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compositional mappingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
In an aligner arranged to obtain a desired pattern by projection mapping using a phase shift mask 10, a polarization condition selecting unit 20 for selecting the polarization direction of illumination light with respect to the phase shift mask 10 is provided in parallel with the direction of the compositional side of a pattern formed on the phase shift mask 10 at the time of projection mapping.例文帳に追加
位相シフトマスク10を用いた投影写像によって所望パターンを得るように構成された露光装置において、その投影写像の際に、前記位相シフトマスク10上に形成されたパターンの構成辺の方向と平行になるように、その位相シフトマスク10に対する照明光の偏光方向を選択する偏光状態選択ユニット20を設ける。 - 特許庁
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