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ほんまち17ちょうめの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
本発明に係るプラズマ処理装置10は、プラズマ処理室11と、プラズマ処理室11と連通するプラズマ生成室12と、プラズマを生成するための高周波アンテナ16と、プラズマ中の電子エネルギーを制御するためのプラズマ制御板17と、プラズマ制御板17の位置を調整するための操作棒171及び移動機構172と、を備える。例文帳に追加
A plasma processing apparatus 10 comprises: a plasma processing chamber 11; a plasma generating chamber 12 connected to the plasma processing chamber 11; a high-frequency antenna 16 for generating plasma; a plasma controlling plate 17 for controlling the electronic energy in the plasma; and an operation bar 171 and a moving mechanism 172 for adjusting the position of the plasma controlling plate 17. - 特許庁
本隙間調整機構1を備えた多板クラッチ4では、リレーズアーム14aを回転させると、これに伴なってリレーズAY14の側板14bが図中の矢印方向に移動するため、プッシャー15を介してリフタープレート17がスプリング19に抗して同方向に移動する。例文帳に追加
In the multiple disk clutch 4 with the gap adjustment mechanism 1, a side plate 14b of the release AY14 moves to an arrow direction shown in Figure when rotating a release arm 14a, so that a lifter plate 17 moves to the same direction against a spring 19 through the pusher 15. - 特許庁
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