| 意味 | 例文 (999件) |
パッタリを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 4886件
Ａｌ系スパッタリング用タ−ゲット材の製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING Al-BASE TARGET MATERIAL FOR SPUTTERING - 特許庁
光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET FOR FORMING MAGNETO-OPTICAL RECORDING MEDIUM FILM - 特許庁
反応性スパッタリングの制御方法及び成膜方法例文帳に追加
METHOD FOR CONTROLLING REACTIVE SPUTTERING AND FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
スパッタリングターゲットの効率を向上させる。例文帳に追加
To improve the efficiency of a sputtering target. - 特許庁
スパッタリング装置および成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING SYSTEM AND FILM-FORMING METHOD - 特許庁
スパッタリング用ターゲット及び成膜方法例文帳に追加
SPATTERING TARGET AND FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
薄膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET FOR THIN FILM DEPOSITION - 特許庁
スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
PROCESS FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET - 特許庁
プリスパッタリング処理用のダミー基板例文帳に追加
DUMMY SUBSTRATE FOR PRE-SPUTTERING TREATMENT - 特許庁
スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET - 特許庁
スパッタリングターゲットの検査方法例文帳に追加
METHOD FOR INSPECTING SPUTTERING TARGET - 特許庁
ガスフロースパッタリング成膜方法例文帳に追加
FILM-FORMING METHOD BY GAS-FLOW SPUTTERING - 特許庁
スパッタリング用直流電源装置例文帳に追加
DC POWER UNIT FOR SPUTTERING - 特許庁
ターゲット装置およびそれを用いたスパッタリング装置例文帳に追加
TARGET DEVICE AND SPUTTERING SYSTEM USING IT - 特許庁
透明導電膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加
SPATTERING TARGET FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM - 特許庁
光ディスク保護膜形成スパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM FOR OPTICAL DISK - 特許庁
成膜方法及びスパッタリング装置例文帳に追加
DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
光ディスク反射膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET FOR FORMING REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL DISK - 特許庁
反応性スパッタリングの制御方法例文帳に追加
CONTROL METHOD FOR REACTIVE SPUTTERING - 特許庁
反応性スパッタリング方法とその装置例文帳に追加
METHOD AND EQUIPMENT FOR REACTIVE SPUTTERING - 特許庁
スパッタリングターゲット用材料およびその焼結体例文帳に追加
MATERIAL FOR SPUTTERING TARGET, AND SINTERED COMPACT THEREOF - 特許庁
スパッタリング用ターゲットの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR PRODUCING TARGET FOR SPUTTERING - 特許庁
高純度Ｔａからなるスパッタリングターゲットである。例文帳に追加
A sputtering target composed of high purity Ta is used. - 特許庁
反応性スパッタリング用ターゲット材例文帳に追加
TARGET MATERIAL FOR REACTIVE SPUTTERING - 特許庁
再製スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
REFURBISHED SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MAKING THE SAME - 特許庁
反応性スパッタリング法とその成膜装置例文帳に追加
REACTIVE SPUTTERING METHOD, AND FILM DEPOSITION APPARATUS THEREFOR - 特許庁
スパッタリング装置、および誘電体膜の成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING DEVICE AND FORMATION OF DIELECTRIC FILM - 特許庁
接合方法及びスパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
JOINING METHOD, AND MANUFACTURE OF SPUTTERING TARGET - 特許庁
スパッタリング用ターゲットとその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD - 特許庁
マグネトロンスパッタリング方法と装置例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁
スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET - 特許庁
インライン型スパッタリング方法および装置例文帳に追加
INLINE TYPE SPUTTERING METHOD AND DEVICE - 特許庁
光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット例文帳に追加
OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND SPUTTERING TARGET - 特許庁
酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET CONSISTING OF OXIDE SINTERED COMPACT - 特許庁
透明導電膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET FOR USE IN FORMING TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM - 特許庁
プレーナーマグネトロンスパッタリング装置例文帳に追加
PLANAR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
一体構造型スパッタリングターゲット例文帳に追加
INTEGRAL SPUTTERING TARGET - 特許庁
スパッタリングターゲットは高純度Ｔａ材からなる。例文帳に追加
The sputtering target consists of a high-purity Ta material. - 特許庁
平板マグネトロンスパッタリング装置例文帳に追加
PLANAR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD OF THE SAME - 特許庁
マグネトロンスパッタリング方法および装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR MAGNETRON SPUTTERING - 特許庁
| 意味 | 例文 (999件) |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
