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multiply by divisionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
To prevent linewidth-precision deterioration which is caused by a decrease in the contrast in a multiply-overlapped-exposure acceptable region in performing so-called overlay exposure by the electron-beam exposure of a division transfer system.例文帳に追加
分割転写方式の電子線露光で、いわゆる重ね合わせ露光を行う場合において、多重重複露光可能領域におけるコントラストの低下に起因する線幅精度の低下を防止する。 - 特許庁
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