「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 122 123 124 125 126 127 128 129 130 .... 366 367 次へ＞- To provide an image forming apparatus which suppresses a streaky image defect and ensures excellent wear resistance of an image holder.
スジ状の画像欠陥が抑制され、像保持体の耐摩耗性にも優れた画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a preform material reducing a molding defect and extending a mold life.
本発明は、成形不良を少なくするとともに型寿命をより延ばすことができるプリフォーム材を提供する。 - 特許庁 - To restrain image deletion and image quality defect due to adhesion of discharge products caused in a contact charging system.
接触帯電方式において生じる放電生成物の付着による画像流れおよび画質欠陥の抑制。 - 特許庁 - To reduce the movement of visual point when a visual inspector refers to the inspection information of a surface defect inspection device.
目視検査員が表面欠陥検査装置の検査情報を参照する場合に視点の移動を少なくする。 - 特許庁 - In the defect correction device 1, a pair of substrate end supporting tables 3 is arranged on which a glass substrate 99 is placed.
欠陥修正装置１では、ガラス基板９９が載置される１対の基板端支持台３が配設されている。 - 特許庁 - Thereby, the defect density of the triangle shape of the surface of the SiC epitaxial layer becomes at most one/cm^2.
これにより、前記ＳｉＣエピタキシャル層の表面の三角形状の欠陥密度が１個／ｃｍ^２以下となる。 - 特許庁 - To propose a defect correction technique of excellent memory efficiency, for performing small scale correction of an execution program.
実行プログラムの小規模な修正を行うためのメモリ効率の良い欠陥修正手法を提案すること。 - 特許庁 - A location where the charge accumulation state is abnormal can be detected as a defect location in the semiconductor device.
電荷の蓄積状態が正常でない箇所を、半導体装置の不具合箇所として検出することができる。 - 特許庁 - To provide a semiconductor laser that can control the generation of a high-density crystal defect and surface roughness.
高密度の結晶欠陥および表面ラフネスの発生を抑制することの可能な半導体レーザを提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus and method for analysis of a semiconductor device, capable of easily specifying defect locations.
不具合箇所を容易に特定することのできる半導体装置の解析装置及び解析方法の提供。 - 特許庁 - A defect size calculation unit 18e calculates spacial coordinates of the base point to perform measurements on the object.
欠陥サイズ算出部１８ｅは、基準点の空間座標を算出し、被写体に関する計測を行う。 - 特許庁 - To provide design driven inspection/metrology methods and apparatus in semiconductor wafer defect inspection or measurement.
半導体ウエーハ欠陥検査又は測定における設計主導型の検査/測定方法および装置を提供する。 - 特許庁 - Then, by comparing the composited potential contrast image with a reference image, the defect is extracted.
そして、前記合成された電位コントラスト画像を参照画像と比較することによって欠陥を抽出する。 - 特許庁 - To provide a method of dynamically adjusting an electronic stability program (ESP) for a motor vehicle and removing defect.
車両の電子的安定性プログラム（ＥＰＳ）を動的に調整し、かつ欠陥を取り除く方法の提供。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF MASK FOR EXPOSURE, MASK FOR EXPOSURE, EXPOSURE METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS PRODUCTION
露光用マスクの欠陥修正方法、露光用マスク、露光方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁 - To provide an image/data recording apparatus preventing the printing defect caused by dust and having dust excluding function.
塵埃による印画不良を防止し、塵埃排除機能を備えた画像・情報記録装置を提供すること。 - 特許庁 - To detect easily a fine pattern defect, while reducing a storage capacity required for an image storage part.
画像記憶部に要求される記憶容量を低減しつつ微細なパターンの欠陥検出を容易に実現する。 - 特許庁 - To provide a method and device for correcting a banding defect in a photoreceptor image forming device.
光受容体画像形成装置内のバンディング欠陥を修正するための方法およびシステムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of forming an Al-Cu alloy wiring which does not generate a defect in the wiring due to a short-circuit.
短絡による配線欠陥が発生しないＡｌ−Ｃｕ合金配線の形成方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, even when a photoreceptor 12 differs in film thickness, a defect in image quality such as a white dot can be prevented.
このように、感光体１２の膜厚が異なったとしても、白点などの画質欠損を防ぐことができる。 - 特許庁 - To realize working, without overetching or insufficient shaping in defect correction on a mask using atomic force microscope techniques.
原子間力顕微鏡技術を用いたマスクの欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工を実現する。 - 特許庁 - To provide an inspection method for inspecting a micro phase defect in an EUV mask blank simply with high sensitivity.
ＥＵＶマスクブランクス中の微細な位相欠陥を感度良く且つ簡易に検出する検査方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, detection is made for a minute medium defect which has not been discriminated to be an error in the decoder.
よって、前記ビタビ復号器でエラーと判定されなかった微小な媒体欠陥の検出することができる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a joining fixture for a substrate which is higher in reliability with less defect in mounting an electronic device.
電子素子の実装不良が少なく、信頼性の高い基板接合体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To avoid occurrence of a gap defect of each transparent substrate due to first spacers dispersed in a sealing agent.
シール剤に分散される第１のスペーサによって各透明基板のギャップ不良が発生するのを回避する。 - 特許庁 - To discriminate a signal detected from a defect, such as cracks, from a reflected signal from a welded structure section organization.
亀裂などの欠陥から検出された信号と溶接構造部分組織からの反射信号とを識別する。 - 特許庁 - PROGRAM, METHOD, AND SYSTEM FOR DETECTING CRACK DEFECT GENERATED ON STRUCTURE
構造物に形成されたひび割れ欠陥検出プログラム、ひび割れ欠陥検出方法及びひび割れ欠陥検出システム - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL MEMBER AND TRANSFERRED BODY USING THE SAME, AND BUMP DEFECT CORRECTING APPARATUS FOR CYLINDRICAL MEMBER
円筒状部材の製造方法及びこれを用いた転写物、円筒状部材の瘤欠陥修正装置 - 特許庁 - To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same in which the contact defect of bit contact is prevented.
ビットコンタクトのコンタクト不良を防止することができる半導体装置及びその製造方法の提供。 - 特許庁 - The anchor includes an anchor identifier 151 for identifying the anchor of the defect list, and second number of update time information 152.
アンカは、欠陥リストのアンカを識別するアンカ識別子１５１と、第２の更新回数情報１５２とを含む。 - 特許庁 - To provide a method for stably supplying annealed wafers having a desired defect density in the surface layer thereof.
表層部において所望の欠陥密度を有するアニールウエーハを安定して供給する方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, a continuous defect region 5 for preventing undesirable edge effect is obtained on the semiconductor substrate 1.
結果的に、望ましくないエッジ効果を妨げる連続的な欠陥領域(５)が半導体基板(１)に得られる。 - 特許庁 - To provide a surface-coated sintered alloy-made cutting tool displaying excellent defect resistance in interrupted double cutting.
断続重切削ですぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。 - 特許庁 - This structure prevents a defect from being generated in the amorphous silicon power generating film 3 due to a recess.
このため、凹部を起源とする非晶質シリコン発電膜３中の欠陥の発生を防止することができる。 - 特許庁 - The evaluation method for a semiconductor wafer evaluates optically a defect of a semiconductor wafer by a copper deposition method.
半導体ウェーハの欠陥を銅デポジション法により光学的に評価する半導体ウェーハの評価方法。 - 特許庁 - Since the clad layer 24 is formed by rolling technology, occurrence of a defect is eliminated, and the ceramic clad layer has high electrical conductivity.
クラッド層２４は、圧延技術によるから欠陥は生じないし、セラミック化しても高い導電性を有する。 - 特許庁 - CAST SLAB COOLING METHOD FOR REDUCING SURFACE DEFECT OF LOW CARBON CASE-HARDENING STEEL DUE TO HOT-ROLLING
熱間圧延による低炭素肌焼鋼の鋼片の表面疵を低減するための鋳片の冷却方法 - 特許庁 - The main use of this invention is to detect the defect of a semiconductor wafer during the manufacture of a semiconductor IC device.
この発明の主要な用途は半導体ＩＣデバイス製造中の半導体ウェーハ欠陥の検出である。 - 特許庁 - To provide a semiconductor inspection method and a semiconductor inspection system that can improve resolution precision associated with a defect etc.
欠陥等の分類精度を向上し得る半導体検査方法及び半導体検査システムを提供する。 - 特許庁 - As this result, even if the V line defect exists in an image, the wrong control information can be prevented from being generated.
その結果、Ｖライン傷が画像に存在する場合でも、誤った制御情報の生成を防止できる。 - 特許庁 - To provide a high precision and low defect photomask for KrF excimer laser lithography capable of being manufactured in a reduced number of processes.
少ない工程数で製造でき、高精度、低欠陥のＫｒＦエキシマレーザリソグラフィ用フォトマスクを提供する。 - 特許庁 - To prevent a defect of a fixing web from influencing image quality in a fixing device having the fixing web.
定着ウェブを有する定着器において、定着ウェブの欠陥が画像品質に影響を与えないようにする。 - 特許庁 - In addition, a silicon pillar is a part of the semiconductor substrate, a leakage current caused by crystal defect is reduced.
また、シリコンピラーが半導体基板の一部であることから、結晶欠陥に起因するリーク電流が低減される。 - 特許庁 - In an imaging device Urend1, a CPU 11 determines whether a defect is in imaging devices 1 to 8.
描画装置Ｕrend1において、ＣＰＵ１１は、撮像装置１〜８の中に、不良が発生しているか否かを判断する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor measuring system in which the algorithm of analyzing defect can be easily changed and test efficiency is high.
不良解析のアルゴリズムを容易に変更可能で、テスト効率の高い半導体測定システムを提供する。 - 特許庁 - The implant material for a defect in the bone is made from a callus derived from a mammal substantial bone.
哺乳動物の実質骨由来の仮骨からなることを特徴とする骨欠損部用生体移植材料。 - 特許庁 - The computer device 70 can monitor the situation, etc., of defect occurrence by the information from plural tape drives.
コンピュータ装置７０では複数のテープドライブからの情報によって欠陥の発生状況等を監視できる。 - 特許庁 - As the result, the occurrence of the repellent defect and color irregularity is prevented and the high-quality anti-reflective film can be manufactured.
このため、ハジキ欠陥、色ムラの発生を防止して、高品質の反射防止フィルムを製造することができる。 - 特許庁 - To disclose defect information such as fail bit map for many and unspecified persons by simple operation.
簡単な操作によりより不特定多数者に対してフェイルビットマップ等の不良情報の開示を可能とする。 - 特許庁 - To provide an electron beam device that detects the defect immediately after forming a plated layer on a sample.
試料にメッキ層を形成した後直ちにその欠陥を検出することができる電子線装置を提供する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
