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evacuableを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
When a contact hole 13 is to be formed with plasma dry-etching process of an insulation film 11 formed on a silicon substrate 10 within an evacuable chamber, pressure within the chamber (point a) is raised to make small the pressure difference from the pressure at the points (b, c, d, e) within the contact hole 13 under formation.例文帳に追加
減圧可能なチャンバー内でシリコン基板10上の絶縁膜11をプラズマドライエッチング処理してコンタクトホール13を形成する際に、前記チャンバー内(a点)の圧力を、形成されつつあるコンタクトホール13の内部(b,c,d,e点)との圧力差が小さくなるように上昇させる。 - 特許庁
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