「マスク作製」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

マスクパターン補正方法、及びフォトマスク作製方法例文帳に追加

MASK PATTERN CORRECTING METHOD AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD - 特許庁

フォトマスク、位相シフトマスク、およびその作製方法例文帳に追加

PHOTOMASK, PHASE-SHIFT MASK AND THEIR PRODUCTION - 特許庁

マスク作製方法及び微小開口を有するマスク例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING MASK, AND THE MASK HAVING VERY SMALL OPENING - 特許庁

マスク、マスク作製方法および露光方法例文帳に追加

MASK AND ITS PREPARATION METHOD AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

ステンシルマスク及びこのステンシルマスクの作製方法例文帳に追加

STENCIL MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

回折格子作製用位相マスク例文帳に追加

PHASE MASK FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING - 特許庁

フォトマスク基板の作製方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK SUBSTRATE - 特許庁

回折格子作製用位相マスク例文帳に追加

PHASE MASK FOR MANUFACTURING GRATING - 特許庁

フォトマスクの作製方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスクの作製方法例文帳に追加

PRODUCTION OF PHOTOMASK - 特許庁

マスクおよびその作製方法例文帳に追加

MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

マスクパターンの作製法例文帳に追加

MANUFACTURE OF MASK PATTERN - 特許庁

転写マスク及びその作製方法例文帳に追加

TRANSFERRING MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

転写マスクの作製方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF TRANSFER MASK - 特許庁

フォトマスク作製方法、フォトマスク作製システムおよび半導体デバイス例文帳に追加

PHOTOMASK PRODUCTION METHOD, PHOTOMASK PRODUCTION SYSTEM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

フォトニック結晶の作製方法、マスク、マスク作製方法、及び光デバイス作製方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING PHOTONIC CRYSTAL, MASK, MASK PRODUCING METHOD AND OPTICAL DEVICE PRODUCING METHOD - 特許庁

両面にパターンを有するフォトマスクの作製方法およびフォトマスク例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK HAVING PATTERNS ON BOTH SURFACES THEREOF, AND THE PHOTOMASK - 特許庁

露光マスクの作製方法、半導体装置の製造方法、および露光マスク例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND EXPOSURE MASK - 特許庁

マスク検査方法、マスク作製方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

MASK INSPECTION METHOD, MASK PRODUCTION METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

そして、その作製されたシャドウマスク用薄板、シャドウマスクである。例文帳に追加

Then, the thin sheet for a shadow mask and the shadow mask are produced thereby. - 特許庁

マスク及びマスクの作製方法、並びに、材料の加工方法例文帳に追加

MASK AND FABRICATING METHOD OF THE SAME, AND MACHINING METHOD OF MATERIAL - 特許庁

マスク歪みの評価方法、マスクの作製方法、及び露光方法例文帳に追加

METHOD FOR EVALUATING MASK DISTORTION, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR EXPOSURE - 特許庁

露光マスク作製用のブランクス保持具および露光マスクの製造方法例文帳に追加

BLANK HOLDER FOR MANUFACTURE OF EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE MASK - 特許庁

スクリーン印刷用マスク及びスクリーン印刷用マスクの作製方法例文帳に追加

SCREEN PRINTING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SCREEN PRINTING MASK - 特許庁

パターン転写用マスク、マスク作製方法及び露光方法例文帳に追加

PATTERN TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

拡散層形成用露光マスクのマスクパターン作製方法例文帳に追加

METHOD FOR CREATING MASK PATTERN OF MASK FOR EXPOSURE FOR FORMING DIFFUSION LAYER - 特許庁

ステンシルマスク、ステンシルマスクの作製方法、及びパターン転写方法例文帳に追加

STENCIL MASK, METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

印刷用マスク材及び該印刷用マスク材を用いた印刷用マスクの作製方法例文帳に追加

PRINTING MASK MATERIAL AND MANUFACTURE OF PRINTING MASK USING THE PRINTING MASK MATERIAL - 特許庁

マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制する。例文帳に追加

To suppress a pattern failure caused by a mask blank when a mask is fabricated from the mask blank. - 特許庁

マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制する。例文帳に追加

To suppress pattern failure caused by a mask blank when a mask is fabricated from the mask blank. - 特許庁

フォトマスク基板の作製方法及びその方法により作製されたフォトマスク基板例文帳に追加

METHOD OF PREPARING PHOTOMASK SUBSTRATE, AND PHOTOMASK SUBSTRATE PREPARED BY THE METHOD - 特許庁

マスクおよびその作製方法、フォトマスクおよびその作製方法、並びに露光方法例文帳に追加

MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

光学素子の作製に用いるマスク、該マスクを用いた光学素子の作製方法例文帳に追加

MASK USED FOR MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL ELEMENT USING THE MASK - 特許庁

回折格子作製用位相マスクを用いた回折格子作製方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING USING PHASE MASK FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING - 特許庁

イオンミーリング試料作製装置用マスクおよび試料作製装置例文帳に追加

MASK FOR ION MILLING SAMPLE MANUFACTURING APPARATUS AND SAMPLE MANUFACTURING APPARATUS - 特許庁

フォトマスクを用いたパターン作製方法、及びパターン作製装置例文帳に追加

METHOD OF FORMING PATTERN BY USE OF PHOTOMASK AND PATTERN-FORMING DEVICE - 特許庁

振動子の作製方法、振動子作製用マスク、および振動子用パッケージ例文帳に追加

VIBRATOR GENERATION METHOD, MASK FOR VIBRATOR GENERATION AND VIBRATOR PACKAGE - 特許庁

フォトマスク作製用着色組成物及びフォトマスク作製材料、並びにフォトマスク及びその製造方法例文帳に追加

COLORING COMPOSITION FOR PHOTOMASK PRODUCTION, PHOTOMASK PRODUCTING MATERIAL, AND PHOTOMASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

マスクパターンの作製方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING SYSTEM OF MASK PATTERN, CELL LIBRARY, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK - 特許庁

両面にパターンを有するフォトマスクの作製方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK HAVING PATTERNS ON BOTH SURFACES THEREOF - 特許庁

マイクロレンズの作製方法及びフォトマスク例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS, AND PHOTOMASK - 特許庁

イオン注入用ステンシルマスク及びその作製方法例文帳に追加

STENCIL MASK FOR ION IMPLANTATION, AND FORMATION METHOD THEREOF - 特許庁

パターンデータの作製方法およびフォトマスク例文帳に追加

METHOD FOR PREPARING PATTERN DATA, AND PHOTOMASK - 特許庁

電子線露光用ステンシルマスク及びその作製方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM EXPOSING STENCIL MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

位相シフトマスク及びその作製方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK AND ITS FABRICATION METHOD - 特許庁