「layer method」に関連した英語例文の一覧と使い方(737ページ目) - Weblio英語例文検索

In the plate making method, a photosensitive planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer containing a compound having at least one addition polymerizable ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiator on a support is exposed and developed with the developing solution.例文帳に追加

Ａ−Ｗ （Ｉ） （式中、ＡはA-HのlogPが１．５以上の疎水性有機基を表し、ＷはW-HのlogP が１．０未満の非イオン性の親水性有機基を表す。）；付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物及び光重合開始剤を含有する光重合性感光層を支持体上に有する感光性平版印刷版を露光後、上記の現像液によって現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

A method of diffusing impurities into crystal silicon particles has process of forming silica glass containing impurities for a second conductive semiconductor on the surface of crystal silicon particles by introducing an impurity gas containing oxygen while inputting a great amount of first conductive crystal silicon particles into a diffusion pipe to make stir and process of forming a second conductive silicon layer by making impurities diffuse on the surface of the crystal silicon.例文帳に追加

結晶シリコン粒子への不純物の拡散方法は、拡散管内に多数の第１導電型の結晶シリコン粒子を入れて攪拌させながら酸素を含んだ不純物ガスを導入することによって、結晶シリコン粒子の表面に第２の導電型用の不純物を含有した珪酸ガラスを形成する工程と、結晶シリコン粒子の表面に不純物を拡散させて第２の導電型のシリコン層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

A plurality of times of engraving can be conducted to the same resin by a photolithographic method by using a positive type photosensitive polyimide resin material to an insulating layer 21, mask formation by a resist in a solder ball forming process and a rear etching process in the manufacture can be omitted, processes can be simplified, and a material used can be decreased, and manufacturing cost can be reduced.例文帳に追加

絶縁層２１にポジ型の感光性ポリイミド樹脂材料を使用することで、フォトリソグラフィー法によって同一の樹脂に対して複数回の製版を行うことが可能であり、従来の製造方法における半田ボール形成工程、裏面エッチング工程時のレジストによるマスク形成を省略することができるので、工程を簡略化でき、かつ使用する材料を減らすことができるので、製造コストの大幅な低減を図ることができる。 - 特許庁

To provide coating liquid for electrophotographic photosensitive body intermediate layer which causes no defective coating film, has an excellent coating property and exhibits satisfactory stability by using titanium oxide which has the specified particle size and rutile content, etc., an electrophotographic photosensitive body produced by using the same and an electrophotographic method, electrophotographic device and process cartridge for electrophotographic device using the electrophotographic photosensitive body.例文帳に追加

電子写真感光体の中間層用塗工液において、粒径、ルチル含有率等を特定した酸化チタンを用いることにより、塗膜欠陥がなく塗工性に優れてかつ良好な安定性を示す電子写真感光体中間層用塗工液、及びそれを用いて製造した電子写真感光体、及びその感光体を用いた電子写真方法、電子写真装置および電子写真装置用プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

In the producing method of a lithographic printing plate, the master plate is exposed to laser light to form an image and then the exposed part in the recording layer is removed in a printing machine.例文帳に追加

親水性表面を有する支持体の上に、（ａ）側鎖に熱により疎水性から親水性に変化する官能基と親水性官能基を有する疎水性高分子化合物と（ｂ）レーザー光を吸収して熱に変換しうる光吸収剤を含有する層を有する平版印刷版用原版、および、この原版を、レーザー露光により画像様に露光した後、露光部記録層を印刷機上で除去することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 特許庁

The method for producing the polyimide resin film for an optical part includes a process for applying the polyimide precursor solution on the surface of a support, a process in which the solvent of the applied solution is removed by heating to form a polyimide precursor coating film of a desired thickness, and a process in which the coating film is subjected to heat treatment to form a polyimide resin layer by converting the precursor into the polyimide.例文帳に追加

支持体表面へのポリイミド前駆体溶液を塗布する工程と、前記ポリイミド前駆体塗布膜中の溶剤の加熱除去を行い所望の膜厚のポリイミド前駆体塗膜を形成する工程と、この溶剤が除去されたポリイミド前駆体塗膜に熱処理を施し前記ポリイミド前駆体をイミド化してポリイミド樹脂層を形成する工程を有することを特徴とする光部品用ポリイミド系樹脂膜の製造方法。 - 特許庁

In a method for providing an image to an imagewise exposed sliver halide photographic material including at least one silver halide emulsion layer, the silver halide is developed and the residual silver halide is fixed by bringing a molten composition containing a silver halide complexing agent in an amount enough to substantially remove the residual silver halide into contact with the residual silver halide.例文帳に追加

少なくとも１つのハロゲン化銀乳剤層を含んで成る、像様露光されたハロゲン化銀写真材料に画像を提供する方法であって、ハロゲン化銀を現像し、そして残存しているハロゲン化銀に、当該残存しているハロゲン化銀を実質的に除去するのに十分な量で存在するハロゲン化銀錯化剤を含む溶融組成物を接触させることにより当該残存しているハロゲン化銀を定着することを含む方法。 - 特許庁

This method comprises processes for: alternately laminating multiple semiconductor layers with different etching rates; patternizing the laminated semiconductor layers through the dedicated masks; selecting and etching at least one kind of semiconductor layer to form an air gap and forming a mesa structure made up of residual semiconductor layers; and evaporating the materials with good thermal conductivity to pad the air gap.例文帳に追加

半導体基板上にエッチング比の異なる２種以上の半導体層を交互に積層する工程と、所定のマスクを用いて、積層された半導体層をパターニングする工程と、少なくとも１種以上の半導体層を選択エッチングしてエアギャップを形成することにより、残留した半導体層からなるメサ構造が形成されるようにする工程と、エアギャップが埋め込まれるように、伝熱特性の良好な物質を蒸着する工程とを含む。 - 特許庁

In a dry etching method, first reaction gas containing hydrogen and second reaction gas containing fluorine are brought into contact with a heating element 110 formed of nickel to generate hydrogen radicals and fluorine radicals, the hydrogen radicals and the fluorine radicals are reacted with the first reaction gas and the second reaction gas to generate etching gas, and a silicon oxide layer on a substrate is etched with the etching gas.例文帳に追加

本実施形態のドライエッチング方法は、水素を含む第１の反応ガスとフッ素を含む第２の反応ガスとをニッケルで形成された加熱体１１０に接触させることで、水素ラジカルとフッ素ラジカルとをそれぞれ生成し、前記水素ラジカルおよび前記フッ素ラジカルと、前記第１の反応ガスおよび前記第２の反応ガスとを反応させることでエッチングガスを生成し、前記エッチングガスによって基板上のシリコン酸化物層をエッチングする。 - 特許庁

The method according to the present invention includes stages of: resetting the MAC-ehs entity; delivering all reordering PDUs (protocol data units) stored in the plurality of reordering queues to a plurality of reassembly entities for performing a reassembly process to deliver complete PDUs to an upper layer entity; and discarding all PDU segments still existing in the plurality of reassembly entities.例文帳に追加

本発明による方法は、リセット要求指令を受信し、ＭＡＣ−ｅｈｓプロトコルエンティティーをリセットする段階と、前記複数のリオーダー待ち行列に保存されたすべてのリオーダーＰＤＵ（プロトコルデータユニット）を前記複数の再組み立てプロトコルエンティティーに伝送して再組み立てをし、完全なＰＤＵを上位層プロトコルエンティティーに伝送する段階と、前記複数の再組み立てプロトコルエンティティーの中で残存のＰＤＵセグメントをすべて廃棄する段階とを含む。 - 特許庁

To provide a stripping and cleaning agent for fixtures for painting which is a water-based agent, solves the problems associated with the conventional organic solvent-based agents, forms a coated layer of a non-sticky, uniform and dense water-insoluble inorganic compound and exhibits a high level stripping and cleaning performance and a pretreatment and cleaning method of fixtures for painting using the stripping and cleaning agent.例文帳に追加

従来の有機溶剤系の剥離洗浄剤の有する課題を解決できる水系の剥離洗浄剤であって、べたつきがない均一且つ緻密な水不溶性無機化合物の付着層を形成することができ、高水準の剥離洗浄性を達成することが可能な塗装用治具類の剥離洗浄剤、並びに、その剥離洗浄剤を用いた塗装用治具類の前処理方法及び洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

By this net list extracting method, information on connections among elements is extracted from a layout pattern, designed so that blocks have hierarchical structure, while the hierarchical structure is held; and a dummy element is formed between input and output terminals in a block positioned in a specific layer (step S25) and then only the input and output terminals are extracted without extracting elements in the block.例文帳に追加

複数のブロックが階層構造を有するように設計されたレイアウトパターンから、階層構造を保持したまま素子間の接続情報を抽出する集積回路のネットリスト抽出方法であり、所定の階層に位置するブロックに対して、このブロック内の入出力端子間に擬似の抵抗素子を形成することにより（ステップＳ２５）、前記ブロック内の素子を抽出することなく、前記入出力端子のみ抽出を行う。 - 特許庁

A method for manufacturing organic EL devices comprises a first step for heating an inorganic laminated element including a substrate and a hale charging electrode formed on one side thereof, and processing the application of bias voltage on the inorganic laminated element, and a second step for forming another laminated element including an organic emissive layer and an electron injection electrode at the opposite side to the substrate of the hale charging electrode subsequent to the first step.例文帳に追加

上記課題を解決する本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、基板及びその一側に形成されたホール注入電極を備える無機積層体を加熱して、その無機積層体にバイアス電圧の印加処理を行う第１工程と、第１工程の後にホール注入電極の基板と反対側に有機発光層及び電子注入電極を備える積層体を形成する第２工程とを有するものである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of realizing an SOI integrated circuit of a complete depleting operation and low parasitic resistance, minimizing the damage of the SOI layer surface of a channel formation part while provided with a recess structure, minimizing a crystal defect while suppressing stress even at the end part of a channel region and suppressing the generation of a leakage current due to it, and provide its manufacturing method.例文帳に追加

完全空乏化動作及び低寄生抵抗のＳＯＩ集積回路を実現することができ、リセス構造を有しながら、チャネル形成部のＳＯＩ層表面のダメージを最小限に抑えることができ、チャネル領域の端部においても、応力を抑制しながら、結晶欠陥を最小限に止め、それに起因するリーク電流の発生を抑えることができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This method for producing the phenolic dimer comprises a first process of flowing a solution containing at least 1 kind of di-substituted phenol selected from a dialkylphenol having 1-4C alkyl and a dialkoxyphenol having 1-4C alkoxy in an aqueous medium through a column having an enzyme-filled layer immobilizing an oxidase to perform an enzymatic reaction and a second process of adding a reducing agent.例文帳に追加

オキシダーゼを固定化した酵素充填層を有するカラム中に、炭素数１〜４のアルキル基を有するジアルキルフェノール及び炭素数１〜４のアルコキシ基を有するジアルコキシフェノールからなる群から選ばれた少なくとも一種のジ置換フェノールを水性媒質中に含有させた溶液を流し、カラム中で酵素反応を行う第一工程と、還元剤を添加する第二工程を有することを特徴とするフェノール類２量体の製造方法 - 特許庁

The method for producing the optical fiber includes applying a resin composition containing a solvent around a drawn glass fiber, heating the resulting fiber through a heating furnace 12 for volatilization to volatilize the solvent, and heating the resulting fiber through a heating furnace 13 for curing to cure the resin composition to form a resin coating layer.例文帳に追加

線引きされたガラスファイバ１の周囲に溶剤を含む樹脂組成物を塗布し、さらに揮発用加熱炉１２内を通して加熱して溶剤を揮発させた後、硬化用加熱炉１３内を通して加熱して樹脂組成物を硬化させて樹脂被覆層を形成する光ファイバの製造方法であって、揮発用加熱炉１２における軸方向の加熱温度分布として、「Ｔ_ＡＶＥ１＞Ｔ_０＞Ｔ_ＡＶＥ２」の関係を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method for the optical retardation plate having a transparent support, the alignment film formed of a polymer having a polymerizable group, and at least one optical anisotropic layer where a photosetting rod-type liquid crystal compound is fixed by polymerization in a state wherein it is aligned substantially horizontally to the alignment film surface includes a high-temperature light irradiating process of light irradiation within a temperature range of 60 to 130°C.例文帳に追加

透明支持体、重合性基を有するポリマーからなる配向膜、および光硬化型棒状液晶性化合物が配向膜面に対し実質的に水平に配向した状態に重合により固定された少なくとも１層の光学異方性層を有する位相差板の製造方法であって、温度６０℃以上１３０℃以下で光照射を行う高温光照射工程を含む位相差板の製造方法である。 - 特許庁

A solar cell manufacturing method includes the steps of coating a front surface of a semiconductor substrate with a dispersing agent containing either a p-type dopant or an n-type dopant, performing heat treatment on the dispersing agent to solidify the dispersing agent, partially removing and patterning the solidified dispersing agent, and dispersing the dopant from the patterned dispersing agent to form a dispersion layer on the front surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面上にｐ型ドーパントまたはｎ型ドーパントのいずれか一方を含む拡散剤を塗布する工程と、拡散剤を熱処理することによって固化させる工程と、固化した拡散剤の一部を除去して拡散剤をパターンニングする工程と、パターンニングされた拡散剤からドーパントを拡散させることにより半導体基板の表面に拡散層を形成する工程と、を含む、太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

The hydrophilic coating film is formed by successively forming a coating film of metal oxide A having a function as a photodegradation catalyst and a coating film of polysiloxane B having silicon atom bonded with a ≥5C fluoroalkyl group to prepare a multilayer coating film and after that, irradiating the multilayer coating film with active energy beam and the coated article is provided with the hydrophilic coating film formed by the method as the top coat layer.例文帳に追加

基材上に、光分解触媒としての機能を有する金属酸化物（Ａ）の皮膜と、炭素数が５以上のフルオロアルキル基が結合した珪素原子を有するポリシロキサン（Ｂ）の皮膜を順次形成せしめて複層皮膜を調製した後、当該複層皮膜に活性エネルギー線を照射する親水性皮膜の形成方法、および、この方法により形成される親水性皮膜をトップコート層として設けてなる塗装物品。 - 特許庁

The recording is performed to the recording medium, in which the ink absorbing layer having the voids is formed on the support, by using the ink including the core/shell type colored fine particle dispersion, in which fine particles including a coloring material made of a resin including the coloring material is coated with a resin without including the coloring material, in the inkjet recording method.例文帳に追加

支持体上に空隙を有するインク吸収層を形成した記録媒体に、色材を含有する樹脂からなる色材含有微粒子を色材を含有しない樹脂にて被覆したコアシェル型着色微粒子分散物を含有するインクを用いて記録を行うインクジェット記録方法において、前記空隙の平均空隙径と前記コアシェル型着色微粒子分散物の平均粒径が式Ａを満たすことを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

A method for inspecting a semiconductor wafer which has a film to form device structures, including device patterns and may have crystal defects, comprises a process of exposing the crystal surface of the semiconductor wafer, by removing the device structure film with a chemical solution, a process of making apparent any crystal defects by selectively removing the surface layer of the semiconductor wafer through selective etching, and a process of quantitatively evaluating the crystal defects.例文帳に追加

デバイスパターンを含むデバイス構造を構成する膜を備え、結晶欠陥を有することがある半導体ウェーハを検査する方法において、上記デバイス構造膜を薬液で除去して半導体ウェーハの結晶表面を露出させる工程と、選択エッチングにより半導体ウェーハの表面層を選択的に除去して上記結晶欠陥を顕在化する工程と、上記結晶欠陥を定量的に評価する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the nonvolatile memory cell comprises the steps of: forming a tunnel oxide film, a floating gate electrode, a dielectric film, and a control gate electrode; forming a source and drain region by processing a source/drain ion implantation; forming an oxide layer on the source and drain region by selectively processing oxidation; and forming a spacer on the both sides of the floating gate electrode and the control gate electrode.例文帳に追加

半導体基板上部にトンネル酸化膜、フローティングゲート電極、誘電体膜及びコントロールゲート電極を形成する段階と、ソース／ドレインイオン注入工程を行ってソース及びドレイン領域を形成する段階と、選択的酸化工程を行って前記ソース及びドレイン領域上に酸化層を形成する段階と、前記フローティングゲート電極及びコントロールゲート電極の両側面にスペーサを形成する段階とを含んでなる。 - 特許庁

The method for performing integrity protection includes receiving a concatenated message including a NAS message, a first MAC code of the NAS message, a RRC message and a second MAC code of the concatenated message, performing an integrity protection procedure for the concatenated message, and discarding the RRC message and NAS message and not delivering the NAS message to an upper layer when the second MAC code does not pass the integrity protection procedure.例文帳に追加

方法は、ＮＡＳメッセージと、該ＮＡＳメッセージの第一ＭＡＣコードと、ＲＲＣメッセージと、連結メッセージの第二ＭＡＣコードを含んだ連結メッセージを受信する段階と、上記連結メッセージに対して完全性保護プロセスを実行する段階と、上記第二ＭＡＣコードが完全性保護プロセスを通過しなかった場合にＲＲＣメッセージとＮＡＳメッセージを削除し、ＮＡＳメッセージを上位層に送信しない段階とを含む。 - 特許庁

To provide coating for a component which firstly contacts with a liquid silicon and thereafter a silicon which is recrystallizing, in which bonding or baking is certainly inhibited even during handling relatively a lot of melt, and the action of the liquid silicon to a relatively large component area is certainly inhibited over a long contact time relating to a melting pot with silicon protective layers, a method for applying such a layer and the use thereof.例文帳に追加

シリコン保護層を有する溶融ポット、このような層を適用する方法及びその使用に関し、最初に液体シリコンそして後に再結晶しつつあるシリコンと接触する部品のためのコーティングであって、相対的に多量の溶融物の取り扱い中でさえ接着又はベーキングを確実に防止しそして長い接触時間にわたり相対的に大きい部品面積に対する液体シリコンの作用を確実に防止するコーティングを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the field emission type emitter electrode comprises a step for providing a carbon nanotube mixture having a viscosity of 50 to 100 cps in which the carbon nanotubes and a conductive polymer are dispersed into deionized water; a step for applying the carbon nanotube mixture on a substrate; and a step for heat-treating a prescribed carbon nanotube mixture so that the conductive polymer layer containing the carbon nanotubes are formed of the applied carbon nanotube mixture.例文帳に追加

炭素ナノチューブと伝導性ポリマーを脱イオン水に分散させ粘度が50〜100cpsの炭素ナノチューブ混合液を設ける段階と、基板上に上記炭素ナノチューブ混合液を塗布する段階と、上記塗布された炭素ナノチューブ混合液から炭素ナノチューブが含まれた伝導性ポリマー層が形成されるよう上記炭素ナノチューブ混合液を熱処理する段階とを含む電界放出エミッタ電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

An organic semiconductor layer 7 is formed by applying an organic semiconductor solution, produced by dissolving an organic semiconductor material in a solvent, by ink jet method so that an edge 71 of the organic semiconductor solution thus applied is located between a source electrode 5 and a drain electrode 6, and the center of an application region is located at a position shifted from the just intermediate position between the source electrode 5 and the drain electrode 6.例文帳に追加

有機半導体層７は、インクジェット法によって、有機半導体材料を溶媒に溶解した有機半導体溶液を塗布して形成され、塗布された有機半導体溶液の縁部７１が、ソース電極５とドレイン電極６間に配置されるように、ソース電極５とドレイン電極６間のちょうど中間位置よりずらした位置に、塗布領域の中心が位置するように、有機半導体溶液を塗布することを特徴とする。 - 特許庁

In the method for processing the silver halide color photosensitive material, the silver halide color photosensitive material having at least one image forming layer on a support is processed through at least a color developing step, a bleaching step and a washing step or a stabilizing step, wherein a color developer used in the color developing step contains a compound represented by formula (1).例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層の画像形成層を有するハロゲン化銀カラー感光材料を、少なくとも発色現像工程、漂白定着工程、水洗工程または安定化工程を経て処理するハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法において、該発色現像工程で用いる発色現像液が、下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法。 - 特許庁

The manufacturing method comprises forming first trenches into a one conductivity type semiconductor substrate 1, forming side wall spacers 5 of a first insulation layer along the side walls of the first trenches, forming second trenches 6 into the bottom faces of the first trenches, and filling a second insulation film into the first and second trenches 6.例文帳に追加

本発明の請求項１に係る半導体装置の製造方法は、一導電型の半導体基板１に第一のトレンチ４を形成する工程と、第一のトレンチ４の側壁に沿って第一の絶縁膜からなるサイドウォールスペーサ５を形成する工程と、第一のトレンチ４の底面に第二のトレンチ６を形成する工程と、第一及び第二のトレンチ４，６の内部に第二の絶縁膜７を充填する工程とを含んでいることを特徴とする。 - 特許庁

In a foaming injection-molding method of a foamed molded product by injecting a foamable resin into a cavity 13 formed between a fixed mold and movable molds 11 or between the movable molds 11, the surface facing to the cavity 13 of at least one of the fixed mold and the movable molds 11 is coated with a heat-resistant resin or a ceramic as a heat insulation layer 9.例文帳に追加

固定金型と可動金型１１との間、或いは可動金型１１間に形成されるキャビティ１３内に発泡性樹脂を射出して発泡成形品を成形する発泡射出成形方法において、該固定金型と可動金型１１のうち少なくとも一方の金型のキャビティ１３に面する面に断熱層９として耐熱性樹脂或いはセラミックをコーティングした金型を用いる発泡射出成形方法である。 - 特許庁

The method for producing a percutaneous absorption path containing fentanyl or its salt as an active component, a rubber component as an adhesive base material and a rosin-based resin as a tackifier in a plaster layer comprises a step to obtain a plaster composition by treating a rosin-based resin with an antioxidation agent and mixing the treated rosin with a rubber component and fentanyl or its salt.例文帳に追加

膏体層中に有効成分としてフェンタニルまたはその塩、粘着基剤としてゴム成分、および粘着付与剤としてロジン系樹脂を含有する経皮吸収型貼付剤の製造方法であって、あらかじめ抗酸化剤により処理したロジン系樹脂を、ゴム成分およびフェンタニルまたはその塩と混合して膏体組成物を得る工程を含むことを特徴とする経皮吸収型貼付剤の製造方法である。 - 特許庁

In the method for manufacturing the multilayer wiring boards having structure where an adhesive containing at least an epoxy curing constituent is included, a polyimide-based insulating material having a conductor layer is laminated, and the conductor layers are connected by metal plating provided in the through and blind via holes, a treatment using a liquid containing at least imidazole compound is included in pretreatment for performing metal plating to the through or blind via hole.例文帳に追加

少なくともエポキシ硬化成分を含有してなる接着剤を介在せしめて、導体層を有するポリイミド系絶縁材料を積層してなり、導体層間をスルーホールもしくはブラインドビアホールに施した金属めっきにより接続する構造を有する多層配線基板の製造方法において、スルーホールもしくはブラインドビアホールに金属めっきを施す前処理として、少なくともイミダゾール類化合物を含有する処理液にて処理する工程を含む。 - 特許庁

This image forming method includes a step for emitting flashlight to color toner containing at least a binding resin, a coloring material, an infrared absorbent to a fix a toner layer formed on a recording medium.例文帳に追加

少なくとも結着樹脂、着色剤、赤外光吸収剤を含むカラートナーにフラッシュ光を照射して記録媒体上に形成されたトナー層を定着させる工程を含む画像形成方法であって、光音響分光（ＰＡＳ）分析測定に基づいて得られる赤外ＰＡＳスペクトルを８００〜２０００ｎｍの範囲で積分した該カラートナーのＰＡＳ強度Ｓと該トナーの基準温度における溶融粘度ρとフラッシュ光のエネルギーＥとが、関係式（２）を満たすフラッシュ定着工程を含んでいる。 - 特許庁

An insulating layer is formed of a positive photosensitive polyimide resin material, the same resin can undergo photoengraving a few times through a photolithographic method, and the formation of resist masks in a solder ball forming process and a rear etching process in a conventional manufacturing process can be dispensed with, so that a semiconductor device circuit member can be simplified in manufacturing process markedly reducing the manufacturing cost.例文帳に追加

絶縁層２１にポジ型の感光性ポリイミド樹脂材料を使用することで、フォトリソグラフィー法によって同一の樹脂に対して複数回の製版を行うことが可能であり、従来の製造方法における半田ボール形成工程、裏面エッチング工程時のレジストによるマスク形成を省略することができるので、工程を簡略化でき、かつ使用する材料を減らすことができるので、製造コストの大幅な低減を図ることができる。 - 特許庁

To provide a method for producing retort food comprising masking resin smell of a container so as to keep the flavor of food favorable as it is without making the resin smell get into the food, even if a container composed of a multilayer structure having an oxygen-absorbing layer is used for the retort food, and also even if the retort food is stored for a long time.例文帳に追加

本発明では、レトルト食品に酸素吸収層を設けた多層構造体からなる容器を用いた場合であっても、容器の樹脂臭をマスキングすることにより、樹脂臭が食品に移ることなく食品の風味が良好のまま維持され、さらにレトルト食品を長期保管したとしても樹脂臭が食品に移ることなく食品の風味が良好なまま維持されているレトルト食品を製造すること、を課題とする。 - 特許庁

In the method of forming the coating layer by applying a coating liquid supplied from the coater having the storage part of the coating liquid, on a base material, a coating film comprising an inorganic material and an organic material is formed on at least a part of the inside surface of the storage part and the coating liquid contains a conductive fine particles and a photo-polymerization initiator having an α-amino ketone structure.例文帳に追加

塗布液の貯留部を有する塗工機から供給される塗布液を基材上に塗布する、塗布層の形成方法において、 前記貯留部が、その内側表面の少なくとも一部に、無機材料と有機材料とからなる被膜が形成されたものであり、 前記塗布液が、導電性微粒子及びα−アミノケトン構造を有する光重合開始剤を含有するものであることを特徴とする、塗布層の形成方法。 - 特許庁

In the catalyst carrier for purifying exhaust gas that includes a catalyst structure 1 on which a metal catalyst for purifying exhaust gas is supported, the catalyst structure 1 is made by baking a sheet-shaped structure obtained by a wet sheet making method and then forming a catalyst layer on the surface to support a metal catalyst, and obtained in a manufacturing process where a metal catalyst support process S7 is performed after a baking process S6.例文帳に追加

排気ガスを浄化するための金属触媒を担持した触媒構造体１から成る排気ガス浄化用触媒担体において、触媒構造体１は、湿式抄造法にて得られたシート状構造体を焼成した後、表面に触媒層を形成することにより金属触媒が担持されて成るものであり、焼成工程Ｓ６の後に金属触媒担持工程Ｓ７が行われる製造工程にて得られたものである。 - 特許庁

In the method for producing the ceramic molded article: a ceramic and/or a precursor particle thereof is dispersed; using a desired form of molding electrode in which a conductive layer is formed in a mold, the ceramic and/or precursor particle is deposited onto the electrode by electrophoresis to form a precursor of molded article in an organic solvent-dispersed liquid containing an acidic phosphate and polyethylenimine; and then the precursor is sintered.例文帳に追加

そのセラミックス製成形体の製造方法は、セラミックス及び／又はその前駆体粒子を分散し、酸性リン酸エステル及びポリエチレンイミンを含有する有機溶媒分散液中で、成形型に導電層を形成した所望の形状の成形体用電極を用いて、電気泳動により前記電極にセラミックス及び／又はその前駆体粒子を堆積させて成形体前駆体を形成し、次いで前記前駆体を焼結させることを特徴とする。 - 特許庁

In a metallization polyimide film having two or more metal layers including at least a metal layer principally comprising Cu formed on at least one side of a polyimide film, surface metal index Asm calculated by IR-ATR method is ≥0.001 on the surface of the polyimide film after the metallization polyimide film is treated with sulphuric acid/hydrogen peroxide based etching reagent, and he surface resistivity is ≥1×10^13 Ω.例文帳に追加

ポリイミドフィルムの少なくとも片面に少なくともＣｕを主体とする金属層を含む二層以上の金属層が形成された金属被覆ポリイミドフィルムにおいて、該金属被覆ポリイミドフィルムを硫酸／過酸化水素系エッチング試薬で処理したポリイミドフィルム表面のＩＲ−ＡＴＲ法から算出される表面金属指数Ａｓｍが０．００１以上、かつ表面抵抗率が１×１０^13Ω以上であることを特徴とする金属被覆ポリイミドフィルム。 - 特許庁

To provide a mirror polishing method for grinding silicon wafer without causing machining damage such as scratching and forming a deteriorated layer by machining on a grinding silicon wafer surface, causing little surface roughness, generating little rolled edge, obtaining a high flatness easily, needing little amount of polishing, improving a throughput, having no problem in treating etching waste liquid and causing no damage to a polishing device and jigs.例文帳に追加

研削シリコンウエハ表面にスクラッチや加工変質層の形成などの加工ダメージを与えることがなく、表面粗さが小さく、エッジ部ダレの発生も少なく、高平坦度が容易に得られ、必要研摩量も少なくて済み、スループットが向上し、しかも、エッチング廃液の処理問題もなく、さらにアルカリ廃液の処理問題ならびに研摩装置および治具の損傷等もない研削シリコンウエハの鏡面研摩方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method comprises a step for preparing a silicon substrate, a step for forming a first conductivity type impurity region in a first region of the silicon substrate, a step for forming a second conductivity type impurity region in a second region which is separated from the first region of the silicon substrate and a step for forming a porous silicon layer by chemically etching the surface of the second conductivity type impurity region.例文帳に追加

本発明のフォトダイオードの製造方法は、シリコン基板を用意する段階と、前記シリコン基板の第１領域に第１導電型不純物領域を形成する段階と、前記シリコン基板の前記第１領域と離隔した第２領域に第２導電型不純物領域を形成する段階と、前記第２導電型不純物領域の表面を化学的エッチング処理して多孔質シリコン層を形成する段階を含む。 - 特許庁

To obtain a rewritable recorder for reversible thermal recording medium, a record erasing method and a reversible thermal recording medium, in which print/ erasure can be repeated by thermally forming a color developing state or a discoloring state reversibly in the thermal layer of the reversible thermal recording medium, and occurrence of waving or irregularities in the reversible thermal recording medium is prevented at the time of discoloring/coloring processing.例文帳に追加

本発明は加熱により可逆的感熱記録媒体の感熱層を可逆的に発色状態・消色状態を形成することにより繰り返し印字・消去が可能とした可逆的感熱記録媒体用リライタブル記録装置及び記録消去方法及び可逆的感熱記録媒体に関し、消色／発色処理時において可逆的感熱記録媒体に波打ちや凹凸が発生することを防止することを課題とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the electrophotographic glossy toner comprises a first step of melt-kneading at least a binder resin and yellow, magenta and cyan colorants and then carrying out pulverization and classification to prepare toner base particles, and a second step of melt-kneading at least the toner base particles and the pearl pigment formed by covering the flaky inorganic crystal substrate with the thin layer of titanium dioxide and then carrying out pulverization and classification.例文帳に追加

また、本発明の電子写真用光沢トナーの製造方法は、少なくとも結着樹脂とイエロー、マゼンタおよびシアンからなる着色剤とを溶融混練、粉砕分級してトナー母体粒子を製造する第１工程と、少なくとも前記トナー母体粒子と薄片状無機結晶基質上に二酸化チタンから成る薄層を被覆させたパール顔料とを溶融混練、粉砕分級する第２工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

This method for insert-casting an iron member with an aluminum alloy is characterized by comprising the steps of sintering iron powder to prepare an iron powder sintered body, heating the iron powder sintered body, press penetrating a melted aluminum alloy into the iron powder sintered body, and grinding the aluminum alloy deposited on the outer of the iron member produced by the pressure penetration while remaining the desired casting layer.例文帳に追加

鉄部材をアルミニウム合金で鋳ぐるむ方法であって、鉄粉末を焼結して鉄粉末焼結体となす工程と、前記鉄粉末焼結体を加熱する工程と、前記鉄粉末焼結体に溶融アルミニウム合金を加圧浸透させる工程と、前記加圧浸透により得られた鉄部材の外側に付着したアルミニウム合金を所望の鋳ぐるみ層を残して研削する工程と、を含むことを特徴とする鉄部材の鋳ぐるみ方法。 - 特許庁

The method for manufacturing an aluminum foil roughed and anodized as a support and a silver complex diffused transfer reversal material containing photosensitive silver halide emulsion coating comprises the step of corona treating the roughed and anodized foil in a corona station having a roller and at least one electrode coated by using a dielectric coating before the foil is coated with a photosensitive layer.例文帳に追加

本発明に従えば、支持体としての粗面化され且つ陽極酸化されたアルミニウム箔ならびに感光性ハロゲン化銀乳剤コーティングを含む銀錯体拡散転写反転材料を製造する方法であり、該粗面化され且つ陽極酸化されたアルミニウム箔を、該箔が感光層によりコーティングされる前に、ローラー及び誘電コーティングを用いてコーティングされている少なくとも１つの電極を含むコロナステーションでコロナ処理することを特徴とする方法が提供される。 - 特許庁

The photochromic material comprises a diarylethene compound having a specific structure, the manufacturing method of the photochromic material comprises obtainment of the diarylethene compound by a coupling reaction of a compound obtained from a coupling reaction of a specific thiopheneboronic acid and a specified phenylethynylbenzene, with perfluorocyclopentene, and the record indication medium has a recording layer comprising a material containing the photochromic material.例文帳に追加

フォトクロミック材料は、特定の構造を有するジアリールエテン化合物よりなることを特徴とし、フォトクロミック材料の製造方法は、特定のチオフェロボン酸および特定のフェニルエチニルベンゼンをカップリング反応することによって得られる化合物と、ペルフルオロシクロペンテンとをカップリング反応することにより、上記のジアリールエテン化合物を得ることを特徴とし、記録表示媒体は、上記のフォトクロミック材料を含有する材料よりなる記録層を有することを特徴とする。 - 特許庁