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group methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 10679件
METHOD FOR PREPARING HIGH PURITY ETHYNYL GROUP-CONTAINING AROMATIC CARBOXYLIC ACID例文帳に追加
高純度のエチニル基含有芳香族カルボン酸の製造方法 - 特許庁
GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
3族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING LAMINATED LAYER STRUCTURE OF GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
III族窒化物半導体積層構造体の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING CRACK-FREE GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR MATERIAL例文帳に追加
クラックフリーIII族窒化物半導体材料の製造方法 - 特許庁
GROUP MANAGEMENT ELEVATOR CONTROL DEVICE AND ITS HALL CALL REGISTERING METHOD例文帳に追加
群管理エレベーター制御装置およびそのホール呼び登録方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE CONSTITUTING KEY OF GROUP CONTAINED IN DOMAIN例文帳に追加
ドメインに含まれたグループのキーを構成する方法および装置 - 特許庁
EVALUATION ELEMENT GROUP AND EVALUATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加
半導体集積回路の評価素子群および評価方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF P-TYPE GROUP III NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR例文帳に追加
p型III族窒化物系化合物半導体の製造方法 - 特許庁
HYDROCARBON GROUP-CONTAINING GRAFT POLYMER AND ITS PREPARATION METHOD例文帳に追加
炭化水素基含有グラフト重合体およびその製造方法 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR REGISTERING GROUP TO WHICH MOBILE DEVICE BELONGS例文帳に追加
移動機が属するグループを登録するためのシステム及び方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT OF GROUP III NITRIDE COMPOUND例文帳に追加
III族窒化物系化合物半導体素子の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF GROUP III-V COMPOUND SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE例文帳に追加
III−V族化合物半導体発光素子の製造方法 - 特許庁
METHOD OF ELECTROLYZING OXIDE OF GROUP II ELEMENT AND APPARATUS FOR THE SAME例文帳に追加
第2族元素の酸化物の電解方法及びその装置 - 特許庁
MALEIMIDE GROUP-CONTAINING CROSSLINKED POLYMER PARTICLE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マレイミド基含有架橋ポリマー粒子およびその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING GROUP III NITRIDE COMPOUND SEMICONDUCTOR CRYSTAL例文帳に追加
III族窒化物系化合物半導体結晶の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT例文帳に追加
III族窒化物半導体発光素子を製造する方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING POLYESTER RESIN HAVING TERTIARY HYDROXY GROUP例文帳に追加
第3級ヒドロキシル基を有するポリエステル樹脂の製造方法 - 特許庁
SOLID URETODIONE GROUP-CONTAINING POLYADDITION COMPOUND AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加
固体のウレトジオン基含有重付加化合物およびその製法 - 特許庁
To provide an improved method for removing a silyl group from a silyl ether compound.例文帳に追加
シリルエーテル化合物からシリル基を除去する改良方法。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ACETOACETATE GROUP-CONTAINING POLYVINYL ALCOHOL RESIN例文帳に追加
アセト酢酸エステル基含有ポリビニルアルコール系樹脂の製造方法 - 特許庁
SULFOALKOXY GROUP-BEARING POLYARYLENE ETHER SULFONE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加
スルホアルコキシ基を持つポリアリーレンエーテルスルホン及びその製造方法 - 特許庁
(METH)ACRYLOYL GROUP-CONTAINING ROSIN DERIVATIVE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
(メタ)アクリロイル基含有ロジン誘導体およびその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING URETDIONE GROUP-CONTAINING POLYISOCYANATE USING PHOSPHINE CATALYST例文帳に追加
ホスフィン触媒を用いたウレットジオン基含有ポリイソシアネートの製造 - 特許庁
HYDROXY GROUP-BEARING POLYARYLENE ETHER SULFONE AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加
ヒドロキシ基を持つポリアリーレンエーテルスルホン及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING VINYL ETHER POLYMER HAVING CARBOXY GROUP AT TERMINAL例文帳に追加
末端にカルボキシル基を有するビニルエーテルポリマーの製造方法 - 特許庁
AMINO GROUP-HAVING ORGANIC SILICON COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 - 特許庁
GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE, AND SUBSTRATE FOR MANUFACTURING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR例文帳に追加
III族窒化物半導体およびその製造方法、基板の製造方法、III族窒化物半導体製造用基板 - 特許庁
SUPER-HIGH SENSITIVE DETERMINATION METHOD FOR PEPTIDE AND PROTEIN CONTAINING THIOL GROUP例文帳に追加
チオール基含有ペプチド・蛋白質の超高感度定量方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING ORGANIC SILICON COMPOUND HAVING (METH)ACRYLIC FUNCTIONAL GROUP例文帳に追加
(メタ)アクリル官能基含有有機ケイ素化合物の製造方法 - 特許庁
TERMINAL EPOXY GROUP CONTAINING POLYMER, ITS MANUFACTURING METHOD AND ITS APPLICATION例文帳に追加
末端エポキシ基含有重合体、その製造方法及び用途 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING IRON GROUP RARE EARTH BASED ISOTROPIC NANO COMPOSITE MAGNET例文帳に追加
鉄基希土類系等方性ナノコンポジット磁石の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING PERFLUOROPOLYOXYALKYLENE HAVING HYDROXYL TERMINAL GROUP例文帳に追加
ヒドロキシル末端基を有するパーフルオロポリオキシアルキレンの製造方法 - 特許庁
TRIPHENYLENE COMPOUND BEARING SILYLETHYNYL GROUP AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
シリルエチニル基を有するトリフェニレン化合物及びその製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND GROUP-III NITRIDE SEMICONDUCTOR CRYSTAL例文帳に追加
基板製造方法およびIII族窒化物半導体結晶 - 特許庁
MULTIVARIABLE PROCESS CONTROL SYSTEM GROUP AND MULTIVARIABLE PROCESS CONTROL METHOD例文帳に追加
多変数プロセス制御システム群及び多変数プロセス制御方法 - 特許庁
GROUP ENCRYPTION AND DECRYPTION SYSTEM AND METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加
グループ用暗号化及び復号化システム及び方法、並びにプログラム - 特許庁
SIDE-CHAIN ACRYLOYL GROUP-CONTAINING EPOXY RESIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
側鎖アクリロイル基含有エポキシ樹脂及びその製造方法 - 特許庁
BRAKE DRUM MADE OF ALUMINUM GROUP COMPOSITE MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加
アルミニウム基複合材製ブレーキドラム及びその製造方法 - 特許庁
LATENT CARBOXY GROUP-CONTAINING POLYFUMARATE, ITS PRODUCTION METHOD, AND USE例文帳に追加
潜在化カルボキシル基含有ポリフマレート、製造方法および用途 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SOLUBLE ELECTROCONDUCTIVE POLYMER HAVING ACIDIC GROUP例文帳に追加
酸性基を有する可溶性導電性ポリマーの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING APPARATUS OF GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
III族窒化物半導体の製造装置及び製造方法 - 特許庁
POLYMER HAVING AMINO GROUP, AND MANUFACTURING METHOD AND USE OF THE SAME例文帳に追加
アミノ基含有重合体とその製造方法、ならびに用途 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING FOR GROUP III-V NITRIDE BASED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加
III−V族窒化物系半導体基板の製造方法 - 特許庁
FLUOROMETHYL GROUP-CONTAINING HETEROCYCLIC COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
フルオロメチル基含有複素環式化合物及びその製造方法 - 特許庁
GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR OPTICAL ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
III族窒化物半導体光素子およびその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING BIPHENYLCARBONYL CHLORIDE OPTIONALLY HAVING SUBSTITUENT GROUP例文帳に追加
場合により置換基を有する塩化ビフェニルカルボニルの製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF GROUP III NITRIDE SUBSTRATE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
III族窒化物基板の製造方法および半導体装置 - 特許庁
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