例文 (191件) |
nanoimprintを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 191件
NANOIMPRINT LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィ方法 - 特許庁
NANOIMPRINT METHOD AND NANOIMPRINT DEVICE FOR USE THEREIN例文帳に追加
ナノインプリント方法およびそれに用いられるナノインプリント装置 - 特許庁
NANOIMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD, RESIN PATTERN MANUFACTURING METHOD BY NANOIMPRINT METHOD, AND NANOIMPRINT MOLD例文帳に追加
ナノインプリント用モールドの製造方法、ナノインプリント法による樹脂パターンの製造方法、及び、ナノインプリント用モールド - 特許庁
NANOIMPRINT MOLD, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND NANOIMPRINT METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ナノインプリントモールド、その製造方法およびそれを用いたナノインプリント方法 - 特許庁
CURABLE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, NANOIMPRINT MOLDING AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
ナノインプリント用硬化性組成物、ナノインプリント成形体及びパターン形成方法 - 特許庁
NANOIMPRINT-MOLD RELEASE AGENT, SURFACE TREATMENT METHOD, AND NANOIMPRINT MOLD例文帳に追加
ナノインプリントモールド用離型剤、表面処理方法並びにナノインプリント用モールド - 特許庁
UV NANOIMPRINT MOLDING AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
UVナノインプリント成型体及びその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING PROCESS OF STAMPER FOR NANOIMPRINT例文帳に追加
ナノインプリント用スタンパの製造方法 - 特許庁
NANOIMPRINT DEVICE AND MOLD RELEASE METHOD例文帳に追加
ナノインプリント装置及び離型方法 - 特許庁
TITANIA-DOPED QUARTZ GLASS FOR NANOIMPRINT MOLDS例文帳に追加
ナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE BY NANOIMPRINT例文帳に追加
ナノインプリントによる基板の加工方法 - 特許庁
TEMPLATE FOR NANOIMPRINT AND PATTERN TRANSFER DEVICE例文帳に追加
ナノインプリント用テンプレート及びパターン転写装置 - 特許庁
MOLD FOR NANOIMPRINT AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ナノインプリント用モールドおよびその製造方法 - 特許庁
To provide a nanoimprint method and a nanoimprint apparatus in which reproducibility of a pattern to be formed is improved.例文帳に追加
形成されるパターンの再現性が改善されるナノインプリント方法及びナノインプリント装置を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING NANOIMPRINT MOLD USING METAL DEPOSITION例文帳に追加
金属デポジションを用いたナノインプリント金型の製造方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, AND PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 - 特許庁
NANOIMPRINT METHOD AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE THEREWITH例文帳に追加
ナノインプリント方法およびそれを利用した基板の加工方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY NANOIMPRINT LITHOGRAPHY例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィによるレジストパターンの形成方法 - 特許庁
METHOD OF FORMING FINE RESIST PATTERN AND NANOIMPRINT MOLD STRUCTURE例文帳に追加
微細レジストパターン形成方法及びナノインプリントモールド構造 - 特許庁
CURABLE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
MOLD FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィ用モールド、およびその製造方法 - 特許庁
NANOIMPRINT DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING MEMORY MEDIA USING THE DEVICE例文帳に追加
ナノインプリント装置及び該装置を用いた記憶媒体の製造方法 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
ナノインプリント用感放射線性組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN, AND PATTERNING METHOD THEREFOR例文帳に追加
ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 - 特許庁
MOLD SEPARATING METHOD AND NANO PATTERN FORMING METHOD IN NANOIMPRINT例文帳に追加
ナノインプリントにおける離型処理方法およびナノパターン形成方法 - 特許庁
FILM FORMING COMPOSITION FOR NANOIMPRINT AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ナノインプリント用の膜形成組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
NANOIMPRINT MOLD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR OPTICAL DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
ナノインプリント用モールド及びそれを用いた半導体光デバイスの製造方法 - 特許庁
This invention relates to the mold for nanoimprint lithography assisted by a prescribed wavelength.例文帳に追加
本発明は、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドに関する。 - 特許庁
Further, the magnification deviation may be determined from a charged voltage of the photomask for nanoimprint.例文帳に追加
更に、倍率ずれは、ナノインプリント用フォトマスクの帯電電圧から求めてもよい。 - 特許庁
An attachment for mounting the photomask for nanoimprint on a holder is used.例文帳に追加
ナノインプリント用フォトマスクをホールダに装着するためのアタッチメントを用いる。 - 特許庁
NANOIMPRINT MOLD MANUFACTURING METHOD AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
To provide a composition for nanoimprint that is excellent in mold peeling performance and dry etching resistance.例文帳に追加
モールド剥離性およびドライエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物を提供する。 - 特許庁
NANOIMPRINT STAMPER, AND MICROFINE STRUCTURE TRANSFER DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
ナノインプリント用スタンパ及び該スタンパを使用する微細構造転写装置 - 特許庁
To provide a curable composition for nanoimprint excellent in pattern accuracy and also high in the elasticity recovery ratio.例文帳に追加
パターン精度に優れ、かつ、弾性回復率が高いナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁
MANUFACTURING PROCESS OF DOUBLE WIDTH NANOIMPRINT ROLL FOR ROLL TYPE IMPRINT APPARATUS例文帳に追加
ロール式インプリント装置用の広幅ナノインプリントロールの製造方法 - 特許庁
PHOTO-CURING COMPOSITION FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY, AND NANOIMPRINTING METHOD例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィー用光硬化性組成物およびナノインプリント方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING MASTER MOLD FOR NANOIMPRINT, AND METHOD OF MANUFACTURING REPLICA MOLD例文帳に追加
ナノインプリント用マスターモールドの製造方法およびレプリカモールドの製造方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST, AND PERMANENT FILM例文帳に追加
ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁
MOLD FOR NANOIMPRINT, MANUFACTURING METHOD OF THE MOLD, AND MANUFACTURING METHOD OF UNEVEN STRUCTURE例文帳に追加
ナノインプリント用モールドおよびその製造方法,凹凸構造の製造方法 - 特許庁
HIGHLY DURABLE REPLICA MOLD FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィー用の高耐久性レプリカモールドおよびその作製方法 - 特許庁
CURABLE COMPOSITION FOR OPTICAL NANOIMPRINT AND HARDENED FILM OBTAINED FROM CURABLE COMPOSITION例文帳に追加
光ナノインプリント用硬化性組成物および硬化性組成物から得られた硬化膜 - 特許庁
PHOTOCURABLE COMPOSITION FOR PHOTO-NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE WITH PATTERN例文帳に追加
光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物、及びパターン付き基板の製造方法 - 特許庁
例文 (191件) |
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