例文 (8件) |
カルボニルビスを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
カルボニルビス(ハロゲノベンゼンスルホン酸)アルカリ金属塩の製造方法及びカルボニルビス(ハロゲノベンゼンスルホン酸)アルカリ金属塩例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING ALKALI METAL SALT OF CARBONYLBIS(HALOGENOBENZENESULFONIC ACID) AND ALKALI METAL SALT OF CARBONYLBIS(HALOGENOBENZENESULFONIC ACID) - 特許庁
カルボニルビス(ジエン)ルテニウム錯体、その製造方法、および薄膜の製造方法例文帳に追加
CARBONYLBIS(DIENE)RUTHENIUM COMPLEX, ITS PRODUCTION METHOD, AND PRODUCTION METHOD OF THIN FILM - 特許庁
ホスゲンと少なくとも一種のラクタムとを第三アミンの存在下で反応させてN,N’−カルボニルビスラクタムを製造する方法。例文帳に追加
To provide a method for producing an N,N'-carbonylbislactam by reacting phosgene with at least 1 kind of lactam in the presence of a tertiary amine. - 特許庁
実験室規模および工業的規模の両方で高純度のN,N’−カルボニルビスラクタムが高収率で得られる。例文帳に追加
A high purity N,N'-carbonylbislactam can be obtained in a high yield both in a laboratory scale and an industrial scale. - 特許庁
本発明は、異性体1〜3の異性体をとりうるジカルボニル−ビス(5−メチル−2,4−ヘキサンジケトナト)ルテニウム(II)において、異性体2の含有率が30質量%以上である有機ルテニウム化合物に関する。例文帳に追加
The organoruthenium compound is dicarbonyl-bis(5-methyl-2,4-hexane diketonate)ruthenium (II) having isomers 1-3, with its content of the isomer 2 being at least 30 mass%. - 特許庁
ビスハロゲノベンゾフェノン化合物をスルホン化して、高純度、高収率のカルボニルビス(ハロゲノベンゼンスルホン酸)アルカリ金属塩を得る方法及び高純度のビスハロゲノベンゾフェノン化合物を提供する。例文帳に追加
To provide a method for producing a high-purity alkali metal salt of a carbonylbis(halogenobenzenesulfonic acid) in a high yield by sulfonating a bishalogenobenzophenone compound and to obtain a high-purity alkali metal salt of a carbonylbis(halogenobenzenesulfonic acid). - 特許庁
3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノ)クマリン等の増感色素、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のハロメチル基置換−s−トリアジン誘導体、およびベンゼンスルフィン酸ナトリウム、p−トルエンスルフィン酸ナトリウム等の有機スルフィン酸塩を含んでなる可視光線重合開始剤、並びにアクリレート系単量体とを含有してなる可視光線重合性組成物。例文帳に追加
This visible light-polymerizable composition comprises the acrylate monomer, a sensitizing dye such as 3,3,'-carbonylbis(7-diethylamino) coumarin, a halomethyl-substituted-s-triazin derivative such as 2,4,6- tris(trichloromethyl)-s-triazin and the visible light polymerization initiator containing an organic sulfinate salt such as sodium benzenesulfinate and sodium p-toluenesulfinate. - 特許庁
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