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Phase shiftの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2649件
PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク - 特許庁
ALTERNATING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
交互位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランクス及び位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT INTERFEROMETER例文帳に追加
位相シフト干渉計 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT PHOTOMASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトフォトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT SYNCHRONOUS CIRCUIT例文帳に追加
位相シフト同期回路 - 特許庁
ALTERNATING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
交互式位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT OSCILLATION CIRCUIT例文帳に追加
位相シフト発振回路 - 特許庁
PHASE SHIFT ARITHMETIC CIRCUIT例文帳に追加
位相シフト演算回路 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクおよび位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR DEPOSITING PHASE SHIFT FILM例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びに位相シフト膜の成膜方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスク - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクおよびその位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT TYPE PHOTOMASK BLANK AND PHASE SHIFT TYPE PHOTOMASK例文帳に追加
位相シフト型フォトマスクブランクス及び位相シフト型フォトマスク - 特許庁
The phase shift circuit 211A performs phase shift at 0°, the phase shift circuit 211B performs phase shift at 45° and the phase shift circuit 211C performs phase shift at 90°, and phases are shifted to the phase shift circuit 211H in order in accordance with a rotation angle.例文帳に追加
位相シフト回路211Aは0度、位相シフト回路211Bは45度、位相シフト回路211Cは90度とシフトし、順に位相シフト回路211Hまで回転角度に応じてシフトする。 - 特許庁
PHASE SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHY DEVICE例文帳に追加
位相シフトデジタルホログラフィ装置 - 特許庁
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