例文 (466件) |
"さんかいんじうむ"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 466件
酸化インジウム粉末例文帳に追加
INDIUM OXIDE POWDER - 特許庁
錫ドープ酸化インジウムナノ粒子例文帳に追加
TIN-DOPED INDIUM OXIDE NANOPARTICLE - 特許庁
水酸化インジウムの製造方法例文帳に追加
酸化インジウム膜の製造方法例文帳に追加
スズドープ酸化インジウム粉例文帳に追加
TIN-DOPED INDIUM OXIDE POWDER - 特許庁
酸化インジウム微粒子分散体例文帳に追加
酸化インジウムスパッタリングターゲットを酸化インジウム相と金属相を有する酸化インジウム焼結体により構成する。例文帳に追加
The indium oxide sputtering target is composed of an indium oxide sintered compact having an indium oxide phase and a metal phase. - 特許庁
酸化インジウム膜とその製造方法、電界放出電極用または担持基体用酸化インジウム膜例文帳に追加
INDIUM OXIDE FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND INDIUM OXIDE FILM FOR FIELD EMISSION ELECTRODE OR CARRIER BASE - 特許庁
酸化インジウム微粉末及びスズ含有酸化インジウム微粉末の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING FINE POWDER OF INDIUM OXIDE AND FINE POWDER OF INDIUM OXIDE CONTAINING TIN - 特許庁
窒化酸化インジウム光触媒及びその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXYNITRIDE PHOTOCATALYST AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
酸化インジウム−酸化錫粉末及びその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE-TIN OXIDE POWDER AND ITS PRODUCTION - 特許庁
酸化インジウム粉およびその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE POWDER AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
スズドープ酸化インジウム粉末およびその製造方法例文帳に追加
TIN-DOPED INDIUM OXIDE POWDER AND ITS PRODUCTION - 特許庁
酸化インジウム粉末の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING INDIUM OXIDE POWDER - 特許庁
酸化インジウム粉末とその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE POWDER AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁
錫ドープ酸化インジウム粒子及びその製造方法例文帳に追加
TIN-DOPED INDIUM OXIDE PARTICLES AND THEIR MANUFACTURING METHOD - 特許庁
高抵抗化スズドープ酸化インジウム膜の成膜方法例文帳に追加
METHOD FOR DEPOSITING TIN DOPED INDIUM OXIDE FILM WITH HIGH RESISTANCE - 特許庁
酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING POWDER CONTAINING INDIUM OXIDE AS MAIN COMPONENT - 特許庁
酸化インジウム薄膜及びその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE THIN FILM AND ITS MANUFACTURE - 特許庁
スズドープ酸化インジウム微粒子の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING TIN-DOPED INDIUM OXIDE PARTICULATE - 特許庁
酸化インジウム膜積層体及びその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE FILM LAMINATE AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
酸化インジウム粉末およびその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE POWDER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
スズドープ酸化インジウム粉とその製造方法例文帳に追加
TIN-DOPED OXIDE INDIUM POWDER AND ITS MANUFACTURE - 特許庁
酸化インジウム含有ガラスおよびその製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE-CONTAINING GLASS AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
酸化インジウムスズ膜の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING INDIUM TIN OXIDE FILM - 特許庁
酸化インジウム系スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING INDIUM OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET - 特許庁
水酸化インジウムを主成分とする粉末の製造方法例文帳に追加
INDIUM HYDROXIDE-BASED POWDER PRODUCTION METHOD - 特許庁
スズドープ酸化インジウム膜の高比抵抗化方法例文帳に追加
METHOD OF INCREASING SPECIFIC RESISTANCE OF TIN-DOPE INDIUM OXIDE FILM - 特許庁
さらに、酸化インジウムを含有することができる。例文帳に追加
Further, the sintered compact may contain indium oxide. - 特許庁
酸化インジウム微粒子の製造方法例文帳に追加
PROCESS FOR MANUFACTURING INDIUM OXIDE FINE PARTICLE - 特許庁
酸化インジウム系粒子、その製造方法および用途例文帳に追加
INDIUM OXIDE-BASE PARTICLE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND THEIR USE - 特許庁
酸化インジウム系ターゲットおよびその製造方法例文帳に追加
INDIUM-OXIDE-BASED TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
酸化インジウム−酸化錫粉末及びそれを用いたスパッタリングターゲット並びに酸化インジウム−酸化錫粉末の製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE-TIN OXIDE POWDER, SPUTTERING TARGET USING IT, AND METHOD OF MANUFACTURING INDIUM OXIDE-TIN OXIDE POWDER - 特許庁
具体的には、透明電極が酸化インジウムを主成分とするITOの場合、低融点ガラスペーストに酸化インジウムが含まれる。例文帳に追加
Specifically, when the transparent electrode is ITO essentially comprising indium oxide, the low melting point glass paste contains indium oxide. - 特許庁
棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末の製造方法、及び棒状導電性錫含有酸化インジウム微粉末例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING ROD-LIKE ELECTROCONDUCTIVE TIN-CONTAINING INDIUM OXIDE FINE POWDER AND ROD-LIKE ELECTROCONDUCTIVE TIN-CONTAINING INDIUM OXIDE FINE POWDER - 特許庁
裏面側の酸化インジウム層9の算術平均粗さ(Ra)は、表面側の酸化インジウム層5の算術平均粗さ(Ra)より大きい。例文帳に追加
The arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 9 on the rear surface side is larger than the arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 5 on the surface side. - 特許庁
金属スズ及び酸化インジウムを含む焼結体であって、前記金属スズが焼結体中で分散している酸化インジウム焼結体。例文帳に追加
The indium oxide sintered compact contains metallic tin, and the metallic tin is dispersed in the sintered compact. - 特許庁
酸化インジウムスズターゲットおよびこの製造方法、酸化インジウムスズ透明導電膜およびこの製造方法例文帳に追加
INDIUM TIN OXIDE TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM OF INDIUM TIN OXIDE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
酸化インジウム亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化インジウム亜鉛系薄膜例文帳に追加
INDIUM-ZINC-OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND INDIUM-ZINC-OXIDE-BASED THIN FILM - 特許庁
酸化インジウム亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化インジウム亜鉛系薄膜を提供する。例文帳に追加
To provide an indium-zinc-oxide-based sputtering target; a manufacturing method therefor; and an indium-zinc-oxide-based thin film. - 特許庁
酸化インジウムスズターゲットおよびこの製造方法、酸化インジウムスズ透明導電膜およびこの製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide an indium tin oxide target, a method for manufacturing the indium tin oxide target, a transparent conductive film of indium tin oxide, and a method for manufacturing the transparent conductive film. - 特許庁
酸化インジウム粉末およびITOスパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
INDIUM OXIDE POWDER AND METHOD FOR MANUFACTURING ITO SPUTTERING TARGET - 特許庁
酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET CONTAINING INDIUM OXIDE - 特許庁
透明電極層120は、例えば酸化インジウム層である。例文帳に追加
The transparent electrode layer 120 is, for instance, an indium oxide layer. - 特許庁
酸化インジウム錫膜用エッチング液およびエッチング方法例文帳に追加
ETCHING SOLUTION AND ETCHING METHOD FOR INDIUM TIN OXIDE FILMS - 特許庁
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