extreme ultraviolet radiation. - 特許庁
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