| 意味 | 例文 (999件) |
パッタリを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 4886件
スパッタリング用コバルトターゲット及びその製造方法例文帳に追加
SPUTTERING TARGET OF COBALT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
コバルト酸化物が残留したスパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET WITH REMAINED COBALT OXIDE - 特許庁
マグネトロンスパッタリング用磁石ユニット例文帳に追加
MAGNET UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING - 特許庁
マグネトロンスパッタ電極及びスパッタリング装置例文帳に追加
MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
Ａｌ−Ｎｄ合金スパッタリング用積層体例文帳に追加
LAYERED PRODUCT FOR SPUTTERING ALUMINUM-NEODYMIUM ALLOYS - 特許庁
Ｃｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット例文帳に追加
Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET - 特許庁
重ガススパッタリングによるイオン化金属プラズマ技術例文帳に追加
IONIZED METAL PLASMA TECHNOLOGY BY HEAVY GAS SPUTTERING - 特許庁
ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲット例文帳に追加
ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET - 特許庁
ブラックマトリクス用クロムのスパッタリング方法例文帳に追加
METHOD OF SPUTTERING CHROMIUM FOR BLACK MATRIX - 特許庁
スパッタリングターゲット、電極膜、および電子部品例文帳に追加
SPUTTERING TARGET, ELECTRODE FILM, AND ELECTRONIC PARTS - 特許庁
低酸素含有合金及びスパッタリングターゲット例文帳に追加
LOW OXYGEN CONTENT ALLOY COMPOSITIONS AND SPUTTERING TARGET - 特許庁
銀合金、そのスパッタリングターゲット材及びその薄膜例文帳に追加
SILVER ALLOY, SPUTTERING TARGET THEREOF AND THIN FILM THEREBY - 特許庁
マグネトロンスパッタリング装置用Ｔｉ−Ｗ材例文帳に追加
Ti-W MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
銀合金スパッタリングターゲットとその製造方法例文帳に追加
SILVER ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCING METHOD - 特許庁
スパッタリング用タングステンターゲットの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING TUNGSTEN TARGET FOR SPUTTERING - 特許庁
Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系酸化物スパッタリングターゲット例文帳に追加
In-Ga-Zn BASED OXIDE SPUTTERING TARGET - 特許庁
マグネトロンスパッタリング用磁気回路例文帳に追加
MAGNETIC CIRCUIT FOR MAGNETRON SPUTTERING - 特許庁
アルミニウム合金スパッタリングタ—ゲット材料例文帳に追加
圧電素子膜製造用スパッタリング装置例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC ELEMENT FILM - 特許庁
フッ化物スパッタリングターゲット及びその製造方法例文帳に追加
FLUORIDE SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁
ＩＴＯスパッタリングターゲットおよびその製造方法例文帳に追加
ITO SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
スパイラルチューブ及びそのスパッタリング方法例文帳に追加
SPIRAL TUBE AND ITS SPUTTERING METHOD - 特許庁
配線・電極及びスパッタリングターゲット例文帳に追加
WIRING, ELECTRODE, AND SPUTTERING TARGET - 特許庁
Ｃｒ−Ｍｎ合金スパッタリング用ターゲット材例文帳に追加
Cr-Mn ALLOY SPUTTERING TARGET - 特許庁
ロングスロースパッタリング、自己イオン化プラズマ（ＳＩＰ）スパッタリング、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）再スパッタリング及びコイルスパッタリングを１つのチャンバ内で組み合わせたリアクタ１５０を使う。例文帳に追加
The method uses a reactor 150 in which long throw sputtering, self-ionized plasma (SIP) sputtering, induction coupling plasma (ICP) resputtering and coil sputtering are combined in one chamber. - 特許庁
スパッタリングターゲットタイルの電子ビーム溶接例文帳に追加
ELECTRON BEAM WELDING FOR SPUTTERING TARGET TILE - 特許庁
ＺｎＳ−ＳｉＯ２スパッタリングターゲットの製造方法例文帳に追加
METHOD FOR MANUFACTURING ZnS-SiO2 SPUTTERING TARGET - 特許庁
一酸化珪素焼結体およびスパッタリングターゲット例文帳に追加
SILICON MONOXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET - 特許庁
マグネトロンカソード及びスパッタリング装置例文帳に追加
MAGNETRON CATHODE CAN SPUTTERING SYSTEM - 特許庁
スパッタリングターゲット、Ａｌ合金膜および電子部品例文帳に追加
SPUTTERING TARGET, AL ALLOY FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT - 特許庁
アルミニウム合金膜形成用スパッタリングターゲット例文帳に追加
SPUTTERING TARGET FOR FORMING ALUMINUM-ALLOY FILM - 特許庁
Ｔｉ−Ａｌ合金スパッタリングターゲット例文帳に追加
Ti-Al ALLOY SPUTTERING TARGET - 特許庁
ターゲット組立ユニットおよびスパッタリング装置例文帳に追加
TARGET ASSEMBLY UNIT AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
スパッタリング装置及び半導体装置の製造方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
スパッタリング装置および半導体装置の製造方法例文帳に追加
SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
半導体装置の製造方法およびスパッタリング装置例文帳に追加
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS - 特許庁
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