例文 (4件) |
wafer registrationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4件
REGISTRATION METHOD OF WAFER ELECTRODE, ALIGNMENT METHOD OF WAFER, AND RECORDING MEDIUM WITH THESE METHODS STORED例文帳に追加
ウエハ電極の登録方法及びウエハのアライメント方法並びにこれらの方法を記録した記録媒体 - 特許庁
In a process (E), the silicon wafer 24 and a silicon wafer 38 are precisely registered with the use of a registration mark 48, and a predetermined pressurization process is carried out to join the silicon wafer 24 and the silicon wafer 38 to each other.例文帳に追加
そして、工程(E)で、シリコンウエハ24とシリコンウエハ38とを、位置合わせマーク48を用いて、精密に位置合わせし、所定の加圧処理を行って、シリコンウエハ24とシリコンウエハ38とを接合する。 - 特許庁
OVERLAY REGISTRATION ERROR MEASUREMENT CARRIED OUT FOR MORE THAN TWO SEMICONDUCTOR WAFER LAYERS AT THE SAME TIME例文帳に追加
二つよりも多くの半導体ウェハー層に対して同時になされるオーバーレイ・レジストレーション・エラー測定 - 特許庁
To provide a registration method for a wafer electrode and an alignment method for a wafer capable of improving the reliability of wafer processing, such as inspection, and reducing the load of operator, by releasing the operator from each operation for reference pattern selecting and pattern matching.例文帳に追加
検査等のウエハ処理の信頼性を向上させることができると共に、オペレータを基準パターンの選択やパターンマッチングの各作業から解放してオペレータの負荷を軽減することができるウエハ電極の登録方法及びウエハのアライメント方法を提供する。 - 特許庁
例文 (4件) |
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