| 例文 |
lithographicalを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
This structured surface is obtained by providing upheaved parts having 50 nm-10 μm average height and 50 nm-10 μm average interval to an unstructured material having ≥2O mN/m surface energy by mechanical embossing, lithographical etching, or molding processing.例文帳に追加
平均高さ50nm〜10μmおよび平均間隔50nm〜10μmを有する隆起部を、20mN/mよりも大きい表面エネルギーを有する構造化されていない材料上に機械的にエンボスするか、またはリソグラフィー法によりエッチングするか、または成形加工により施与する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|