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reflection effectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 401件
To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 part even if it is not stripped in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e. the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加
基板1上に、露光光を反射する領域となる多層膜2を有し、前記多層膜2上に吸収用となるパターニングされた薄膜3、さらに前記多層膜2と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜4を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜2部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜2の保護機能も有するように緩衝膜4の構造、材料が規定されたEUV露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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