MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26498件
FILM FORMING MASK例文帳に追加
成膜用マスク - 特許庁
SUBSTRATE FLUORESCENCE MASK例文帳に追加
基体蛍光マスク - 特許庁
MASK FABRICATING DEVICE例文帳に追加
マスク作成装置 - 特許庁
mask argument and the mask field of the inotify_event structure returned when read (2)ing 例文帳に追加
のmask引き数と、inotify ファイル構造体をread (2) - JM
MASK PROCESSING APPARATUS, MASK PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND MASK例文帳に追加
マスク処理装置、マスク処理方法、プログラム、およびマスク - 特許庁
MASK MANUFACTURING METHOD, MASK AND MASK MANUFACTURING SET例文帳に追加
マスク製造方法、マスクおよびマスク製造セット - 特許庁
MASK MOUNTING UNIT, MASK SEPARATING UNIT, MASK MOUNTING AND DETACHING UNIT, MASK MOUNTING DEVICE, MASK SEPARATING DEVICE, AND MASK MOUNTING AND DETACHING DEVICE例文帳に追加
マスク装着ユニット、マスク分離ユニット、マスク着脱ユニット、マスク装着装置、マスク分離装置、及び、マスク着脱装置 - 特許庁
The events to be monitored for pathname are specified in the mask bit-mask argument. 例文帳に追加
pathnameのどのイベントを監視するかは、引き数のビットマスクmaskで指定する。 - JM
sets the CPU affinity mask of the process whose ID is pid to the value specified by mask . 例文帳に追加
は、プロセスID がpidのプロセスの CPU affinity マスクをmaskで指定された値に設定する。 - JM
sets the calling process's file mode creation mask (umask) to mask & 0777 (i. e. 例文帳に追加
は、呼び出し元プロセスのファイルモード作成マスク (umask) をmask& 0777 に設定し( umask - JM
This function uses these GC components:function, plane-mask, subwindow-mode, graphics-exposures, clip-x-origin, clip-y-origin,and clip-mask. 例文帳に追加
この関数は以下の GC コンポーネントを使用する。 function, plane-mask, - XFree86
These faces were drawn on Onnamen (women's mask), Shonenmen (boy's mask), Seinenmen (man's mask) in Noh plays. 例文帳に追加
これらの顔が能面の女面、少年面、青年面に写された。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
EXPOSURE DEVICE, MASK WASHING APPARATUS, MASK WASHING METHOD, AND MASK STORAGE METHOD例文帳に追加
露光装置,マスク洗浄装置,マスク洗浄方法,マスク保管方法 - 特許庁
PHOTO MASK, PHOTO MASK BLANK AND PHOTO MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
フォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
A characteristic mask (124) is computed, using a gradient mask and a localization mask.例文帳に追加
勾配マスクと位置確認マスクを用いて特性マスク(124)を計算する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR METAL MASK, METAL MASK AND METAL MASK PRINTING FORM PLATE例文帳に追加
メタルマスクの製造方法、メタルマスク及びメタルマスク印刷版 - 特許庁
SUBSTRATE FOR MASK BLANK, MASK BLANK, AND MASK FOR TRANSFER例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランク、および転写用マスク - 特許庁
MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 - 特許庁
The mask structure 10 has the mask 12 and the mask frame 16.例文帳に追加
マスク構造体10は、マスク12とマスクフレーム16を備える。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD FOR MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK AND TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランク、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF PRINTING MASK, PRINTING MASK MATERIAL AND PRINTING MASK例文帳に追加
印刷用マスクの製造方法、印刷用マスク材、印刷用マスク - 特許庁
MASK BLANK, TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク及び転写用マスク、並びに転写用マスクの製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK, FILM-FORMING APPARATUS USING THE MASK, AND FILM-FORMING METHOD USING THE MASK例文帳に追加
マスク、該マスクを用いた成膜装置、及び、該マスクを用いた成膜方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, MASK FOR EXPOSURE, AND MASK FORMING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK PROTECTOR, MANUFACTURING METHOD OF MASK PROTECTOR AND MASK例文帳に追加
マスク保護装置及びマスク保護装置の製造方法、並びにマスク - 特許庁
METHOD OF CORRECTING MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK, AND MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
マスク補正方法、マスク製造方法および露光用マスク - 特許庁
MASK INSPECTION METHOD, MASK INSPECTION DEVICE AND MASK INSPECTION PROGRAM例文帳に追加
マスク検査方法、マスク検査装置及びマスク検査プログラム - 特許庁
MASK LOADING APPARATUS, MASK SEPARATING APPARATUS, AND MASK LOADING METHOD例文帳に追加
マスク装着装置、マスク分離装置、及び、マスク装着方法 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK FOR EXPOSURE TO LIGHT, AND MASK-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK VAPOR DEPOSITION SYSTEM, VAPOR DEPOSITION MASK AND MASK VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
マスク蒸着装置、蒸着マスクおよびマスク蒸着法 - 特許庁
REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF REFLECTIVE MASK BLANK例文帳に追加
反射型マスクブランク及び反射型マスク、その製造方法 - 特許庁
MASK PATTERN CORRECTION METHOD, EXPOSURE MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁
MASK CORRECTION PROGRAM, MASK CORRECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスク補正プログラム、マスク補正方法およびマスク製造方法 - 特許庁
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