interface sの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 103件
A device at the downstream side endpoint of the multicast flow of the LAG link directly or indirectly detects an interruption of a multicast flow of a specific (S, G), and switches paths of the flow by directly or indirectly changing a multicast receiving interface on a multicast routing table about the multicast flow and a value of a multicast upstream neighbor address when the flow interruption is detected.例文帳に追加
LAGリンクのマルチキャストフロー下流側端点の装置において、特定の(S,G)のマルチキャストフローの断を直接的または間接的に検出し、同フロー断検出を契機として当該マルチキャストフローに関するマルチキャストルーティングテーブル上のマルチキャスト受信インタフェースとマルチキャスト上流ネイバーアドレスの値を直接的または間接的に変更することにより、当該フローの経路切替を動作させる。 - 特許庁
In the semiconductor device 100, a surface 10a has a specific plane orientation, and a sulfide of 30×10^10 to 2,000×10^10 pcs./cm^2 in terms of S conversion and an oxide of 2 to 20 at% in terms of O conversion exist in a surface layer 12, thereby preventing C from piling up in an interface between an epitaxial layer 22 and the group III nitride semiconductor substrate 10.例文帳に追加
半導体デバイス100では、表面10aが特定の面方位を有した上で、S換算で30×10^10個/cm^2〜2000×10^10個/cm^2の硫化物、及び、O換算で2at%〜20at%の酸化物が表面層12に存在することにより、エピタキシャル層22とIII族窒化物半導体基板10との界面においてCがパイルアップすることを抑制できる。 - 特許庁
The semiconductor device 100 comprises a surface-mounted diode 100d which has an n conduction type impurity diffusion region 12 and a p conduction type impurity diffusion region 13 arranged adjacently to each other in the surface layer of a semiconductor substrate 11, and which is structured by forming a pn junction S at the interface between the n conduction type impurity diffusion region 12 and p conduction type impurity diffusion region 13.例文帳に追加
半導体基板11の表層部において、隣接して配置されるn導電型不純物拡散領域12とp導電型不純物拡散領域13とを有し、n導電型不純物拡散領域12とp導電型不純物拡散領域13の界面でPN接合部Sが形成されてなる表面型ダイオード100dを備える半導体装置100とする。 - 特許庁
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