「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • When the determination reference electric current component i_leak obtained by measurement and included in electric current during charging the capacitor to be determined is compared with the good/defect determination condition, it is determined the capacitor to be determined is good or defect.
    次に、測定により得た判定対象コンデンサの充電時電流中に含まれる判定基準電流成分i_leakを前記良否判定条件に照合することで、判定対象コンデンサの良否を判定する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which no correction scum of a residual defect is left when the residual defect of a halftone phase shift mask is removed by using an AFM (atomic force microscope) correcting device.
    ハーフトーン型位相シフトマスクの残留欠陥をAFM型修正機を用いて除去する際、残留欠陥の修正カスを残さないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The determination reference electric current component i_leak serving as a reference of good/ defect determination of the capacitor is extracted from a plurality of the electric current components i_cap, i_line, and i_leak, and a good/defect determination condition is set on the basis of the approximation formula.
    次に、コンデンサの良否判定の基準となる判定基準電流成分i_leakを前記複数の電流成分i_cap、i_line、i_leakから抽出してその良否判定条件を前記近似式に基づいて設定する。 - 特許庁
  • To provide a device for assisting inspection of a defect in casting can improve discrimination precision in the kind of internal defect of casting by aligning blowhole models before and after heat treatment, and a method therefor.
    加熱処理前、後の鋳巣モデルの位置合わせを行うことにより鋳造品の内部欠陥の種類の判別精度向上を図ることができる鋳造内部欠陥検査支援装置及び方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect detecting circuit which can detect, with high accuracy, defect existing in timing at which operation of an optical disk apparatus is switched from recording operation to reproducing operation or from reproducing operation to recording operation.
    光ディスク装置の動作が記録動作から再生動作へ、あるいは再生動作から記録動作へ切り替わるタイミングに存在するディフェクトを高精度に検出することが可能なディフェクト検出回路を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for detecting a shape defect of a molded article capable of detecting a defect on a lower surface of the molded article with high accuracy, and detecting general deformation such as a warpage of the molded article.
    成形品の下面の欠陥を精度高く検出することができ、しかも成形品の反りなどの全体的な変形についても検出することができる成形品の形状欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an implant having a superior shape adaptability to a bone defect part and, when applied to the bone defect part, scarcely producing a discomfort on the external appearance adjacent to an application part and to provide a design method for the implant.
    骨欠損部との形状の適合性に優れ、かつ、骨欠損部に適用した際に、適用部付近における外観上の違和感が生じ難いインプラントおよび該インプラントの設計方法を提供すること。 - 特許庁
  • A pseudo defect is relieved by dividing a pattern into a stitching part and the other pattern portion on comparing the mask image to mask data and by decreasing the defect detection sensitivity in the stitching part than that in the pattern portion.
    マスク画像とマスクデータとの比較検査を行う際に、ステッチング部とそれ以外のパターン部とに分割して、ステッチング部の欠陥検出感度をパターン部よりも低くすることで、上記擬似欠陥を救済する。 - 特許庁
  • Successively, a defective recognition object is estimated based on pars/fail condition of adjacency of a defect rate condition and a defective recognition object (ST6), a defect rate of residual degeneration FBM is calculated and standardized (ST7).
    続いて不良率条件と認識対象不良の隣接の可否条件に基づいて認識対象不良を推定し(ST6)、残りの縮退FBMについての不良率を計算して規格化する(ST7)。 - 特許庁
  • Thereby, a frequency dependence portion due to the scattering of the ultrasonic waves is canceled, an amplitude difference in a V (z) curve is changed into an image, the internal defect is expressed as the contrast difference, and the internal defect is detected easily.
    これによって超音波の散乱による周波数依存分はキャンセルされ、V(z)曲線における振幅差が画像化され、内部欠陥がコントラスト差として表れ、内部欠陥の検出を容易にする。 - 特許庁
  • Then a very small defect detection circuit 23 detects a defective pixel, calculates a ratio of a pixel signal of the defective pixel to the pixel signal of its surrounding pixels, an address of the defective pixel and the ratio are stored in a very small defect ROM 26.
    次に、微小欠陥検出回路23により欠陥画素を検出し、欠陥画素とその周辺画素との画素信号の比率を演算し、欠陥画素のアドレスおよび比率を微小欠陥ROM26に記憶する。 - 特許庁
  • Occurrence of chipping, burrs and cracking when forming an epitaxial layer and an electrode, etc., on the GaN substrate and then dividing it in the chip shape is deeply related to the defect density of the GaN substrate, especially the defect density in a lateral direction.
    GaN基板上にエピタキシャル層や電極等を形成した後、チップ状に分割する際の欠け、バリ、ひび割れの発生が、GaN基板の欠陥密度、特に横方向の欠陥密度と深い関係がある。 - 特許庁
  • An image processing section 15 determines an inspection area based on the image for area thus picked up and detects a visual defect in the inspection area based on the inspection area thus determined and the image for defect thus picked up.
    画像処理部15は、撮像された領域用画像に基づいて検査領域を決定し、決定した検査領域と撮像された欠陥用画像とに基づいて検査領域内の外観欠陥を検出する。 - 特許庁
  • Thirdly, a defect judgment part 15C discriminates whether the standard deviation exceeds basic standard deviation or not, and when it is more than the basic standard deviation, it judges that there is a defect of the inside crack on the ceramic element assembly part.
    次に、欠陥判断部15Cが上記標準偏差が基準標準偏差を超えているか否かを判別し、基準標準偏差以上であればセラミック素体部に内部クラックの欠陥があると判断する。 - 特許庁
  • This method for preventing the seed from causing the defect in germination and the rosette formation comprises leaving the seed of plant causing the defect in germination or the rosette formation when growing in a high-moisture content state in a low-temperature and dark condition and then carrying out drying treatment.
    発芽不良、または、生育時にロゼット化を起こす植物体種子を、高水分状態で低温・暗黒条件下に放置したのち、乾燥処理する種子の発芽不良・ロゼット化防止方法。 - 特許庁
  • Thereby, potential difference between the potential of the pixel electrode having the adjacent defect and the potential of the normal pixel electrode is made high and the detection of the short circuit defect between the pixel electrodes adjacent across the source line is made easy.
    これによって、隣接欠陥を有する画素電極の電位と正常な画素電極の電位との電位差を大きくし、ソースラインを挟んで隣接する画素電極間の短絡欠陥の検出を容易とする。 - 特許庁
  • The catalyst for a fuel cell has a composite body structure where the graphite-like substance has a defect comprising six carbon vacancies with a missing six-membered carbocyclic ring, and the dimer molecules are fitted in the defect.
    前記グラファイト状物質は6員環炭素が欠落した6つの炭素空孔からなる欠陥を有し、この欠陥に前記ダイマー分子が嵌め込まれた複合体構造を有する燃料電池用触媒。 - 特許庁
  • In a data register (10) latching data of a selected memory cell in a memory array (MAR, MAL), when defect of the latch circuit included in this data register exists, a means for performing defect relieving is provided.
    メモリアレイ(MAR,MAL)において選択メモリセルのデータをラッチするデータレジスタ(10)において、このデータレジスタに含まれるラッチ回路の不良が存在する場合その不良救済を行なうための手段を設ける。 - 特許庁
  • The optical control element has the photonic crystal 30 having the line defect waveguide 40 and a light emitting element 10, and the line defect waveguide 40 resonates the wavelength of the light emitted by the light emitting element 10.
    光制御素子は、線欠陥導波路40を有するフォトニック結晶30及び発光素子10を備え、線欠陥導波路40は、発光素子10から発せられた光の波長を共振させる。 - 特許庁
  • To provide a device, an implant and a method, that obviate the need for asmixture of osteogenic protein with matrix, repairing bone deletion, cartilage defect and/or bone, cartilage defect.
    骨形成タンパク質とマトリクスとの混合物についての必要性を不必要にする、骨欠損、軟骨欠損、および/または骨軟骨欠損を修復するためのデバイス、移植片、およびその使用方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for making gene defect acetic acid bacteria capable of more highly effectively obtaining the gene defect acetic acid bacteria made without inserting the exogenous DNA to the genome DNA of the acetic acid bactera.
    酢酸菌のゲノムDNAに外来DNAを挿入することなしに作製された遺伝子欠損酢酸菌株を、より高効率で取得できる遺伝子欠損酢酸菌株作製法を提供すること。 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR INSPECTING APPARATUS, SEMICONDUCTOR DEFECT ANALYZER, SEMICONDUCTOR DESIGN DATA CORRECTING APPARATUS, SEMICONDUCTOR INSPECTION METHOD, SEMICONDUCTOR DEFECT ANALYZING METHOD, SEMICONDUCTOR DESIGN DATA CORRECTING METHOD, AND COMPUTE-READABLE RECORDING MEDIUM
    半導体検査装置、半導体欠陥解析装置、半導体設計データ修正装置、半導体検査方法、半導体欠陥解析方法、半導体設計データ修正方法およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁
  • To provide an optical control element in which the wavelength of light propagated in a line defect waveguide of photonic crystal is stabilized and transmissivity to the light propagated in the line defect waveguide of photonic crystal is improved.
    フォトニック結晶の線欠陥導波路を伝播する光の波長を安定化させると共にフォトニック結晶の線欠陥導波路を伝播する光の透過率を向上させる光制御素子を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for preventing a seed from causing a defect in germination and rosette formation which can easily be performed and allows simply seeding after treating without requiring a large-scale equipment in relation to the seed easy to cause the defect in germination and the rosette formation.
    発育不良、ロゼット化を生じやすい種子に関して、すなわち、大がかりな設備が不要で容易に実施でき、処理後の播種が容易な種子の発芽不良・ロゼット化防止方法を提供する。 - 特許庁
  • Thereafter, the similar processing is performed with plural recording/reproducing devices 106, 107, 108, and when the error occurs, the recording work is continued while judging whether the recording medium is defect or the recording/reproducing device is defect.
    以降、複数の記録再生装置106、107、108で同様な処理を行い、エラーが発生した場合は記録媒体が不良か記録再生装置が不良かを判断しつつ、書き込み作業を続行する。 - 特許庁
  • On the other hand, as for the processing mark M_4, a direction line m_4" points to a defect part section A_0 so as to show that the section A_0 of the defect part A exists in the left direction (y-direction), viewing from the mark M_4.
    一方、加工用マークM_4は、そのマークM_4から見て左方向(y方向)に欠陥部分Aの断面A_0があることが分かるように、方向線m_4”は欠陥部分断面A_0の方を指している。 - 特許庁
  • To provide a defect detection method and a defect detector for plate-shaped glass to detect cracks without being affected by an edge in a ground glass state even when cracks exist in any face of the plate-shaped glass.
    板状ガラスのいずれの面にカケが存在する場合にも、摺りガラス状態になったエッジに影響されずにカケを検出できる板状ガラスの欠陥検出方法及び欠陥検出装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide seamless belt which is good in productivity, does not give rise to the operation defect and printing quality defect occurring in voltage fluctuations, and is high in belt durability and excellent in voltage dependence, temperature dependence and excellent in high-voltage durability as well.
    生産性がよく、電圧変動に起因する動作不良、印刷品質不良が生じず、ベルト耐久性が高く、電圧依存性、湿度依存性に優れ、高圧耐久性にも優れたシームレスベルトの提供。 - 特許庁
  • To detect and correct a pixel defect in real time in a pixel defect detecting method for a solid-state image sensor that images a plurality of polarized beams resulting from polarizing image pickup light and outputs a video signal.
    撮像光を分光して得られた複数分光光をそれぞれ撮像して映像信号を出力する固体撮像素子の画素欠陥検出方法において、画素欠陥を実時間で検出し、補正できるようにする。 - 特許庁
  • Since the more significant redundant memory cells only require 1 bit, the redundant memory cells of only 3 bits are required by storing, in the more significant redundant memory cells, information indicating whether a defect exists or not as well as positional information of the defect with respect to the least significant bit data.
    その際、上位の冗長メモリセルは1ビットのみでよいため、上位の冗長メモリセルに最下位の不良の有無/不良位置情報を格納させることで、冗長メモリセルとしては3ビットで済む。 - 特許庁
  • When presence of defect in the write-in objective storage area is determined by a defect determination circuit 2 at the writing access to the memory section 1, the write data to the memory section 1 are written into the scan flip-flop SFF 5.
    メモリ部1への書き込みアクセスの際に、欠陥判定回路2において書き込み対象の記憶領域に欠陥があると判定されると、メモリ部1への書き込みデータはスキャンフリップフロップSFF5に書き込まれる。 - 特許庁
  • A state plane including the defect ratio and the covering rate is set in an evaluation arithmetic means 4, and the quality of the inspection target is specified as a coordinate point on the basis of the defect rate and the covering rate after the measurement.
    そして、評価演算手段4において、不良比率と網羅率を含む状態平面を設定し、計測後の不良率及び網羅率に基づき検査対象の品質を座標点として特定する。 - 特許庁
  • To provide a liquid crystal display device which is capable of preventing a touch defect and gravity defect and has a stable structure resistant to a push test, a method for manufacturing the same and spacer structure of the display device.
    タッチ不良及び重力不良を防止するとともに、押圧テストに耐えられる安定的な構造を有する液晶表示装置及びその製造方法、並びに表示装置のスペーサー構造を提供する。 - 特許庁
  • An irradiation angle of the illumination section 3 according to the type of a defect and an imaging angle of the imaging section 4 are stored in a controlling means, and the irradiation angle and imaging angle are previously set according to the defect to be inspected.
    欠陥の種類に応じた照明部3の照射角度及び撮像部4の撮像角度を制御手段に記憶しておき、検査すべき欠陥に応じて照射角度と撮像角度を予め設定する。 - 特許庁
  • To provide a print pattern inspection method and an inspection device capable of suppressing pseudo defect detection by reducing an influence of meandering or expansion/contraction of a base material to be printed, and detecting a defect growing little by little.
    被印刷基材の蛇行や伸縮の影響を小さくして擬似不良検出を抑え、少しずつ成長するような不良の検出も可能な印刷絵柄検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an imaging apparatus, a cradle for the imaging apparatus, an imaging system, and a defect detecting method for shielding light of an imaging element with a simple operation so as to easily detect and correct the pixel defect of the imaging element even in the case of the imaging apparatus mounted with a camera mechanism without a mechanical shutter.
    メカニカルシャッターの無いカメラ機構を搭載した撮像装置であっても、簡単な操作により撮像素子を遮光して撮像素子の画素欠陥を容易に検出でき、補正を行うことができる。 - 特許庁
  • To detect only the projected defect of an inspection surface, on which a fine recessed part is present or can be present, with high accuracy and to avoid the damage of a master or magnetic transfer defectiveness caused by the projected defect of a disk to enable magnetic transfer.
    微細な凹部があるか凹部があり得る検査面を凸欠陥のみを高精度に検出できるようにし、併せてディスクの凸欠陥によるマスタのダメージや磁気転写不良を回避して磁気転写できるようにする。 - 特許庁
  • As a defect of a reticle pattern can be corrected by the defect correction mechanism while in-situ observing a transferred image by the optical emulation system, the reticle pattern can be efficiently corrected while avoiding a problem such as excessive correction.
    光学エミュレーションシステムにより転写像をその場観察しながら、欠陥修正機構によりレチクルパターン欠陥を修正できるので、過修正などの問題を回避しつつ、効率的にレチクルパターンの修正ができる。 - 特許庁
  • To provide a coating construction plate which is capable of easily and rapidly detecting the defect of color coating due to the deviation of timing of ink jetting from a nozzle head and which is capable of preventing the frequent occurrence of color coating defect.
    ノズルヘッドからのインクの噴射のタイミングのずれによるカラー塗装の不良を容易に且つ迅速に検出することができ、カラー塗装不良が多発することを防ぐことができる塗装建築板を提供する。 - 特許庁
  • A release layer for controlling the position of a boundary defect formed during film growing is formed and patterned on the base substrate (step 1020), and the low defect density film is grown on the release layer (step 1060).
    膜成長の間に形成される境界欠陥の位置を制御するためのリリース層をベース基板に生成且つパターニングし(ステップ1020)、リリース層上に低欠陥密度膜を成長させる(ステップ1060)。 - 特許庁
  • To provide a method for detecting a surface defect of an object to be inspected and determining the type of the defect easily and accurately even when the variation of height is significant.
    高さ変動量が大きい場合等にも容易に対応でき、被検査物の表面欠陥を正確に検出できると共に、その欠陥の種類をも正確に判定できる表面欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
  • The defect is detected by using both of the incident light and the reflection light, and their time interval is measured, and then the position of the defect in the height direction is calculated based on the prescribed angle, the prescribed speed v and the time interval by using a controller 5.
    入射光と反射光の両方で欠陥を検出し、その時間間隔を測定し、コントローラ5は前記所定角度と所定速度vと時間間隔に基づいて欠陥の高さ方向位置を演算する。 - 特許庁
  • To provide a process management apparatus that can reduce the number of questions necessary to identify a defect factor, in any situation, when estimating the defect factor from a user's answers.
    ユーザからの回答を利用して不良要因を推定する場合に、どのような状況においても、不良要因を特定する際に必要とされる質問数を低く抑えることを可能とする工程管理装置を提供する。 - 特許庁
  • Inspection conditions of an inspection apparatus are made proper by creating a sample where a nonconductive contact hole 2 on a wafer through defect position and size thereof, and the thickness of a defect layer are clear, and by evaluating the sample.
    ウエハ上における非導通コンタクト孔2や突抜け欠陥位置と大きさ及び欠陥層の厚さが明確なサンプルを作成し、これを評価することによって、検査装置の検査条件を適正化する。 - 特許庁
  • Since the minute defect of the mold which causes the destruction of the mold by an imprint and the defect of the transfer pattern can be reduced, the extension of the life of the mold and the formation of a good transfer pattern with defects reduced are made possible.
    これにより、インプリントによるモールド破壊や転写パターン欠陥の原因になるモールドの微小欠陥を低減できるため、モールドの長寿命化と欠陥の少ない良好な転写パターン形成が可能となる。 - 特許庁
  • To provide a tights having improved in warmth retention and color development each of which is regarded as a defect of the conventional tights formed of filaments such as of nylon, and polyurethane, and an easy-care property, and also improved in pill resistance regarded as a defect of acrylic fibers.
    ナイロン等のフィラメントとポリウレタンで構成された従来のタイツの欠点である保温性と発色性、イージーケア性を改善し、また、アクリル系繊維の欠点であった抗ピル性を改善したタイツを提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and a device for inspecting online a weld defect of an electric resistance welded steel pipe, capable of detecting accurately even a fine welding defect called as a penetrator generated on a weld of the electric resistance welded steel pipe.
    電縫鋼管の溶接部に生じるペネトレータと称される微少な溶接欠陥も正確に検出することができるオンラインによる電縫鋼管の溶接部欠陥の検査方法と装置を提供する。 - 特許庁
  • To prevent lowering of an access speed of an information recording and reproducing device which is capable of replacing a region having a defect with another region and recording information when there is the defect in an information recording medium and normal recording is not possible.
    情報記録媒体に欠陥があって正常な記録が行えない場合、その領域を他の領域に代替して記録することのできる情報記録再生装置のアクセス速度の低下を防止する。 - 特許庁
  • The inspection light is adjusted by dissipation of unnecessary light, and when the inspection light propagating in the core is reflected by a defect spot, the inspection light can be detected accurately, to thereby improve detection accuracy of the internal defect.
    不要な光の散逸により検査光は調整され、コア内を伝播する検査光が欠陥箇所で反射する際に、これを精度よく検出することができ、内部欠陥の検出精度が向上する。 - 特許庁
  • In a second defect check, a mean shot image obtained by summing averaging the image at each shot is formed, four corners of the mean shot image are sliced into a prescribed size, and the defect is checked according to the mean luminance value of the diagonal positions.
    第2欠陥検査は、ショット毎の画像を加算平均した平均ショット画像を作成し、該平均ショット画像の四隅を所定サイズで切り出し、対角位置の平均輝度差によって欠陥を検査する。 - 特許庁
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