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etching reagentとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 腐食液; 腐食剤

機械工学英和和英辞典での「etching reagent」の意味

etching reagent


「etching reagent」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 22



例文

The etching reagent from an etching reagent feeding source 24 is fed to the upper surface of the wafer W in a rotating state through an upper surface etching reagent feeding valve 25 and a treatment solvent feeding pipe 21.例文帳に追加

回転状態のウエハWの上面に、エッチング液供給源24からのエッチング液が、上面エッチング液供給バルブ25および処理液供給管21を介して供給される。 - 特許庁

To obtain an etching agent which is capable of etching a copper film at a high etching rate by a simple chemical etching method of immersing the low-resistance copper film in a static state into an aqueous solution of an inexpensive and easily available reagent when this copper film is used as a wiring material and hardly gives rise to the occurrence of abnormal etching and pattern thinning.例文帳に追加

低抵抗の銅膜を配線材料として用いる場合に、安価で入手容易な試薬の水溶液に静止状態で浸漬するという簡便なケミカルエッチング法により銅膜を高いエッチングレートでエッチングでき、しかも異常エッチングやパターン細りが起こり難いエッチング剤を得る。 - 特許庁

To etch the rear surface of a semiconductor wafer while forming an etching solution in which reagent solutions are always mixed in a desired ratio.例文帳に追加

常に所望の割合に混合されたエッチング液を生成して半導体ウェーハの裏面のエッチングを行うようにする。 - 特許庁

In this state where the side of the front surface is sealed with a seal ring 14, etc., etching reagent is made into contact with the side of a rear surface.例文帳に追加

この状態、シールリング14等によって表面側をシールした状態で裏面側にエッチング液を接触させる。 - 特許庁

The etching and activation of a synthetic substance substrate are performed by a common operation stage in a first solution comprising at least one inorganic acid-containing etching reagent and an ionogen activator.例文帳に追加

、合成物質基板の腐食と活性化を共通の操作工程で行い、少なくとも一つの無機酸含有腐食剤とイオノゲン活性化剤を含む第一溶液中で行う。 - 特許庁

To provide a re-releasable pressure sensitive adhesive tape which protects an adherend without corrosion by an etching reagent, such as acid, alkali, during etching and which can be easily released without polluting the adherend at releasing of the tape after etching.例文帳に追加

エッチング中は酸やアルカリ等のエッチング液により浸食されることなく被着体を保護し、エッチング終了後のテープ剥離の際に被着体を汚染することなく容易に剥離可能な再剥離性粘着テープを提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a method for recovering cerium as high purity cerium ammonium nitrate capable of being used for preparing an etching reagent from waste liquid which is discharged from an etching process where chromium is etched with an etching solution containing cerium ammonium nitrate.例文帳に追加

硝酸セリウムアンモニウムを含むエッチング液でクロムをエッチングする工程から排出された廃液から、セリウムをエッチング液の調製に用い得る高純度の硝酸セリウムアンモニウムとして回収する方法を提供すること。 - 特許庁

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JST科学技術用語日英対訳辞書での「etching reagent」の意味

etching reagent


日英・英日専門用語辞書での「etching reagent」の意味

etching reagent


Weblio英和対訳辞書での「etching reagent」の意味

etching reagent

Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「etching reagent」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 22



例文

To provide a method for manufacturing carbonyl difluoride which is useful as a reagent for organic syntheses and as a cleaning gas and an etching gas for semi-conductor production equipment.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing carbonyl difluoride (COF_2) useful for an organic synthesis reagent, a cleaning gas or an etching gas or the like for a semiconductor producing apparatus and the like.例文帳に追加

有機合成試薬、半導体製造装置等のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニル(COF_2)の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing trifluoromethylhypofluorite (CF_3OF) useful as a reagent for organic syntheses, as a cleaning gas or etching gas for producing semiconductors.例文帳に追加

有機合成用の試薬、半導体製造用のクリーニングガス、エッチングガス等に有用なトリフルオロメチルハイポフルオライト(CF_3OF)の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for purifying carbonyl difluoride (COF_2) useful for a reagent for organic synthesis, a cleaning gas for a semiconductor manufacturing apparatus, an etching gas, or the like.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニル(COF_2)の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing carbonyl difluoride (COF_2) useful for a reagent for organic synthesis, a cleaning gas for a semiconductor manufacturing apparatus, an etching gas, or the like.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニル(COF_2)の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a purification method for trifluoromethyl hypofluorite (CF_3OF) that is useful as a reagent for organic syntheses, a cleaning gas and an etching gas for semiconductor production units.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用なトリフルオロメチルハイポフルオライト(CF_3OF)の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing trifluoromethyl hypofluorite (CF3OF) useful as a reagent of an organic synthesis, a cleaning gas for a semiconductor production apparatus, an etching gas or the like.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用なトリフルオロメチルハイポフルオライト(以下、CF_3OF)の製造法を提供する。 - 特許庁

例文

As the reagent is supplied to a plurality of positions of the surface peripheral part TR of the substrate W, a time required for etching removal of a thin film is shortened.例文帳に追加

基板Wの表面周縁部TRの複数箇所に薬液が供給されるため、薄膜のエッチング除去に要する時間が短縮される。 - 特許庁

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