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layer methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 36897件
DUST TREATING AGENT, PEELING METHOD OF DUST GENERATION LAYER, AND ELIMINATION METHOD OF SUSPENDING DUST例文帳に追加
粉塵処理剤、粉塵発生層の剥離方法及び浮遊粉塵の除去方法 - 特許庁
Furthermore, the method includes the MEA using the multi-layer PEM created by the method.例文帳に追加
さらに、上記方法で作成した多層PEMを用いたMEAを含んでいる。 - 特許庁
METHOD OF APPLYING COATING LIQUID AND METHOD OF PRODUCING METAL PLATE HAVING MULTI-LAYER COATING FILM例文帳に追加
塗液の塗布方法および複層塗膜を備える金属板の製造方法 - 特許庁
FORMATION METHOD FOR INSULATING LAYER AND CONNECTING HOLE AS WELL AS WIRING STRUCTURE AND ITS FORMATION METHOD例文帳に追加
絶縁層及び接続孔の形成方法、配線構造及びその形成方法 - 特許庁
MULTI-LAYER PRINTED WIRING BOARD, ITS PRODUCTION METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING LAMINATED SHEET例文帳に追加
多層プリント配線板及びその製造方法並びに積層板の製造方法 - 特許庁
COIL-INCORPORATED MULTI-LAYER SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR LAMINATED COIL例文帳に追加
コイル内蔵多層基板及びその製造方法並びに積層コイルの製造方法 - 特許庁
REINFORCEMENT METHOD OF EXISTING REVETMENT STRUCTURE BY MECHANICAL STIRRING DEEP LAYER MIXING METHOD例文帳に追加
機械式撹拌深層混合処理工法による既設護岸構造の補強工法 - 特許庁
THIN FILM MAGNETIC HEAD, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR FORMING MAGNETIC LAYER PATTERN例文帳に追加
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法、並びに磁性層パターンの形成方法 - 特許庁
METHOD FOR RETRANSFERRING SEMICONDUCTOR THIN LAYER AND METHOD FOR PRODUCING DONOR WAFER FOR USE THEREIN例文帳に追加
半導体薄層の移し換え方法とそれに使用するドナーウエハの製造方法 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, LOWER LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成方法、下層膜形成組成物、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF FUEL CELL AND MANUFACTURING METHOD OF DIFFUSION LAYER FOR FUEL CELL例文帳に追加
燃料電池の製造方法および燃料電池用拡散層の製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING POLYCRYSTAL LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
多結晶層の形成方法、半導体装置の製造方法、及び半導体装置 - 特許庁
FORMING METHOD OF PATTERNED CONDUCTOR LAYER, MANUFACTURING METHOD OF CIRCUIT BOARD AND CIRCUIT BOARD例文帳に追加
パターン化導体層の形成方法、回路基板の製造方法および回路基板 - 特許庁
GAS DIFFUSION LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND FUEL CELL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
ガス拡散層及びその製造方法、並びに、燃料電池及びその製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING BARRIER LAYER OF ORGANIC EL ELEMENT, AND METHOD OF MANUFACTURING ORGANIC EL ELEMENT例文帳に追加
有機EL素子のバリア層の形成方法および有機EL素子の製造方法 - 特許庁
Manufacturing method of a semiconductor device uses this forming method of a semiconductor layer.例文帳に追加
およびこの半導体層の形成方法を用いた半導体装置の製造方法。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROLYTE LAYER OF FUEL BATTERY, AND METHOD FOR MANUFACTURING FUEL BATTERY例文帳に追加
燃料電池用電解質層の製造方法及び燃料電池の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR CONTROLLING THICKNESS OF DAM FILTER MATERIAL STORAGE LAYER IN DAM FILTER MATERIAL PRODUCING METHOD例文帳に追加
ダムフィルター材製造方法に於けるダムフィルター材の貯留層厚制御方法 - 特許庁
Further, the piezoelectric layer 22 may be formed by using a spraying method or an aerosol deposition method.例文帳に追加
なお圧電層22は、吹付法又はエアロゾルデポジション法により形成されても良い。 - 特許庁
METHOD OF DILUTING ALIGNMENT LAYER INK, METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL APPARATUS, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
配向膜インクの希釈方法、液晶装置の製造方法、並びに電子機器 - 特許庁
METHOD FOR FORMING ALIGNMENT LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL APPARATUS, LIQUID CRYSTAL APPARATUS, AND DEVICE例文帳に追加
配向膜の形成方法、液晶装置の製造方法、液晶装置、及びデバイス - 特許庁
METHOD FOR FORMING METAL CONDUCTIVE LAYER, METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE SPRING, AND CONDUCTIVE SPRING例文帳に追加
金属導電層形成方法、導電性ばね形成方法及び導電性ばね - 特許庁
There is also a method of forming a plating layer as the region having low reflectance in addition to the method.例文帳に追加
低反射率領域は、この他にめっき層の形成による方法もある。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING ALUMINUM MEMBER WITH LAYER OF SOLDERING MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING HEAT EXCHANGER例文帳に追加
ろう材層付きアルミニウム部材の製造方法及び熱交換器の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR ESTIMATING DISTRIBUTION OF LAYER THICKNESS OF CHARGED MATERIAL IN BLAST FURNACE AND INSTRUMENT USING THE METHOD例文帳に追加
高炉装入物の層厚分布推定方法及びこの方法を用いた装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING DOPED REGION IN SEMICONDUCTOR LAYER OF SUBSTRATE AND USE OF SUCH METHOD例文帳に追加
基板の半導体層にドープ領域を形成する方法および該方法の使用 - 特許庁
TUNNEL BARRIER LAYER, ITS FORMING METHOD, MTJ ELEMENT, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
トンネルバリア層およびその形成方法並びにMTJ素子およびその製造方法 - 特許庁
MIXTURE LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD AS WELL AS SOLID BATTERY AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
合材層およびその製造方法ならびに固体電池およびその製造方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING SEMICONDUCTOR LAYER, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
半導体層の作製方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE HAVING CONDUCTIVE LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
導電層を有する基板の作製方法、並びに半導体装置の作製方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, FIELD TRANSISTOR, AND SiGe LAYER, AND METHOD OF FORMING DISTORTED Si LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING FIELD EFFECT TRANSISTOR UTILIZING THE FORMING METHOD例文帳に追加
半導体基板と電界効果型トランジスタ並びにSiGe層の形成方法及びこれを用いた歪みSi層の形成方法と電界効果型トランジスタの製造方法 - 特許庁
SPUTTERING DEVICE, SPUTTERING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIN FILM WITH METAL BASE LAYER例文帳に追加
スパッタリング装置、スパッタリング方法及び金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR SURFACE TREATING CIRCUIT BOARD FOR INNER LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER LAMINATE例文帳に追加
内層用回路板の表面処理方法及び多層積層板の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING DIFFUSION LAYER FOR SOLAR CELL, AND METHOD OF MANUFACTURING SOLAR CELL例文帳に追加
太陽電池用拡散層の製造方法および太陽電池セルの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR TREATING COMPOUND SEMICONDUCTOR LAYER SURFACE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
化合物半導体層の表面処理方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
ELECTRODEPOSITION FILM FORMING METHOD, AND DOUBLE-LAYER COATING FILM FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
電着塗膜形成方法およびそれを利用した複層塗膜の形成方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF CATALYST CARRYING DIFFUSION LAYER, AND MANUFACTURING METHOD OF MEMBRANE ELECTRODE ASSEMBLY例文帳に追加
触媒担持拡散層の製造方法、および、膜電極複合体の製造方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING RESIN FILM WITH METAL BASE LAYER AND SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加
成膜方法、金属ベース層付樹脂フィルムの製造方法及びスパッタリング装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR LAYER例文帳に追加
半導体装置の製造方法、半導体装置および半導体層の形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING SEED LAYER, AND CPP-GMR DEVICE, AND METHOD OF FABRICATING SAME例文帳に追加
シード層の形成方法ならびにCPP−GMRデバイスおよびその製造方法 - 特許庁
MULTI-LAYER CONDUCTOR STRUCTURAL BODY AND METHOD FOR ANALYZING THE SAME AND RESONANCE CONTROL METHOD例文帳に追加
多層導体構造体およびその解析方法ならびに共振制御方法 - 特許庁
In this method for forming a BeTe/CdS hetero interface where a ZnSe layer is interposed between a BeTe layer and a CdS layer and a quantum well where the CdS layer is interposed between the BeTe layers, the ZnSe layer is interposed between the BeTe layer and the CdS layer, and an electronic supply substrate is doped to the CdS layer so that the quantum well can be configured.例文帳に追加
BeTe層とCdS層の間に、ZnSe層を介在させるBeTe/CdSヘテロ界面の形成方法、及びCdS層をBeTe層ではさむ構造の量子井戸であって、BeTe層とCdS層の間に、ZnSe層を介在させ、かつCdS層に電子供給物質をドーピングしてなる量子井戸。 - 特許庁
The rust-proofing film includes at least an outer layer having a water vapor barrier resin layer and an oxygen barrier resin layer and an inner layer which has a heat fusing resin layer containing the vapor phase corrosion inhibitor where the outer layer and the inner layer are lamination-integrated so as to form a multilayer resin layer by a coextrusion method.例文帳に追加
少なくとも、水蒸気バリア樹脂層と酸素バリア樹脂層とを有する外層と、気化性防錆剤を含有する熱融着性樹脂層からなる内層とから構成され、前記外層と前記内層とが共押し出し法で積層一体化された多層樹脂層から成る。 - 特許庁
MASK FORMING METHOD, FUNCTIONAL LAYER FOR MASK FORMATION, DRY ETCHING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加
マスク形成方法、マスク形成用機能層、ドライエッチング方法および情報記録媒体製造方法 - 特許庁
METHOD OF SORTING ACTUATOR, METHOD OF MEASURING THICKNESS OF ACTIVE LAYER, METHOD OF MANUFACTURING RECORDING HEAD, AND RECORDER例文帳に追加
アクチュエータの分類方法、活性層の厚み測定方法、記録ヘッドの製造方法、及び、記録装置 - 特許庁
The phase change layer can be formed by using a MOCVD method, cyclic-CVD method or an ALD method.例文帳に追加
相変化層は、MOCVD、サイクリック−CVD及びALDのうちいずれか一方式で形成しうる。 - 特許庁
FORMING METHOD OF PATTERN OF MAGNETIC LAYER, MANUFACTURING METHOD OF MAGNETORESISTIVE ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF MAGNETIC STORAGE MEDIUM例文帳に追加
磁性層パターンの形成方法、磁気抵抗素子の製造方法、及び磁気記憶媒体の製造方法 - 特許庁
BACKING WATER-PROOF CONSTRUCTION METHOD, STRUCTURE CONSTRUCTED BY THE METHOD, AND PRIMER FOR ADHESIVE LAYER USING THE METHOD例文帳に追加
基材防水工法および該工法による構造体、ならびに該工法に用いる接着剤層用プライマー - 特許庁
METHOD OF REMOVING AZO DISULFONIC ACID, METHOD OF FORMING PLATING FILM, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC CERAMIC MULTI-LAYER COMPONENT例文帳に追加
アゾジスルホン酸の除去方法、めっき膜の形成方法および積層セラミック電子部品の製造方法 - 特許庁
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