「chemical-vapor-deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SUSCEPTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

化学気相成長用サセプタ - 特許庁

ELECTRODE FOR PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

プラズマＣＶＤ用電極 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

化学的気相成長装置 - 特許庁

SUSCEPTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

化学気相蒸着装置用サセプタ及び化学気相蒸着装置 - 特許庁

Disclosed is a method of forming an oxide film using a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) device.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)装置を用いて酸化膜を成膜する方法である。 - 特許庁

PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

プラズマ化学気相堆積装置及びプラズマ化学気相堆積方法 - 特許庁

ROTARY DRUM IN FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND FILM DEPOSITION APPARATUS FOR ATOMIC LAYER CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

原子層堆積法成膜装置における回転ドラムおよび原子層堆積法成膜装置 - 特許庁

METHOD FOR VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM COMPOUND BY CHEMICAL VAPOR PHASE METHOD例文帳に追加

化学気相法によるチタン化物の蒸着方法 - 特許庁

As a method for the vapor deposition may be either physical vapor deposition (PVD) method or chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

蒸着させる方法としては、物理蒸着法（ＰＶＤ）でも化学蒸着法（ＣＶＤ）でもよい。 - 特許庁

SUSCEPTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND HEATING METHOD FOR SUBSTRATE USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

化学気相蒸着装置用サセプタ、化学気相蒸着装置及び化学気相蒸着装置を用いる基板の加熱方法 - 特許庁

METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION WITH THE USE OF HEATING CATALYST BODY, AND APPARATUS FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

加熱触媒体を用いた化学気相堆積方法及び化学気相堆積装置 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GALLIUM INDIUM NITRIDE CRYSTAL LAYER例文帳に追加

窒化ガリウム・インジウム結晶層の気相成長方法 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF RUTHENIUM FILM FOR METAL ELECTRODE APPLICATION例文帳に追加

金属電極用のルテニウム膜の化学気相堆積 - 特許庁

SUSCEPTOR AND CHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION METHOD例文帳に追加

サセプタおよび化学気相成長方法 - 特許庁

SUSCEPTOR AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS INCLUDING THE SAME例文帳に追加

サセプタ及びこれを具備する化学気相蒸着装置 - 特許庁

HYDROGEN PERMEABLE FILM MANUFACTURING APPARATUS USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学気相析出法を用いた水素透過膜製造装置 - 特許庁

PLASMA ELECTRODE AND PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

プラズマ電極及びプラズマ化学気相堆積装置 - 特許庁

PLSMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM HAVING FORK TYPE ELECTRODE例文帳に追加

フォーク型電極を有するプラズマ化学蒸着装置 - 特許庁

METHOD FOR IMPROVING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESSING例文帳に追加

化学的気相堆積処理を改善する方法 - 特許庁

VIEWPORT OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体製造用化学蒸着装置のビューポート - 特許庁

CYCLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF METAL-SILICON CONTAINING FILM例文帳に追加

金属ケイ素含有膜の周期的化学気相堆積 - 特許庁

PLASMA ENHANCED CYCLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON-CONTAINING FILMS例文帳に追加

ケイ素含有膜の周期的プラズマ化学気相堆積 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND ITS DRIVING METHOD例文帳に追加

化学気相成長装置及びその駆動方法 - 特許庁

FILM FORMING METHOD AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

成膜方法及び化学気相蒸着装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

プラズマ化学気相堆積のための方法および装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING OHMIC LAYER BY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

プラズマ化学蒸着によるオーミック層形成方法 - 特許庁

GAS SUPPLY UNIT AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

ガス供給ユニット及び化学気相蒸着装置 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND GAS FLOW PASSAGE DEVICE例文帳に追加

化学的気相成長装置及びガス流路装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

化学的気相成長装置および方法 - 特許庁

CATALYST CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND METHOD OF PRODUCING THIN FILM例文帳に追加

触媒化学蒸着装置及び薄膜の製造方法 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR BARRIER FROM NEW PRECURSOR例文帳に追加

新規な前駆体からの障壁の化学蒸着 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION EQUIPMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

化学気相成長装置および半導体装置 - 特許庁

ORGANOMETALLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND RAW MATERIAL CARBURETOR例文帳に追加

有機金属化学気相堆積装置用原料気化器 - 特許庁

METHOD FOR FORMING COPPER THIN FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学蒸着法による銅薄膜の形成方法 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD FOR COPPER THIN FILM例文帳に追加

銅薄膜の化学的気相成長法 - 特許庁

SUPPORT STRUCTURE OF CATALYST BODY IN CATALYTIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

触媒化学気相成長装置の触媒体支持構造 - 特許庁

METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

金属有機化学気相蒸着装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ALLOY FILM BY CHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION例文帳に追加

化学気相蒸着による合金膜の製造方法 - 特許庁

HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

高密度プラズマ化学気相蒸着装置 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

化学蒸着装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION MULTILAYER SILICON CARBIDE FILM例文帳に追加

化学蒸着法多層ＳｉＣ膜の製造方法 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY MATCHING CIRCUIT MECHANISM OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

化学的気相成長装置の高周波整合回路機構 - 特許庁

GAS WINDOW AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加

ガスウィンドウ及び化学気相成長装置 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE AND METHOD FOR FORMING FILM例文帳に追加

化学的気相成長装置及び成膜方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING IRON SILICIDE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

化学気相析出法による鉄ケイ化物の製造方法 - 特許庁