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parameters optimizationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 51件
In EGA optimization simulation, the alignment processing parameters are optimized while taking account of the linewidth variation of a pattern formed, using results of EGA simulation performed using measurement results of first time wafer alignment(EGA measurement), and results of EGA simulation performed using measurement results of second time wafer alignment(EGA measurement) (steps S38, S39, S42, S43).例文帳に追加
EGA最適化シミュレーションにおいて、第1回目のウエハアライメント(EGA計測)の計測結果を用いてのEGAシミュレーションの結果と、第2回目のウエハアライメント(EGA計測)の計測結果を用いてのEGAシミュレーションの結果と、を用いて、形成されたパターンの線幅変動も考慮して、アライメント処理パラメータが最適化される(ステップS38、S39、S42,S43)。 - 特許庁
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