例文 (4件) |
チャネル172の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4件
このノイズ耐量向上回路17はNチャネルMOSトランジスタ171とフォトダイオード172と抵抗173から構成されている。例文帳に追加
The noise resistance improvement circuit 17 is composed of an N-channel MOS transistor 171, a photodiode 172, and a resistor 173. - 特許庁
P^+領域171は、ゲート電極14及びサイドウォール16を隔てたPチャネルMOSFET Qpのソース/ドレイン領域、N^+領域172は、ゲート電極14及びサイドウォール16を隔てたNチャネルMOSFET Qnのソース/ドレイン領域となる。例文帳に追加
A p^+-type region 171 becomes a source/drain region of a p-channel MOSFET Qp via the gate electrode 14 and a sidewall 16, and an n^+-type region 172 becomes a source/drain region of an n-channel MOSFET Qn via the gate electrode 14 and the sidewall 16. - 特許庁
チャネル領域12を隔てたソース・ドレイン領域17は、低濃度のN型不純物領域(N^−領域)171及び高濃度のN型不純物領域(N^+領域)172を含む。例文帳に追加
Source/drain regions 17 separated by a channel region 12 include the n-type impurity regions (n^- regions) 171 of low concentration and the n-type impurity regions (n^+ regions) 172 of high concentration. - 特許庁
N^−領域171はチャネル領域12を隔ててゲート電極14の両端部下から第1のペーサ161下に亘って配され、N^+領域172は、ソース・ドレイン領域として第2のペーサ162下にも延在している。例文帳に追加
The n^- regions 171 are disposed from the lower part of both ends of the gate electrode 14 to the lower part of the first spacers 161 holding the channel region 12; and the n^+ regions 172 are extended even to the lower part of the second spacers 162 as the source/drain region. - 特許庁
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