「極端紫外線」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

極端紫外線を吸収する薄膜の部分と、前記紫外線を透過するために前記薄膜に開口した透過孔の部分からなり、前記極端紫外線を吸収する薄膜の部分を透過する透過光の、入射光に対する透過率をＴ、前記透過孔を透過する透過光の、入射光に対する透過率をＴ０とするとき、下式で表されるＤが３以上であることを特徴とする。例文帳に追加

The mask for extreme ultraviolet rays exposure comprises a portion of a thin film which absorbs extreme ultraviolet rays, and a portion of light transmission holes which are formed by carrying out the opening in the above thin film so as to transmit the ultraviolet rays. - 特許庁

プラズマ源としてＳｎを用いる極端紫外線リソグラフィーのための光学系をクリーニングするにあたり、ＨＣｌ／Ｃｌ_2混合ガスを前記光学系に供給することを特徴とする極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法。例文帳に追加

The cleaning method of an optics system for an extreme ultraviolet lithography is characterized by supplying HCl/Cl_2 mixture gas to the optics system in cleaning the optics system for the extreme ultraviolet lithography using Sn as a plasma source. - 特許庁

デバイス１は、放射源ＳＯから放出される放射のドーズ量またはパルスエネルギーといった量を測定するセンサ２、極端紫外線を放出する放射源から放出されて入射する粒子からセンサを保護するスクリーン４、および放射源により放出された極端紫外線を、スクリーンを通り越してセンサへ向かうよう向け直すミラー６を備える。例文帳に追加

The device 1 includes the sensor 2, a screen 4 and a mirror 6, wherein the sensor measures an amounts such as a dosage or pulse energy of the radiation emitted from a radiation source SO, the screen protects the sensor from the incoming particles emitted from the radiation source which emits extreme ultraviolet rays, and the mirror redirects the extreme ultraviolet rays emitted by the radiation source to the sensor passing over the screen. - 特許庁

極端紫外線放射源は、放射源材料を所定の軌道に沿ってプラズマ開始サイトへ送るように構成された放射源材料デリバリシステムを含む。例文帳に追加

An extreme ultraviolet radiation source includes a radiation source material delivery system configured to transmit a radiation source material to a plasma starting site along a predetermined orbit. - 特許庁

ここで、保護層３０中の水素は、強い還元性を示すため、水や酸素の存在によって極端紫外線下で進行する保護層３０やその下側の多層膜２０の酸化反応を抑制することができる。例文帳に追加

Since hydrogen in the protection layer 30 shows a strong reducing property, an oxidation reaction of the protection layer 30 and a multilayer film 20 below it which progresses under the extreme ultraviolet rays due to the existence of water and oxygen can be suppressed. - 特許庁

極端紫外線の生成又は高解像度リソグラフィのための放射源は、燃料が放射ビームと接触してＥＵＶ放射を生成するプラズマ形成部位を含む。例文帳に追加

The radiation source for producing EUV or lithography of high resolution includes a plasma forming portion on which a fuel contacts with a radiation beam to produce the EUV radiation. - 特許庁

蓋１２を閉じたときに導電体１１Ａと電極端子板１２Ｃが接触することによって導通状態となり紫外発光ダイオード１２Ｄから紫外線が照射される。例文帳に追加

When the lid 12 is closed, a conductor 11A and an electrode terminal plate 12C come into contact with each other into a conduction state, so that the ultraviolet light emitting diode 12D emits the ultraviolet light. - 特許庁

基板と、基板上に形成された高反射部と、高反射部上に形成された低反射部と、を備え、低反射部は、Ｔａ（タンタル）とＲｕ（ルテニウム）と、を有することを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。例文帳に追加

The mask blank for the extreme ultraviolet ray exposure includes a substrate, a high reflective part formed on the substrate and a low reflective part formed on the high reflective part, wherein the low reflective part has Ta (tantalum) and Ru (ruthenium). - 特許庁

極端紫外線に加えて生成し、コレクタに浸入する汚染物の量を低減し、バッファガスへの熱負荷も低減する放射源を含むリソグラフィ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lithography apparatus including a radiation source which reduces heat load to buffer gas as well as an amount of infiltration into its collector of the contamination being generated accompanying extreme ultraviolet generation. - 特許庁

投影ビームに極端紫外線（ＥＵＶ）を使用するリソグラフ投影装置用の多重光学層ミラーを含んだ、より長い使用寿命の光学素子を提供する。例文帳に追加

To provide an optical element having a long life including a multiple optical layer mirror for a lithography projecting apparatus employing extreme ultraviolet rays (EUV) as the projection beam. - 特許庁

スペクトル純度フィルタは、極端紫外線を透過させ、かつ第２のタイプの放射の透過を抑制するために複数のアパーチャを有するフィルタ部分を含む。例文帳に追加

The spectral purity filter includes a filter part having a plurality of apertures to transmit extreme ultraviolet radiation and to suppress transmission of a second type of radiation. - 特許庁

光源光の分離及びこれに伴う熱負荷を除去できる極端紫外線用の露光装置、及びデバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide exposure equipment for extreme UV-rays in which the light source light can be separated and heat load incident to the light source light can be removed, and to provide a method for fabricating a device. - 特許庁

極端紫外線露光装置用光学素子を清浄媒体中に保管・設置することで、光学素子の性能の劣化抑制、性能回復を行う方法。例文帳に追加

The optical element for an extreme ultraviolet ray exposure device is stored/installed in a clean medium, to suppress degradation in performance of the optical element and to recover performance. - 特許庁

光学素子１００は、露光光である例えば極端紫外線を反射する多層膜１０３と、多層膜１０３の最表層に設けられて光学素子１００の反射特性を調整する反射調整層１０５とを備える。例文帳に追加

The optical element 100 is provided with: a multilayer film 103 for reflecting, for example, extreme ultraviolet light being exposing light; and a reflection adjustment layer 105 which is arranged on the outermost surface layer of the multilayer film 103 and used for adjusting the reflection characteristics of the optical element 100. - 特許庁

露光装置１０は、光源装置５０から照明光学系６０にかけての光路上に、分離膜９１を設けることにより、この分離膜９１に対して透過性を有する極端紫外線を選択的に照明光学系６０側へと導くことができる。例文帳に追加

The exposure equipment 10 can selectively lead extreme UV-rays exhibiting transparency to a separation film 91 to the illumination optical system 60 by providing the separation film 91 on the optical path from a light source apparatus 50 to the illumination optical system 60. - 特許庁

前記多層膜２と前記キャッピング膜３からなる部分の極端紫外線に対する反射率が、前記キャッピング膜３の２ｎｍから４ｎｍの範囲の厚さの変化に対して、１％以内の変化量であることを特徴とする。例文帳に追加

The reflection factor of a part comprised of the multilayer film 2 and the capping film 3 to the extreme ultraviolet ray is within a change quantity of 1% for the changing range of thickness between 2 nm and 4 nm in the capping film 3. - 特許庁

放射ソースは、チャンバと、チャンバ内のプラズマ形成部位に燃料を供給するように構成された燃料供給と、放射ビームが燃料と衝突した場合に極端紫外線を放つプラズマが生成されるようにプラズマ形成部位に放射ビームを放つように構成されたレーザとを含む。例文帳に追加

A radiation source includes a chamber, a fuel supply configured to supply a fuel to a plasma formation region in the chamber, and a laser configured to emit a radiation beam to the plasma formation region so that plasma for emitting extreme ultraviolet radiation is generated when the radiation beam impacts the fuel. - 特許庁

この極端紫外線露光用マスクには、斜めから入射ＥＵＶ光７が照射され、マスクパターン以外の部分では反射率Ｒｍで反射ＥＵＶ光８が、マスクパターンの部分では反射率Ｒａ（反射率Ｒｍより小さい）で反射ＥＵＶ光９が出射される。例文帳に追加

To this extreme ultraviolet rays exposure mask, an incident EUV light 7 is irradiated aslant, a reflected EUV light 8 is emitted at a reflection coefficient Rm in the portion other than the mask pattern, and a reflected EUV light 9 is emitted at a reflection coefficient Ra (smaller than the reflection coefficient Rm) in the portion of the mask pattern. - 特許庁

電子線等の荷電粒子線転写マスク、Ｘ線転写マスク、極端紫外線転写マスクを既存の例えばフォトマスク用電子線描画装置を用いて効率良く、かつ、マスクパターンの加工精度を改善して作製する。例文帳に追加

To attain an efficient production of a transfer mask for charged corpuscular rays including electron beams, a transfer mask for X-rays and a transfer mask for extreme ultraviolet rays by means of an existing device such as an electron beam drawing device for photomasks with improved accuracy in processing mask patterns. - 特許庁

吸収膜の大幅な低反射率化、成膜工程の複雑化を必要とせずに、吸収膜の欠陥検査が可能であるとともに、緩衝膜の剥離時に生じる欠陥に対しても、検査が可能な極端紫外線露光用マスクを提供すること。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet rays exposure mask which can inspect the defect of an adsorption film without necessity of complication of a depositing process and which can inspect even the defect occurring at the time of exfoliating a cushion film. - 特許庁

放射線ビームを発生させる放射線システム１は、極端紫外線３を発生させる極端紫外放射源２、放射源２からの汚染を閉じ込めるフォイルトラップ４、フォイルトラップ４からの放射熱を収集するヒートシンクとして作用する金属プレート７、金属プレート７の温度を検出する熱電対センサ９を含む。例文帳に追加

The radiation system 1 which generates a beam of radiation includes an extreme ultraviolet radiation source to produce extreme ultraviolet rays 3, a foil trap 4 to shut up a contaminant from the radiation source 2, a metal plate 7 which operates as a heat sink to collect the heat of radiation from the foil trap 4, and a thermocouple sensor 9 to detect a temperature of the metal plate 7. - 特許庁

ニオブ、ルテニウム、ロジウム、白金、金、銀、パラジウム、オスミウム及びイリジウムのうち少なくともいずれか１つとニッケル、パラジウム、白金、銀、ロジウム及びルテニウムのうち少なくともいずれか１つを含有する保護層３０を最表層に備えることで、投影露光装置内において極端紫外線が照射されても光学素子５０表面での酸化反応・カーボン膜生成を抑制することができる。例文帳に追加

This inhibits an oxidizing reaction or carbon film formation at the surface of the optical element 50 even if it is radiated with UV-rays in the projection aligner. - 特許庁

放射源は、極端紫外線を放出するプラズマを生成するためにレーザビームをプラズマ開始サイトにおける放射源材料に向けるように構成されたレーザシステム、および放射源材料ターゲットデリバリシステムにより送られる放射源材料を捕捉するように構成されたキャッチも含む。例文帳に追加

The radiation source also includes: a laser system configured to direct a laser beam to the radiation source material in the plasma starting site for generating plasma releasing extreme ultraviolet; and a catch configured to catch the radiation source material to be transmitted from the radiation source material target delivery system. - 特許庁

この放射源は、燃料小滴を発生させる小滴ジェネレータと、小滴ジェネレータによる燃料小滴の発生に続いて燃料小滴を加熱することで、燃料小滴中にある燃料の質量を低減するおよび／または燃料小滴の密度を低減するヒータと、ヒータによって加熱された燃料小滴上に放射を誘導することで、極端紫外線放射を発生させる放射エミッタを含む。例文帳に追加

This radiation source includes: a droplet generator for generating fuel droplets; a heater for heating the fuel droplets which reduces the mass of fuel contained in the fuel droplets and/or the density of the fuel droplets by heating them; and a radiation emitter for irradiating radiation beam to each droplet heated with the heater to generate extreme ultraviolet radiation. - 特許庁

炭素汚染物が付着し、波長が１００ｎｍ以下の極端紫外線を反射する反射光学部材を、処理室内に収容する工程と、前記処理室内において前記反射光学部材を不飽和炭化水素とオゾンガスとを反応させて発生させた活性種を含む雰囲気中に曝す工程とを設ける。例文帳に追加

The method includes the steps of: accommodating the reflecting optical member deposited with the carbon contamination and reflecting an extreme ultraviolet ray having a wavelength of 100 nm or shorter in a processing chamber; and exposing the reflecting optical member to an atmosphere containing an active species generated by reacting unsaturated hydrocarbon with ozone gas in the processing chamber. - 特許庁

ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する化合物及び感放射線性組成物であり、金属触媒を使用することなくかつ簡単な工程で製造できる、高感度、高解像度、高耐熱性、高エッチング耐性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a compound sensitive to radiations including KrF excimer laser, extreme ultraviolet radiations, electron beams and X-rays, which is a nonpolymeric composition sensitive to such radiations, and producible by a simple process without using any metal catalyst, wherein the composition is highly sensitive, has high resolution, high heat resistance and high etching resistance and is soluble to solvents. - 特許庁

本発明は、ＬＳＩ分野の極端紫外線（ＥＵＶ）を用いたリソグラフィ反射マスク基板などに対する要望に応えることができるようにした高平坦度（サブナノメータレベル）石英ガラス基板を得ることができるようにした石英ガラス基板の表面処理方法及びその処理方法に好適に用いられる水素ラジカルエッチング装置を提供する。例文帳に追加

To provide a surface treatment method of a quartz glass substrate capable of obtaining a quartz glass substrate having a high flatness (subnanometer level) which can meet the demand for a lithography reflection mask substrate using an extreme ultraviolet ray (EUV) in the field of LSI or the like, and a hydrogen radical etching apparatus suitably used for the treatment method. - 特許庁

二酸化珪素、アルミナ、酸化クロム、二酸化三クロム、三酸化クロム、二酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、二酸化ニオブ、五酸化二ニオブ、二酸化モリブデン、二酸化ルテニウム、三酸化ルテニウム、四酸化ルテニウム、三酸化二ロジウム及び二酸化ロジウムのうち少なくともいずれか１つを含有する保護層３０を最表層に備えることで、投影露光装置内において極端紫外線が照射されても光学素子５０表面での酸化反応を抑制することができる。例文帳に追加

Even if extreme ultraviolet ray is irradiated in a projection aligner, the oxidizing reaction on the surface of an optical element 50 is suppressed. - 特許庁

上部保護膜層が多層膜反射コーティングの上面層へ拡散するのを防止する底部保護膜層と、酸化および腐食に耐え、多層膜反射コーティングを酸化から保護する、という材料で作った上部保護膜層とを有する、極端紫外線または軟エックス線用途で使用するように設計された多層膜反射コーティングのための不動態化保護膜二重層を提供する。例文帳に追加

To provide a passivating overcoat bilayer which comprises a bottom overcoat layer that prevents a top overcoat layer from diffusing into the top layer of a multilayer reflective coating, and the top overcoat layer made of material that resists oxidation and corrosion and protects a multilayer reflective coating from oxidation, and which is for the multilayer reflective coating designed for use in extreme ultraviolet or soft x-ray applications. - 特許庁