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insulat edの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
To provide a method of making the source/drain regions of an insulat ed gate semiconductor device such as a MOS transistor shallower without deteri orating the semiconductor device in productivity in a manufacturing method.例文帳に追加
生産性を低下させることなく、ＭＯＳトランジスタのような絶縁ゲート型の半導体装置におけるソース／ドレイン領域をより浅くする製造方法を提供する。 - 特許庁
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