「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 117 118 119 120 121 122 123 124 125 .... 366 367 次へ＞- It is preferable that the defect determination means (18) determines the extracted defects into the dross defect and other defects based on at least one of area of the defects, image luminance of the defects, and forms of the defects.
該欠陥判定手段（１８）は、抽出された欠陥を、該欠陥の面積、該欠陥の画像輝度、および該欠陥の形態のうちの少なくとも１つに基づいて、ドロス欠陥とその他の欠陥に判定することが好ましい。 - 特許庁 - If a short defect 42 is present between the wirings, a thermo- electromotive force developed when the thermo-electromotive force generating structure 21 is irradiated with a laser beam 3 allows a current to flow through the short defect 42.
これらの配線間にショート欠陥４２が存在すると、レーザビーム３により熱起電力発生構造２１が照射された際に発生する熱起電力により電流がショート欠陥４２を通じて流れる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a thermal recording medium which is suitable, particularly, for use in medical image display etc., and which prevents a defect or uneven color development in printing by obtaining a uniform coating surface with no coating defect such as unevenness in the coating surface.
塗布面ムラ等の塗布欠陥がなく均一な塗布面を得ることにより、印画時に欠陥や発色ムラのない特に医療画像表示用途等に好適な感熱記録体の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A white defect in a halftone phase shift mask or a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask is corrected to match the phase by depositing an electron beam CVD film 6 having high transmittance and a high phase effect such as tetramethoxysilane or the like.
透過率が高く位相効果のあるテトラメトキシシラン等の電子ビームCVD膜６でハーフトーン型位相シフトマスクの白欠陥やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥を位相が合うように修正する。 - 特許庁 - By using laser annealing which is a relatively low temperature process, only the minute defect of the surface of the mold can be annealed, so that only the minute defect can be corrected without deforming the pattern shape of the mold.
比較的低温プロセスであるレーザアニールを用いることで、モールド表面の微小欠陥のみをアニールが可能となり、モールドのパターン形状を変形させることなく、微小欠陥のみを修復することが出来る。 - 特許庁 - To improve the efficiency of the management (deletion, retrieval and display, etc.) of image data while defect image data gathered every day in a semiconductor mass production line become extensive by the throughput improvement of a review SEM (defect observation apparatus).
レビューＳＥＭのスループット向上により、半導体量産ラインにおいて日々収集される欠陥画像データが大量になってきており、それらの画像データの管理（削除、検索、表示等）の効率化が望まれている． - 特許庁 - The mask for defect inspection is produced by forming the basic pattern on a photomask substrate, applying a resist on the basic pattern, and exposing and developing the resist to form a specified pattern defect.
また、この欠陥検査用マスクは、フォトマスク基板に、基本パターンを形成し、この基本パターン上に、レジストを塗布した後、レジストに、露光及び現像処理を施し、所定のパターン欠陥を形成することにより形成される。 - 特許庁 - To facilitate a developer of a software specifying a defect part of the software and effectively conducting a defect analysis work in a short time even in a combined test or a real test.
結合テストや本番テストを行う場合であっても、ソフトウェアの開発者が容易にソフトウェアの不具合箇所を特定することができ、不具合分析作業を短時間に効率的に行うことができるようにする。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method by which, even if warpage exceeding a range for automatic focusing occurs, all defects on the surface of a semiconductor wafer are focused and their defect images can be obtained.
自動焦点合わせ可能な範囲を超える程度の反りが発生した場合でも、半導体ウエハ表面のすべての欠陥に焦点を合わせて欠陥画像を取得することができる欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - The one defect is able to be imaged from a plurality of directions, because the plurality of defect imaging parts 3 are provided to image the same film face (imaging area R) from the directions different each other.
また、複数の欠陥撮像部３を有し、それぞれが相異なる方向から略同一のフィルム面（撮像領域Ｒ）を撮像するため、１つの欠陥に対し、複数の方向から撮像することができる。 - 特許庁 - Since the refractive index of the transparent film 30 is larger than 1, the degree of optical ruggedness (optical distance d_opt) is larger than the degree of geometric ruggedness (d) of a defect 20, and this results in higher defect detection sensitivity.
透明膜３０の屈折率は１よりも大きいから、光学的凹凸の程度（光学距離：ｄ_opt）は欠陥２０の幾何学的な凹凸の程度（ｄ）よりも大きくなり、その分だけ欠陥検出感度が高くなる。 - 特許庁 - This also brings about a secondary result that even if a semiconductor single crystal wafer of a large caliber partially has a defect, a wafer of a smaller caliber that is obtained from the part excluding the defect can be shipped.
これによって、大口径の半導体単結晶ウエハの一部に欠陥が含まれていても、その欠陥を除く部分から切り出された小口径のウエハを出荷し得るという、副次的効果をも得ることができる。 - 特許庁 - A positional relation between the point defect 12 and the end part of the waveguide 13 is appropriately set, so that only the resonating light of specified wavelength is taken out from the waveguide 13 at the point defect 12.
点欠陥１２と導波路１３の端部との位置関係を適切に設定することにより、点欠陥１２において共振する特定の波長の光だけを導波路１３から取り出すことができる。 - 特許庁 - To eliminate the reduction of the throughput of defect inspection, and further, obtain a more improved mask yield and the more improved dimension-controllability of a transcription-pattern, etc., than conventional ones, by performing the division of the pattern in consideration of its defect redundancy.
欠陥冗長性を考慮したパターン分割を行うことによって、欠陥検査のスループット低下を招くことなく、しかもマスク歩留まりや転写パターンの寸法制御性等を従来よりも向上させる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an organic EL display device having a high productivity without causing a defect and degradation of function of an organic EL display device, in performing an open destruction of a short circuit defect of the organic EL display device.
有機ＥＬ表示装置のショート欠陥をオープン破壊するにあたって、有機ＥＬ表示装置の欠陥や機能の低下を来すことなく、生産性が高い有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a luminance point defect inspection method capable of improving the efficiency of an inspection by preferentially forming an inspection unit area necessary for inspecting the existence of a luminance point defect on an image to be inspected.
検査対象画像における輝点欠陥の有無の検査に必要な検査単位領域を優先的に形成することによって、検査効率を向上させることができる輝点欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an imaging device in which effective pixel defect information can be prevented from being missed depending on conditions or the like when a pixel defect of an imaging element is detected and stored after a product is shipped.
製品出荷後に撮像素子の画素欠陥を検出し記憶させる際に、その時の条件等によって有効な画素欠陥情報が消失することを防ぐことが可能な撮像装置を提供する。 - 特許庁 - A joining defect of a flip-chip bump and a shape defect of fine wiring, which do not cause a disconnection, can be detected, so stress during secondary mounting and a disconnection resulting from long-period use can be detected in advance.
断線には至らないが、フリップチップバンプの接合不良や微細配線の形成不良を検出することができるので、２次実装時のストレスや長期使用で発生する断線を事前に検出することができる。 - 特許庁 - To provide a device and a method for inspecting nondestructively an inside of a foam body capable of judging the propriety of a void as an internal defect in the foam body, without generating dispersion in every inspection person, and capable of judging easily the presence of the internal defect.
発泡体に内部欠陥としてボイドがあるか否かを検査者毎にばらつきなく非破壊でかつ内部欠陥の有無を容易に判断し得る発泡体内部検査装置および方法を提供する。 - 特許庁 - A defect determining part 17c in a defect detecting part 17 divides a development image into a front area E1 and a rear area E2 on the basis of the length of the specimen, and the number of foreign bodies in the respective areas E1, E2 is detected.
欠品検出部１７の不良判断部１７ｃは、展開画像を被検査物の長さに基づき前方エリアＥ１と後方エリアＥ２に２分割し、各エリアＥ１，Ｅ２での異物の個数を検出する。 - 特許庁 - To provide a method for detecting a defect capable of simply processing an image with less information and detecting a defect easily and quickly, and a device therefor, and a device and a device for manufacturing a film using the same.
少ない情報量で単純に画像処理することができ、簡易かつ迅速に欠陥を検出する欠陥検出方法、欠陥検出装置、これらを用いたフィルムの製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - In the defect selecting apparatus 15a, the candidates of slender-shaped outer-layer and surface defects among which the rolling direction is taken as a long side is decided on the basis of the informations from the defect detecting apparatus 13a as the objects of removal.
欠陥選択装置１５ａは、欠陥検出装置１３ａからの情報を基に、圧延方向が長辺となる細長形状の表層・表面欠陥候補を除去対象として決定する。 - 特許庁 - To perform troubleshooting of an image defect while an apparatus takes the initiative and to achieve the troubleshooting of the apparatus in an image defect analytic mode edited and registered in accordance with the apparatus.
当該装置主導で画像不良に関するトラブルシュートを実行できるようにすると共に、当該装置に合わせて編集及び登録された画像不良解析モードで当該装置のトラブルシュートを実行できるようにする。 - 特許庁 - For example, when three defects 5a, 5b and 5c are detected by the defect inspection, only the defect 5a which has influence on the circuit pattern in the DSA region 8 out of them is sorted out.
例えば欠陥検査で３つの欠陥５ａ，５ｂ，５ｃが検出されている場合には、それらの中からＤＳＡ領域８内の配線パターンに影響を及ぼす欠陥５ａのみを選別することが可能になる。 - 特許庁 - To allow visual inspection for a foreign matter and the like, in addition to pattern inspection, and to accurately inspect a defect mode as to a defect.
本発明の課題は、パターン検査に加えて異物等の外観検査が可能で且つ欠陥がどのような欠陥モードなのかを正確に検査することができる金属箔パターンエッチング製品の欠陥検査方法を提供することにある。 - 特許庁 - Further, if the colored coating film 2 is provided on the coating defect position 4, the design pattern at the defect position is made unclear and inconspicuous and an observer extremely hardly recognizes that repairing is performed.
また、塗装欠陥箇所４に着色塗膜２を設ければ、欠陥箇所における意匠模様を不鮮明化して目立たなくすると共に補修を行ったことを看者が認識することは著しく困難となる。 - 特許庁 - To provide an image recorder in which a high quality print image having no image defect (image quality defect), e.g. uneven density of image due to droop phenomenon, can be obtained even when a halftone image is formed.
ハーフトーン画像を形成する場合であってもドループ現象による画像の濃度むら等の画質欠陥（画質ディフェクト）のない高品位なプリント画像を得ることのできる画像記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - In this system, appearance defect information detected by the visual examination device and electrical defect information detected by a probe examination device are collated with a review process threshold and review- processed by an edition process means.
外観検査装置で検出される外観的な欠陥情報およびプローブ検査装置で検出された電気的な欠陥情報を見直処理しきい値に照らして編集処理手段で見直処理すること。 - 特許庁 - A method for removing a material defect comprises the steps of heating and holding the material 10, having an internal defect 14 covered on its surface with a film 12 of a compound which contains a material, constituting element in a reducing atmosphere over a prescribed time period.
表面を材料構成元素を含む化合物の皮膜１２で覆われた内部欠陥１４を有する材料１０を、還元雰囲気中で所定時間にわたって昇温保持することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method and device for detecting a defect in a through hole capable of detecting surely quality of the through hole, as to the method and the device for detecting the defect in the through hole.
本発明はスルーホールの欠陥検出方法及び装置に関し、スルーホールの良不良を確実に検出することができるスルーホールの欠陥検出方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁 - To provide a device for indicating a defect of a sheet material and a method therefor capable of improving production yield by surely indicating a defect detected on a running sheet material.
走行する板材で検出された欠陥を確実に標示することにより、製品の歩留まりを向上させた板材の欠陥標示装置及び板材の欠陥標示方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a coating apparatus capable of preventing a coating defect caused by an ejecting defect of an inkjet head with a simple configuration in coating using a line type, and to provide a method of manufacturing an optical film using the same.
ライン型を用いた塗布において、インクジェットヘッドの射出不良による塗布不良を、簡易な構成で防止できる塗布装置及び前記塗布装置を用いた光学フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In this recording medium, an information showing whether a linear substitution defect control substituting data on the excess area for a defect on the recording medium is used or not, is stored for recording the real time data in the recording area.
本発明の記録媒体は記録領域にリアルタイムデータを記録するために、記録媒体上の欠陥を余裕領域のデータに置換する線形置換欠陥管理を使用するかどうかを示す情報を貯蔵する。 - 特許庁 - After the optical image and the reference image of the entire mask 101 are stored, a pattern defect inspection of the mask 101 is conducted by a defect inspection section 124 using the optical image and the reference image of the entire mask.
マスク１０１全体の光学画像及び参照画像が格納された後、欠陥検査部１２４によりこのマスク全体の光学画像及び参照画像を用いてマスク１０１のパターン欠陥検査が実行される。 - 特許庁 - In this method, a means of synchronization with detection of defects to calculates amount of image features of the defect, and a means for classifying defects into clusters, depending on the calculated amount of image features are added to the high-speed pattern defect inspection system.
高速のパターン欠陥検査装置に、欠陥の検出に同期して欠陥の画像的特徴量を計算する手段と、計算された特徴量によって欠陥をクラスタに分類する手段とを付加する。 - 特許庁 - To detect a preliminary defect and to achieve low floating height in the same environment as in operation regarding a method for detecting magnetic medium defect by a magnetic head which has a heater element for controlling the projection of the head.
ヘッドの突き出し量を制御する発熱素子を有する磁気ヘッドにより、磁気記録媒体の欠陥を検出する方法に関し、運用時と同じ環境で、予備的欠陥を検出し、低浮上を可能とする。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for inspecting a surface defect, capable of highly accurately inspecting a state of a disk substrate itself with wave-like distortion and a defect on a surface of a sample caused with local wave-like distortion.
ディスク基板そのものがうねりを持つ状態や、局所的なうねりが生じた試料の表面の欠陥を高精度に検査できるようにした表面欠陥検査方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a member for a plasma display panel, surely repairing a broken-wire defect part of an electrode having a minute pattern, thereby eliminating a broken-wire defect in the electrode, so that a sharp and high- quality picture image can be obtained when it is assembled into the panel.
微細パターンを有する電極の断線欠陥部を確実に修復し、パネル化した状態で鮮明かつ高品質な画像が得られるような、電極断線欠陥のないプラズマディスプレイパネル用部材の提供。 - 特許庁 - In this defect inspecting method, position information on an interval of a contact part to a cathode ray tube or the like of a member contacting with the cathode ray tube, which causes a defect, is stored in a member information storing device 26 for each of members in advance.
欠陥Ｐ発生原因となる陰極線管に当接する部材の陰極線管への当接部間隔などの位置情報を、部材毎に予め部材情報記憶装置26に記憶させておく。 - 特許庁 - To provide a soldering defect inspection device which can position in the vicinity of a downstream side of a solder tank, and can inspect soldering defect of a printed board without stopping the flow of printed boards.
この発明は、半田槽の下流側近傍に位置することが可能であり、プリント基板の流れを止めることなく、プリント基板の半田付け不良検査を行うことができる半田不良検査装置を提供する。 - 特許庁 - Sudden off-track directly after seek can be discriminated from off-track by defect, even if sudden off-track is continued, movement to an adjacent track is prohibited, also off-track relief processing being appropriate for defect can be performed.
シーク直後の突発的なオフトラックと、欠陥によるオフトラックを判別でき、突発的なオフトラックが連続しても、隣接トラックへの移動を防止し、且つ欠陥に対し適切なオフトラック救済処理を実現できる。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEPARATOR OF SOLID POLYMER ELECTROLYTE TYPE OF FUEL CELL, METHOD FOR INVESTIGATING DEFECT OF THE SEPARATOR, METHOD FOR HEATING AND PROCESSING SEPARATOR, SURFACE COATING METHOD OF THE SEPARATOR, AND METHOD FOR INVESTIGATING SURFACE COATING DEFECT OF THE SEPARATOR
固体高分子電解質型燃料電池のセパレータの製造方法、そのセパレータの欠陥検査方法、そのセパレータの加熱処理方法、そのセパレータの表面被覆方法、そのセパレータの表面被覆欠陥検査方法 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of liquid crystal display panel capable of detecting a defect in sealing material which forms a disposition area on a mother substrate and reduces the influence to peripheral cells due to the defect in sealing material.
マザー基板上の配置領域を形成するシール材の欠陥を検出し、シール材の欠陥による周囲のセルへの影響を低減することができる液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The peripheral equipment 1 collects states of respective parts and generates logs when the defect is detected during processing execution, transmits the logs to a DB server 4, and inquires whether or not there is any firmware whose defect can be resolved.
周辺機器１は、処理実行中に不具合が検出された場合に各部の状態を収集しログを生成し、ログをＤＢサーバ４へ送信し不具合を解決可能なファームウェアの有無を問い合わせる。 - 特許庁 - To measure the position of a defect by a device of a simple structure dispensing with the positioning of two cameras or calibration when measuring the thickness-wise position of the defect in a transparent plate-like body.
透明性を有する板状体中の欠陥の、板状体の厚さ方向の位置を測定する際、２台のカメラの位置合わせやキャリブレーションを必要としない、簡易な構成の装置で欠陥の位置を測定する。 - 特許庁 - On a rear surface side of the substrate 10 there is formed an n side electrode 23 of a geometrical shape that covers the surface of the low defect region 10A, and intermittently covers the surface of the high defect region 10B.
この基板１０の裏面側には、低欠陥領域１０Ａの表面を覆うと共に、高欠陥領域１０Ｂの表面を断続的に覆う、幾何学的な形状のｎ側電極２３が形成されている。 - 特許庁 - Even if there is the organic EL element 127 becoming the unlit defect during ON of the SW transistor 128_k, the divided pixels used for light emission are used by time sharing and therefore, the fact that the one pixel becomes the unlit defect completely does not substantially occur.
ＳＷトランジスタ１２８_kのオン時に滅点となる有機ＥＬ素子１２７があっても、発光に使用される分割画素が時分割で使用されるため、実体的には１画素が完全に滅点となることはない。 - 特許庁 - After the wafer 5 is positioned, pattern dimensions at a specified inspecting part are measured and then the wafer 5 is mounted on a defect detecting function section 17 and a defect sorting function section 18 where defects are detected and sorted.
上記目的を達成するために、本発明は複数台のＳＥＭの内少なくとも一部が、寸法測定，パターン欠陥検査、及びレビューの内少なくとも２以上の機能を有する検査システムを提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for treating paper sheets which can improve a treating speed of the paper sheets without entailing a conveyance defect and reading defect and a method for treating the paper sheets applied for the same.
搬送不良及び読取不良を招くことなく、紙葉類の処理速度を向上することが可能な紙葉類処理装置及びこれに適用される紙葉類処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a method of producing a defect sorter and a method of automatically sorting defects, in which a defect sorting request from a user is made clear and the sorting request is programmed as a sorting guide inside a system.
ユーザの欠陥分類要求を明確化し、前記分類要求をシステム内部の分類基準として組み込むことが可能な欠陥分類器の生成方法並びに欠陥自動分類方法を提供する。 - 特許庁
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