| 例文 |
multilayer control problemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
To obtain a method for manufacturing a semiconductor device which can reduce process margin necessary for control adjustment of CMP polishing by preventing exposure of a capacitor and short circuit of wiring which become a problem in a surface flattening process of a multilayer wiring type semiconductor device having a DRAM region and a logic region.例文帳に追加
DRAM領域とロジック領域とを有する多層配線型の半導体装置の表面平坦化工程で問題となるキャパシタの露出および配線のショートを防止し、CMP研磨の制御調整に要するプロセスマージンを低減できる半導体装置の製造方法を得ること。 - 特許庁
To solve the problem that when information is recorded or reproduced in a multilayer optical disk of in an optical pickup device, offset is caused in a TE signal by reflected light from a recording layer being different from the recording layer to be recorded or reproduced, deterioration of a signal during recording or reproducing is caused, in the worst case, tracking control is disabled.例文帳に追加
光ピックアップ装置で多層の光ディスクに情報を記録または再生する際に、記録または再生しようとする記録層とは別の記録層からの反射光によりTE信号にオフセットが発生し、再生もしくは記録時の信号劣化、最悪の場合はトラッキング制御が外れてしまう。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|