「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 152 153 154 155 156 157 158 159 160 .... 366 367 次へ＞- To provide a liquid crystal display wherein a display defect such as color unevenness and a conduction defect are eliminated, generated by expansion and contraction of a conductive resin provided between a substrate on which a counter electrode is formed and a circuit substrate supplying potential to the counter electrode.
対向電極が形成された基板と該対向電極に電位を供給する回路基板間に設けられた導電性樹脂の伸縮によって発生する色ムラ等の表示不良及び導通不良を無くした液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide defect inspection apparatus having a GUI for simply controlling a plurality of probes in a defect inspection apparatus in which the plurality of probes for measuring electrical properties of samples containing fine circuit wiring patterns are combined with a charged particle beam apparatus.
微細な回路配線パターンを含む試料の電気特性を測定する複数のプローブと荷電粒子線装置とを組み合わせた不良検査装置において、複数のプローブを単純に制御するためのＧＵＩを有する不良検査装置を提供する。 - 特許庁 - When a defect sector is detected in an area where the predetermined system information is written, the MPU 18 executes sector slip processing to allocate address information sequentially from a next sector of the defect sector without allocating any address information to the defective sector.
また、ＭＰＵ１８が、上記所定のシステム情報が書き込まれる領域において欠陥セクタが検出された場合に、欠陥セクタへのアドレス情報の割り当てをせずに、欠陥セクタの次のセクタから順次アドレス情報を割り当てるセクタスリップ処理を実行する。 - 特許庁 - Wafer transfer images estimated by the wafer transfer simulator 400 are sent to a comparing circuit 301 and, when it is determined that there is a defect, the coordinate and the wafer transfer image as a basis for the defect determination are stored as transfer image inspection results 206.
ウェハ転写シミュレータ４００で推定されたウェハ転写像は比較回路３０１に送られ、比較回路３０１で欠陥と判定されると、その座標と、欠陥判定の根拠となったウェハ転写像とが、転写像検査結果２０６として保存される。 - 特許庁 - To allow thinning stop of a wafer by a thinning stop layer to be accurately performed by reducing the occurrence of a film formation defect of an epitaxial film due to an implantation defect of oxygen ions into a surface layer, and to capture metal impurities of the epitaxial layer and an active layer.
表層への酸素イオンの注入欠陥に起因するエピタキシャル膜の成膜欠陥の発生を低減し、薄膜化ストップ層によるウェーハの薄膜化ストップを高精度に行え、エピタキシャル膜および活性層の金属不純物を捕獲可能とする。 - 特許庁 - To provide an implantable prosthesis and a method of the same for repairing an anatomical defect, such as a tissue or muscle wall defect, by promoting tissue ingrowth thereto, while limiting the incidence of postoperative adhesions between a portion of the prosthesis and tissue or organs.
プロテーゼと組織又は器官との間の術後癒着の発生を制限する一方、組織の内方成長を促進することにより、組織及び筋肉壁の欠陥等の解剖学的欠陥を修復するための埋め込み式プロテーゼと方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an inspection device capable of obtaining a focused and clear enlarged image of a surface of a metal mold for anti-glare treatment having surface unevenness, and thereby capable of detecting a defect and determining whether the metal mold is a defect or not, with high accuracy.
表面凹凸を有する防眩処理用金型の表面について焦点の合った鮮明な拡大画像を取得することができ、もって、欠陥の検出および欠陥か否かの判別を精度良く行なうことができる検査装置を提供する。 - 特許庁 - A defect detecting device 1 compares a bottom hold signal S2 obtained by detecting a bottom level of a peak hold signal S1 in which a peak level of an input RF signal is detected with a voltage threshold value Vth in a comparing circuit 12, and outputs a defect detection signal.
欠陥検出装置１は、入力されたＲＦ信号のピークレベルを検出したピークホールド信号Ｓ１のボトムレベルを検出して得られるボトムホールド信号Ｓ２と、電圧閾値Ｖｔｈとを比較回路１２において比較し、欠陥検出信号を出力する。 - 特許庁 - To provide a wiring board which enables to get a circuit board with no defect in a bonding process under the influence of heat by a reflow furnace and the like, and also provide an equipment using a circuit board with such a reduced defect in a bonding process caused by heating.
リフロー炉等での熱の影響を受けても接合不良の発生していない回路基板が得られるような配線基板を提供すること、および、そのような熱変形による接合不良が低減された回路基板を用いた電気機器を提供すること。 - 特許庁 - When a defect in soldering is detected, the heating element 3 attached to the terminal electrode 7 having the defect in soldering is in an ON state, the temperature detecting element 16 monitors a temperature rise, and the heating element 3 is controlled to stop the BGA package from being locally overheated.
半田付けの不良が発見されると、当該不良半田の端子電極７に付属している発熱素子３がオンとなり、温度検出素子１６が温度上昇を監視し、発熱素子３を制御することで、局所的なＢＧＡパッケージの過熱が阻止される。 - 特許庁 - A data defect probability estimating part 13 estimates the probability that a block under consideration causes data defect by errors based on the estimated value of the code quantity of the block under consideration obtained in the preceeding procedure and the code quantity from the latest synchronous code up to just before the block under consideration.
データ欠損確率推定部１３は、その際に得られる注目ブロックの符号量の予測値および最新の同期符号から注目ブロックの直前までの符号量から、注目ブロックが誤りによってデータ欠損を起こす確率を推定する。 - 特許庁 - If a defect is not generated under a state where both correction processing A and correction processing B are performed, content of the original image is simply approached even if any one of the correction processing A or correction processing B is reset and the possibility of generating a defect is low.
補正処理Ａと補正処理Ｂの双方を実施した状態でディフェクトが発生していなければ、補正処理Ａと補正処理Ｂのいずれかを元に戻したとしても、それは原画像の内容に近づくだけであり、ディフェクトが発生する可能性は低い。 - 特許庁 - When data Dn of respective pixel detected when carrying out exposure in a predetermined time in a dark status exceed a defect decision value Dtha in a step S106, the pixels are defined as those pertinent to defective pixels, and set as the object of defect correction in a step S108.
ステップＳ１０６で真っ暗な状態で所定時間露光したときに検出された各画素のデータＤｎが欠陥判定値Ｄｔｈａを超えるときにはステップＳ１０８でその画素は欠陥画素に該当するとして欠陥補正の対象とする。 - 特許庁 - (2) Should the appeal be considered to be substantiated, the contested judgment shall have to be set aside. Should the judgment be set aside due to a procedural defect, said procedure shall also have to be discontinued to the extent that it was affected by the defect.
(2) 控訴は理由があると判断された場合は，不服申立がされた判決は破棄される。判決が手続上の欠陥を理由として破棄される場合は，その手続はまた，その欠陥によって影響を受けていた範囲については，停止されるものとする。 - 特許庁 - To solve the serious problems that the laser repairing method which corrects a defect and a residual defect of a photomask can hardly implement the uniform film deposition of large area and moreover, Cr particles generated at the time of laser transpiration restick to the surface of the substrate.
フォトマスクの欠損欠陥、残留欠陥を修正するレーザリペア方法では、それぞれ大面積の均一な成膜が困難であり、またレーザ蒸散時に発生するＣｒが微粒子となり基板上に再付着すること大きな問題となっている。 - 特許庁 - Thereby, when there exists a defect at the portion provided in the hole 61 of the inspection electrode means 6, discharge is made at the defective part, thereby a defect of the piezoelectric tube 3 provided at the hole 61 of the inspection electrode means 6 can be identified.
これによって、検査用電極手段６の孔６１に配設された部分に欠陥が存在する場合、その欠陥部で放電するため、欠陥が検査用電極手段６の孔６１に配設された圧電体チューブ３に存在することを特定できる。 - 特許庁 - To provide a defect classification system capable of performing classification similar to human judgement on defects such as resist coating irregularities, exposure failures, flaws, the adhesion of dust without having to register defect data in micro-inspections principally on semiconductor wafers and liquid crystal panels.
主に半導体ウェハ及び液晶パネルのマクロ検査におけるレジストの塗付ムラや露光不良、キズ、塵埃の付着などの欠陥に関して、欠陥データの登録を必要とせず、より人間の判断に近い分類を可能にする欠陥分類装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a printed wiring board, wherein an outer shape machining accuracy can be inspected without adding a special device and process and furthermore the factor of defect in outer shape machining can be specified and the degree of the defect can be investigated, and to provide a printed wiring board.
特別な装置や工程を追加することなく外形加工精度を検査することができ、更に、外形加工の不具合要因を特定し、その不具合の程度を調査することができるプリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供する。 - 特許庁 - To provide an object-shape evaluating device which properly performs congruence transformation on a measurement point group and a reference point group and reducing a defect incorrect detection caused by mold correction, when detecting a defect on the basis of the shift between the reference point group and the measurement point group.
測定点群と基準点群との合同変換が適正に行われるとともに、基準点群と測定点群とのずれから欠陥を検出する際に型修正に起因する欠陥誤検出が低減される物体形状評価装置を提供する。 - 特許庁 - A device 10 which detects a defect contained in a long-size belt-like sheet 21, discharges a product 1 containing the defect as the defective 1' after cutting a long-size belt-like processing product 100 and generates a shift signal every time the processing product 100 is cut is used.
長尺帯状シート２１に含まれる欠陥を検出し、該欠陥を含む製品１を、長尺帯状加工品１００の裁断後に不良品１’として排出し、かつ加工品１００を裁断するたびにシフト信号を発生させる装置１０を用いる。 - 特許庁 - An encapsulation device for repair of articular cartilage defects includes a body 10 for disposition adjacent a bone in an area 55 of the cartilage defect, and elongated leg structure 25 extending from the body and for disposition in the bone in the area of the cartilage defect.
関節軟骨欠陥を修復するためのカプセル形成装置は、軟骨欠陥の領域５５で骨に隣接して配置するためのボディ１０と、該ボディから延在し、且つ、軟骨欠陥の領域で、骨内に配置するための細長い脚構成部２５と、を備える。 - 特許庁 - To provide a defect detecting device for highly accurately detecting a defective pixel, even in a photographing state without camera shake or even for a subject having a high frequency component, without requiring a camera shake detector, and to provide a defect detection method.
手振れ検出器を必要とせず、手振れがない撮影状態においても、また高周波成分を持った被写体に対しても、高精度に欠陥画素を検出可能な欠陥検出装置および欠陥検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Further, the controller 212 stores signal levels of the defective pixels, and carries out conversion of the signal level in response to each reading method so that detection of a defect by one reading method permits defect correction by a plurality of the reading methods as its control.
また、コントローラ２１２は、欠陥画素の信号レベルを記憶して、各読み出し方法に応じてその信号レベルを変換することにより、１つの読み出し方法による欠陥検出によって、複数の読み出し方法の欠陥補正が行えるように制御する。 - 特許庁 - To provide a deciding method with which the variation of a joining condition which causes a joining defect is always detected so that the part of joining defect in a joining process is identified by the joining condition and a normal/defective condition is decided for a joint of a friction stir joining.
摩擦撹拌接合継ぎ手について、接合工程において接合不良部が接合条件から特定されるように、接合不良を発生する接合条件の変化を常時検知し、かつその良否を判別する判別法を工夫すること。 - 特許庁 - To provide a defect correction method and a manufacturing method of an alignment layer, which can contribute to yield improvement of a liquid crystal display panel, a manufacturing method of a liquid crystal display panel, a manufacturing method of a liquid crystal display device, and an alignment layer defect correction device.
液晶表示パネルの歩留まり向上に貢献することができる配向膜の欠陥修正方法及び製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに、配向膜欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an electrooptical device in which occurrence of a spot defect and a line defect caused by disconnection in an upper electrode material is prevented by preventing distortion of an element portion and a storage capacitor portion during a heat treatment process, and also to provide an electronic appliance.
熱処理工程による素子部分および保持容量部分の変形を防止することにより、上電極材料の断線に起因する点欠陥や線欠陥が発生することを防止可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。 - 特許庁 - A function of suppressing the influence of a noise signal due to a flaw of the recording medium 1 on an SD signal enables a DEFECT signal SDD from the recording medium to be detected without generating any false DEFECT signal.
当該ＳＤ信号に対する記録媒体１の傷などに起因するノイズ信号からの影響を抑制する機能により、疑似ＤＥＦＥＣＴ信号を発生させることなく、記録媒体１からＤＥＦＥＣＴ信号ＳＤＤを検出することを可能とする。 - 特許庁 - When both the side misregistration and side skew occur, the image defect is not caused by positionally moving the image in the main scanning direction by the amount equivalent to the value obtained by subtracting the defect amount from the correction amount calculated by the correction amount calculation part.
また、サイドレジずれとサイドスキューが発生している場合も、画像の位置を主走査方向に向かって、補正量算出部によって算出された補正量から欠損量を差し引いた値に相当する分だけ移動させると、画像欠損は発生しない。 - 特許庁 - The oxygen reduction catalyst includes a transition metal oxide the crystal lattice of which is expanded by introducing an oxygen defect independently in the crystal lattice or introducing the oxygen defect thereinto and substituting at least one of a carbon atom and a nitrogen atom for a part of oxygen atoms.
酸素欠陥が単独で導入される、又は、酸素欠陥が導入されかつ酸素原子の一部が炭素原子及び窒素原子の少なくとも一方で置換されることにより結晶格子が膨張した遷移金属酸化物を含む酸素還元触媒。 - 特許庁 - To surely excite a defect and to accurately detect yellow luminescence derived from the defect even when inspecting a nitride semiconductor device having a nitride semiconductor layer having a large thickness and a nitride semiconductor device with an HEMT (high electron mobility transistor) fabricated therein.
層厚の厚い窒化物半導体層を有している窒化物半導体装置、及びＨＥＭＴが作り込まれている窒化物半導体装置を検査する場合においても、欠陥を確実に励起させ、かつ欠陥に由来するイエロールミネッセンスを精度良く検出する。 - 特許庁 - To provide a method for controlling a microorganism in a papermaking process capable of simply and surely decreasing generation of a defect of paper products by simply and surely specifying a generation site of the microorganism causing the defect of the paper products.
紙製品の欠点の原因となっている微生物の発生場所を簡単に、かつ確実に特定し、これに基いて紙製品の欠点の発生を簡単に、かつ確実に低減させることができる製紙工程における微生物制御方法を提案する。 - 特許庁 - To provide an electrostatic charging member which is free of the occurrence of static charge defect due to local unevenness of the close contact force of a multiple layer tube being formed simultaneously and the defect of the close contact of interlayers, a processing cartridge provided with the charging member, and to provide an an electrophotographic device.
同時成形された多層チューブの局所的な密着力の不均一や各層間の密着不良に起因する帯電不良が生じない帯電部材、その帯電部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a printed board inspection device constituted to make a defect appear clearly on a photographed image, as to the defect with a length direction thereof near to a moving direction of a printed board in the same direction, out of the defects such as flaws existing on a surface of the printed board.
プリント基板の表面に存在する傷など欠陥のうち、その欠陥の長さ方向がプリント基板の移動方向と同一方向に近似するものについて、その欠陥が撮影画像上に明確に表れるようにしたプリント基板検査装置の提供 - 特許庁 - After allowing the drawn POF 13 to pass a pass formation part, light dissipated by a defect from the circumferential surface of the POF 13 is detected by light receiving sensors 50a, 50b, and existence of a defect is determined based on signals from the light receiving sensors 50a, 50b.
延伸されたＰＯＦ１３はパス形成部を経由した後、ＰＯＦ１３の外周面から欠陥によって散逸する光を受光センサ５０ａ，５０ｂにより検出し、この受光センサ５０ａ，５０ｂからの信号に基づき欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - A ZnO film 2 of a prescribed thickness is deposited on the surface of the primary seed crystal 21 by a vapor phase growth process (VPE) for the purpose of preventing the influence of the crystal defect regions, by which the arrival of the crystal defect regions at the surface of the ZnO film 2 is prevented.
この結晶欠陥領域の影響を防止するために気相成長法（ＶＰＥ）によって、１次種結晶２１の表面に所定厚さのＺｎＯ膜２を成膜し、結晶欠陥領域がＺｎＯ膜２の表面まで到達しないようにする。 - 特許庁 - To record data by physically evading a segment made into a defective segment in reusing an information recording medium used thus far by a format or writing system having a defect management function by a format or writing system not having the defect management function.
欠陥管理機能を有するフォーマット又は書き込み方式で使用されていた情報記録媒体を、欠陥管理機能を有さないフォーマット又は書き込み方式で再使用するときに、物理的に欠陥部分となった部分を回避してデータを記録できるようにする。 - 特許庁 - Wire repairing technique includes: supplying metal particulates (24) to a wire defect part (20) of the circuit board (10) to be repaired; and blowing a gas (22a) which is heated and contains oxygen to the metal particulates (24) supplied to the wire defect part (20) to bake the metal particulates.
配線補修技術は、回路基板(10)の補修すべき配線欠損部分(20)に金属微粒子(24)を供給し、加熱されたガスであって酸素を含むガス(22ａ)を前記配線欠損部分(20)に供給された金属微粒子(24)に吹き付けて、該金属微粒子を焼成する。 - 特許庁 - In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.
電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁 - To provide a reticle defect inspection method and a reticle defect inspection device capable of calibrating the offset and gain of a sensor amplifier using a product reticle even though black and white regions each sufficiently wider than a TDI sensor imaging area do not exist in the product reticle.
製品レチクルにＴＤＩセンサ撮像面積に比して充分な広さの黒領域及び白領域が存在しなくても、製品レチクルを用いてセンサアンプのオフセット及びゲインの調整が可能なレチクル欠陥検査方法及びレチクル欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To defect-inspect a flat display panel, using a line sensor of high resolution to verify a degree of the defect in detail and precisely, and to efficiently conduct measurement to shorten the inspection time.
平面表示パネルを高分解能のラインセンサを用いて欠陥検査し、欠陥の程度を詳細かつ精度よく検証することができ、効率よく測定を行うことにより、検査時間を短縮する平面表示パネルの欠陥検査装置および方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a new cell structure which can be reduced in an optical defect resulting from a reflection surface formed into a rough surface and a defect on a cell structure in a liquid crystal device provided with a reflection layer having a conventional reflection surface formed into the rough surface.
従来の粗面化された反射面を備えた反射層を有する液晶装置において、粗面化された反射面に起因する光学的な不良及びセル構造上の不良の発生を低減することのできる新規のセル構造を提供する。 - 特許庁 - A program to be tested is tested, and defect information, including a test information number for indicating a test that resulted in rejection and defect phenomenon information for indicating a phenomenon generated by performing the test to the program to be tested, is created.
試験対象プログラムに試験を行い、合否結果が不合格となった試験を表す試験情報番号、およびこの試験を試験対象プログラムに行うことによって生じる現象を表す欠陥現象情報を含む欠陥情報を作成する。 - 特許庁 - Thus, while executing control so as to perform highly efficient power transmission in the stable operation period T2, the activation defect of the electronic apparatus 2 (the defect that the power capable of activating the electronic apparatus 2 is not transmitted) in the initial operation period T1 is avoided.
これにより、安定動作期間Ｔ２において高効率な電力伝送がなされるように制御しつつ、初期動作期間Ｔ１における電子機器２の起動不良（電子機器２が起動可能な電力が伝送されなくなってしまうこと）が回避され得る。 - 特許庁 - To provide a pattern defect inspection device capable of detecting a defect with high inspection accuracy even when a pattern is formed with a transparent film on an object under inspection and the film thickness of the transparent film is varied according to the position on the object under inspection.
被検査物体上に透明薄膜でパターンが形成されていて、その透明薄膜の膜厚が被検査物体上の位置によって変化している場合においても、高い検査精度で欠陥を検出できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus in which an increase in the size of an image forming apparatus body is suppressed by effectively using the space in the image forming apparatus body and which solves problems such as an image defect and a function defect due to sticking and scattering of toner by effectively cooling an intermediate transfer body belt.
画像形成装置本体内のスペースを有効活用して大型化を抑え、中間転写体ベルトを効率的に冷却し、トナーの付着や飛散による画像不良や機能不良などの問題を解消した画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - This device has a configuration wherein, when detecting a foreign matter or a defect on the surface of the inspection object, a parameter for digital filtering is changed dynamically during inspection, and the foreign matter or the defect is discriminated by using a result acquired by removing a low-frequency changing component which is a noise component.
そして、被検査体表面上の異物や欠陥を検出する際、デジタルフィルタリングのパラメータを検査中に動的に変化させ、ノイズ成分である低周波変動成分を除去した結果を用いて、異物や欠陥を弁別する構成とする。 - 特許庁 - To facilitate the selection of an image in which the feature of a defect is best reflected, in a defective image selecting device, a defective image selecting method and a defective image selecting system which are employed upon analyzing a defect generated in the manufacturing process of a semiconductor wafer.
半導体ウェハの製造工程において生じる欠陥を解析する際に用いられる欠陥画像選択装置、欠陥画像選択方法及び欠陥画像選択システムにおいて、最も欠陥の特徴がよく映っている画像を選び出すことを容易とする。 - 特許庁 - The presence/absence of an anisotropic defect 6 on the surface 2a of a semiconductor wafer 1' is detected by scanning the surface 2a of the wafer 1' with light L along the longitudinal direction of the defect 6 on the basis of the direction of semiconductor crystals constituting the wafer 1'.
半導体ウェーハ１′を構成する半導体の結晶の方向を基準にして、異方性を有した欠陥６の長手方向に沿って光Ｌを走査し、半導体ウェーハ表面２ａに存在する異方性を有した欠陥６の有無を検出する。 - 特許庁 - The method also comprises a step for warning the gas leak by the breakage of the pipe when the hydrogen variation amount ΔQ is in the leak area (S140), and outputting the sensor defect for warning when the hydrogen variation amount ΔQ is in the defect area continuously for a prescribed time (S160).
水素変動量ΔＱが漏れ領域にあるときには配管破断などによるガス漏れを警告出力し（Ｓ１４０）、水素変動量ΔＱが所定時間継続して不良領域にあるときにはセンサ異常を警告出力する（Ｓ１６０）。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection method and device that can inspect a pattern defect formed on a substrate with high accuracy in a short time, and specially, sufficiently prevent degradation of detecting sensitivity and inspection accuracy of a defect to a boundary part of pattern density of an element.
基板上に形成されたパターンの欠陥検査を高精度且つ短時間で行うことができ、殊に、素子のパターン疎密の境界部に対しても、欠陥の検出感度及び検査精度の低下を十分に防止できるパターン検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁
