「極端紫外線」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

反射度を高めた多層極端紫外線ミラー例文帳に追加

MULTILAYER EXTREME ULTRAVIOLET MIRROR HAVING IMPROVED REFLECTANCE - 特許庁

極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及び極端紫外線露光用マスクを用いたパターン転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, METHOD OF MANUFACTURING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE - 特許庁

極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK, AND MASK BLANK - 特許庁

極端紫外線顕微鏡及び検査方法例文帳に追加

EXTREME-ULTRAVIOLET RAY MICROSCOPE AND TESTING METHOD - 特許庁

極端紫外線光学系及び露光装置例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAY OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスク及びその製造方法並びにパターン転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

極端紫外線露光用マスクブランク及び極端紫外線露光用マスク並びにパターン転写方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

フレア（極端紫外線の散乱）の悪影響を低減し得る極端紫外線光学鏡筒等を提供する。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet optical barrel or the like which is capable of reducing the adverse effect of a flare (scattering of extreme ultraviolet). - 特許庁

極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法例文帳に追加

CLEANING METHOD OF OPTICS SYSTEM FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY - 特許庁

リソグラフィ装置は、極端紫外線放射を生成する放射源を含む。例文帳に追加

The lithography apparatus includes a radiation source which generates extreme ultraviolet radiation. - 特許庁

極端紫外線用反射型フォトマスク及び半導体素子の製造方法例文帳に追加

REFLECTIVE PHOTOMASK FOR EXTREME-ULTRAVIOLET RAY AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

波長１３． ５ｎｍの極端紫外線の放射輝度を上げること。例文帳に追加

To heighten the radiation luminance of extreme ultra-violet rays whose wavelength is 13.5 nm. - 特許庁

シリカ・チタニア極端紫外線光学素子の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING SILICA AND TITANIA EXTREME ULTRAVIOLET RAY OPTICAL ELEMENT - 特許庁

極端紫外線露光用マスク、マスクブランク、及び露光方法例文帳に追加

MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE, MASK BLANK, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

高解像度の検査を可能とする極端紫外線顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide an extreme-ultraviolet ray microscope which can perform a high resolution test. - 特許庁

極端紫外線露光用化学増幅型フォトレジスト組成物例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXPOSURE TO EXTREME-ULTRAVIOLET RAY - 特許庁

光学素子、光学素子の製造方法、及び極端紫外線露光装置例文帳に追加

OPTICAL ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, AND EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE DEVICE - 特許庁

放射ソースは、極端紫外線を生成するように構成されている。例文帳に追加

A radiation source is configured so as to generate extreme ultraviolet radiation. - 特許庁

極端紫外線用の光学素子及びこれを用いた投影露光装置例文帳に追加

OPTICAL ELEMENT FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY, AND PROJECTION ALIGNER USING THE SAME - 特許庁

極端紫外線露光装置用の光学素子の保管・設置方法例文帳に追加

STORING/INSTALLATION METHOD OF OPTICAL ELEMENT FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE DEVICE - 特許庁

放射源は、極端紫外線を生成するように構成される。例文帳に追加

A radiation source is configured to produce extreme ultraviolet radiation. - 特許庁

極端紫外線露光装置に用いられる光学素子の劣化抑制方法例文帳に追加

METHOD OF SUPPRESSING DEGRADATION OF OPTICAL ELEMENT USED FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE DEVICE - 特許庁

放射源は、極端紫外線を生成するように構成されている。例文帳に追加

The radiation source is configured to generate extreme ultraviolet rays. - 特許庁

コレクタの損傷を低減できる極端紫外線放射装置の実現。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet radiation device capable of reducing the damage of a collector. - 特許庁

極端紫外線露光用マスク、その製造法、およびそれを用いた半導体集積回路製造方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE MASK, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT EMPLOYING THE SAME - 特許庁

極端紫外線露光用マスクおよびそれを用いた半導体集積回路製造方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAY EXPOSURE MASK AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT EMPLOYING THE SAME - 特許庁

極端紫外線露光用マスクブランク及びマスク並びにパターン転写方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK BLANK, MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクの欠陥を検査する装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a device for inspecting a defect in a mask blank for extreme UV ray lithography. - 特許庁

極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク並びにパターン転写方法例文帳に追加

EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK AND MASK BLANK, AND PATTERN TRANSFERRING METHOD - 特許庁

反射型フォトマスクブランク、反射型フォトマスク及び極端紫外線の露光方法例文帳に追加

REFLECTIVE PHOTO-MASK BLANK, REFLECTIVE PHOTO-MASK AND EXPOSURE METHOD FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAY - 特許庁

波面収差測定装置用光源装置、波面収差測定装置及び極端紫外線露光装置例文帳に追加

WAVE ABERRATION MEASURING APPARATUS, LIGHT SOURCE DEVICE THEREFOR, AND EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE DEVICE - 特許庁

極端紫外線（ＥＵＶ）マスクを検査するシステムおよび方法を提供する。例文帳に追加

To provide a system and method for inspecting an extreme ultraviolet (EUV) mask. - 特許庁

透過型スペクトル純度フィルタは、極端紫外線を透過させるように構成されている。例文帳に追加

A transmissive spectral purity filter is configured to transmit extreme ultraviolet radiation. - 特許庁

ＴａとＮを含有する材料からなる極端紫外線吸収膜を有する基板を用い、前記極端紫外線吸収膜に対して炭素（Ｃ）を含むガスを用いたプラズマエッチングを行うことにより、前記極端紫外線吸収膜にパターンを形成する工程を有する極端紫外線露光用マスクの製造方法において、前記工程でのプラズマエッチングの終点を高精度に検出する。例文帳に追加

To accurately detect an end point of plasma etching in a process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film, in a method of manufacturing a mask for extreme ultraviolet exposure including the process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film by performing plasma etching using a gas containing carbon (C) to the extreme ultraviolet absorption film using a substrate having the extreme ultraviolet absorption film formed of a material containing Ta and N. - 特許庁

本発明の一態様では、極端紫外線放射を発生させるように構成された放射源が提供される。例文帳に追加

To provide a radiation source configured to generate extreme ultraviolet radiation. - 特許庁

反射型マスクブランク、反射型マスク及び極端紫外線の露光方法例文帳に追加

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND EXPOSURE METHOD OF EXTREMELY SHORT ULTRAVIOLET RAY - 特許庁

反射型ＥＵＶマスクの製造困難性を解消するために、ステンシル構造を有するＥＵＶ露光のための極端紫外線露光用マスク並びにそれを用いた極端紫外線の露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask for extreme ultraviolet rays exposure used for the EUV exposure which has stencil structure so as to solve the manufacturing difficulty of a reflection type EUV mask, and to provide an exposure method of extreme ultraviolet rays by using it. - 特許庁

ｉ線、ｇ線等の紫外線のみならず、可視光線、ＫｒＦ等のエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線（ＥＵＶ）、Ｘ線、イオンビーム等の放射線にも感応する感放射線性レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resist composition that responds not only to ultraviolet rays, such as I-line or g-line, but also to visible rays, excimer laser beam like that of KrF, electron beams, extreme-ultraviolet radiation (EUV), X-rays, and radiation, such as ion beams. - 特許庁

シリカ及びチタニアを含むガラスから形成される超低膨脹極端紫外線素子を製造する新規な方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an ultra-low thermal expansion extreme ultraviolet ray element formed from glass containing silica and titania. - 特許庁

ＥＵＶ（極端紫外線）リソグラフィ装置において、照明システムは、マルチファセットフィールドミラーとマルチファセット瞳ミラーとを含む。例文帳に追加

In an EUV (extreme ultraviolet) lithographic apparatus, an illumination system includes a multifaceted field mirror and a multifaceted pupil mirror. - 特許庁

Ｓｎ堆積物のエッチング速度を高めることができる極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning method of an optics system for extreme ultraviolet lithography, wherein the speed of etching of a Sn deposit can be increased. - 特許庁

極端紫外線その他の対象電磁波に対して長期間にわたって良好な反射特性を示す光学素子の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing an optical element which indicates excellent reflection characteristics for extreme ultraviolet rays and other target electromagnetic waves over a long period. - 特許庁

極端紫外線用の反射鏡の多層膜構成を簡略化し、製作効率の向上および製造コストの低減を図る。例文帳に追加

To simplify the multilayer film composition of a reflection mirror which is used for extreme ultraviolet rays, and to improve its production efficiency and reduce its production cost. - 特許庁

極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィにおいて使用される斜入射集光器（ＧＩＣ）用の冷却システム及び冷却方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cooling system and a cooling method for a grazing-incidence collector (GIC) used in extreme ultraviolet (EUV) lithography. - 特許庁

極端紫外線（ＥＵＶ）光源装置の部品を容易に交換することのできるＥＵＶ光源システムを提供する。例文帳に追加

To provide an EUV light source system that allows ready exchange of parts of an extreme ultraviolet (EUV) light source apparatus. - 特許庁