| 意味 | 例文 (999件) |
パッタリを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 4886件
銅スパッタリング用自己イオン化プラズマ例文帳に追加
SELF-IONIZED PLASMA FOR COPPER SPUTTERING - 特許庁
デュアルカソードスパッタリング装置に使用するスパッタリングターゲットであって、このスパッタリング装置に装着した時に、処理対象である基板と対向する面の側端部に面取り部を有するスパッタリングターゲット。例文帳に追加
The sputtering target is used for a dual cathode sputtering apparatus, and has a chamfered portion in a side end of a face opposing a substrate to be sputtered when mounted on the sputtering apparatus. - 特許庁
スパッタリングターゲット冷却構造例文帳に追加
SPUTTERING TARGET COOLING STRUCTURE - 特許庁
スパッタリング装置用の交流電源例文帳に追加
AC POWER SUPPLY FOR SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
バッキングプレート及びスパッタリングターゲット組立体例文帳に追加
BACKING PLATE AND SPUTTERING TARGET ASSEMBLY - 特許庁
スパッタリング装置及びそのメンテナンス方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND MAINTENANCE METHOD THEREFOR - 特許庁
スパッタリング成膜用のターゲットユニット例文帳に追加
TARGET UNIT FOR SPUTTERING FILM DEPOSITION - 特許庁
アンバランスドマグネトロンスパッタリング装置及び方法例文帳に追加
UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND METHOD - 特許庁
スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURE - 特許庁
スパッタ装置およびスパッタリングによる成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING DEVICE AND FILM DEPOSITION METHOD BY SPUTTERING - 特許庁
ガラス状炭素製スパッタリングターゲット材例文帳に追加
SPUTTERING TARGET MATERIAL OF GLASSY CARBON - 特許庁
ロータリージョイント、及びスパッタリング装置例文帳に追加
ROTARY JOINT AND SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
スパッタリング装置および半導体装置製造方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM PRODUCTION METHOD - 特許庁
回転磁石およびインライン型スパッタリング装置例文帳に追加
ROTATING MAGNET, AND INLINE TYPE SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
フッ化物薄膜形成方法及びスパッタリング方法例文帳に追加
FLUORIDE THIN FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING METHOD - 特許庁
ＩＴＯスパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
ITO SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
スパッタリングターゲット及び酸化物半導体膜例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND OXIDE SEMI-CONDUCTOR FILM - 特許庁
スパッタリングターゲット及びターゲット組み立て体例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND TARGET ASSEMBLY - 特許庁
スパッタリングカソード及び成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING CATHODE AND FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
ターゲット基台、ターゲット装置およびスパッタリング装置例文帳に追加
TARGET BASE, TARGET DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
搬送装置およびスパッタリング装置例文帳に追加
CARRYING APPARATUS AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
薄膜の製造方法およびスパッタリング装置例文帳に追加
THIN FILM MANUFACTURING METHOD AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
チタンスパッタリングターゲットおよびその製造方法例文帳に追加
TITANIUM SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
真空スパッタリング装置とその蒸着方法例文帳に追加
VACUUM SPUTTERING APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD THEREFOR - 特許庁
珪化鉄スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
IRON SILICATE SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁
成膜方法およびスパッタリング装置例文帳に追加
FILM DEPOSITION METHOD AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
スパッタリング装置および成膜方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD - 特許庁
スパッタリング方法及び成膜装置例文帳に追加
SPUTTERING METHOD AND FILM DEPOSITION APPARATUS - 特許庁
ＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET OF ZnO AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
反応性マグネトロンスパッタリング装置例文帳に追加
当該ターゲット構造を有するスパッタリング装置。例文帳に追加
The sputtering apparatus includes the target structure. - 特許庁
金属亜鉛含有スパッタリングターゲット例文帳に追加
METAL ZINC-CONTAINING SPUTTERING TARGET - 特許庁
ＳｎＯ２系スパッタリングターゲットおよびスパッタ膜例文帳に追加
SnO2-BASE SPUTTERING TARGET AND SPUTTER FILM - 特許庁
スパッタリングタ—ゲットおよびその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION - 特許庁
磁性粉末コーティング用スパッタリング装置例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS FOR MAGNETIC POWDER COATING - 特許庁
プリスパッタリング処理を行なう度に、プリスパッタ用基板をスパッタリング装置に搬送する必要がなく、プリスパッタリング処理を開始するまでにかかる時間を短縮することができるスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering system which need not transport a substrate for pre-sputtering to the sputtering system every time when the pre-sputtering is performed, and can shorten the time before starting the pre-sputtering. - 特許庁
ＳｎＯ２系スパッタリングターゲットおよびその製造方法例文帳に追加
SnO2-BASED SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
スパッタリング用ＭｇＯターゲット及びその製造方法例文帳に追加
MAGNESIUM OXIDE TARGET FOR SPUTTERING AND ITS PRODUCTION - 特許庁
スパッタリング装置、及び液晶装置の製造方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DEVICE - 特許庁
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