「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 153 154 155 156 157 158 159 160 161 .... 366 367 次へ＞- To provide a verifying method for verifying whether defect managing area(DMA) information is to be normally generated or updated after reinitialization while a defect list is removed without detection through disk recording/reproducing device and to provide a test device for performing the method.
ディスク記録及び再生装置を通じ検定せずに欠陥リストを除去しつつ再初期化後に、欠陥管理領域（ＤＭＡ）情報を正常に生成または更新するかを検証するための検証方法及びこれを行うためのテスト装置を開示する。 - 特許庁 - To provide a defect area management method for managing the defect area of an optical recording medium by which an error generated by containing the defective blocks contained in a spare area in a user area after formatting is prevented while maintaing compatibility with an existing system.
既存の方式と互換性を維持しながら、フォーマッティング後、スペア領域の欠陥ブロックがユーザー領域に含まれて発生していたエラーを防止できるようにした、光記録媒体の欠陥領域を管理する欠陥領域管理方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a power supply monitoring system of a control board which can interface connections of a power supply monitoring board and each distribution board by using a simple power supply defect signal, and can collects even power a supply defect in each distribution board by using a power supply monitoring panel using hardware.
電源監視盤と各分電盤との接続を単純な電源故障信号によりインターフェイスできると共に、各分電盤内の電源故障もハードウェアによる電源監視パネルにより故障収集できる制御盤の電源監視方式を得る。 - 特許庁 - Consequently, the surface layer is heated at a temperature equal to or higher than 1,350°C and lower than the fusion point, so that the dislocation in the STI region is prevented to reduce or eliminate the polishing damage, the local unevenness defect of the wafer surface caused by polishing or a microcrystal defect.
これにより、表層が１３５０℃以上融点未満で加熱されるので、ＳＴＩ領域の転位発生を防ぎ、研磨ダメージやウェーハ表面の研磨起因の局所的な凹凸欠陥あるいは微小結晶欠陥を低減または消滅できる。 - 特許庁 - To provide an LSI inspection circuit capable of realizing inspection of an LSI operated with a low voltage at high speed, without being influenced by a capacity component and a resistance component added to an external terminal, and facilitating specification of a defect sport when a defect is generated in the LSI inspection.
低電圧高速動作するＬＳＩの検査を、外部端子に付加される容量成分、抵抗成分の影響を受けずに実現し、ＬＳＩ検査で不良が発生した場合、不良個所の特定を容易にするＬＳＩ検査回路を提供する。 - 特許庁 - An in-plane distribution display result of a defect or foreign matter on a sample surface and haze distribution display are comparatively displayed on the same screen, and those of inaccurate size and depth are colored and displayed in the distribution in a defect screen, so that the accurately measured defects are clearly displayed.
欠陥または試料表面の異物の面内分布表示結果と、ヘイズ分布表示を同一画面で比較表示させ、さらに、欠陥面内分布内でサイズと深さの不正確なものを色をつけて表示し、正確に計測された欠陥を明示する。 - 特許庁 - To provide an optical member capable of suppressing a defect of appearance due to bubbles generated between the optical member and a transparent protective member, and to provide an image display device whose defect of appearance is suppressed by using the optical member.
光学部材と透明保護部材の間に生じる気泡による外観上の不具合を抑制しうる光学部材を提供すること、及び、当該光学部材を使用することにより、前記外観不良が抑制された画像表示装置を提供すること。 - 特許庁 - Consequently, even when, for example, replacement of batteries, etc., is performed when writing the defect data in the second storage area of the EEPROM 118, generation of an event that the initial defect data in the first storage area is destructed by the replacement of the batteries is prevented.
よって、ＥＥＰＲＯＭ１１８の第２の記憶領域への欠陥データの書き込み中に例えば電池交換などが行われた場合であっても、それによって第１の記憶領域の初期欠陥データが破壊されるという事態の発生を防止することができる。 - 特許庁 - To provide an inexpensive quality control system for a manufacturing line which realizes measurement of the operation condition of manufacturing equipment thereby facilitating detection of a step where defect occurs in a product and facilitating pursuit of failure of equipment causing the defect and which enables Ethernet (R) to be used.
製造装置の稼動状態の測定が可能で、製品不良の発生した工程の発見や、不良原因となった装置不具合の追求が容易かつ、イーサネット（登録商標）の使用が可能で安価な製造ラインの品質管理システムを提供する。 - 特許庁 - To obtain a reproduction output signal for inspection having a sufficient level even at the time of off-track of a magnetic heat for inspection, when the defect inspection of a discrete track type magnetic disk medium provided with grooves is performed by using a defect inspecting device for the present mass-production line not furnished with servo function.
溝付きのディスクリート・トラック型磁気ディスク媒体の欠陥検査を、サーボ機能を備えていない既存の量産ラインの欠陥検査装置を用いて行う際、検査用磁気ヘッドのオフトラック時にも十分なレベルの検査用再生出力信号を得る。 - 特許庁 - This light emitter having a light-emitting layer comprising a nitride semi-conductor layer excited by the irradiation of electron beams or UV light to emit light is characterized in that the supper lattice structure of the nitride semi-conductor layer has regions having low defect concentrations and regions having high defect concentrations.
電子線又は紫外線照射により励起されて発光する窒化物半導体層からなる発光層を含む発光体であって、該窒化物半導体層の超格子構造が、欠陥濃度の低い領域と欠陥濃度の高い領域を有する。 - 特許庁 - To provide a method for inspecting a substrate, which can reduce the number of pseudo-defects that are erroneously detected and detect a real defect that should normally be detected without deteriorating a defect detection sensitivity, and a method for creating a filter image for the substrate inspection.
誤って検出される擬似欠陥の数を低減できるとともに、欠陥の検出感度を落とすことなく、本来検出されるべき真の欠陥を検出できる基板検査方法及びその基板検査用のフィルタ画像の画像作成方法を提供する。 - 特許庁 - To compensate a waste of information due to transient information as a defect of broadcasting media or too much information as a defect of print media by the optionality of information display by the Internet as other media and to release a user from the troublesomeness of URL input operation.
放送メディアの欠点である一過性の情報、あるいは印刷メディアの欠点である情報過多による情報の無駄を、他のメディアであるインターネットによる情報表示の任意性で補い、かつ、ユーザをＵＲＬ入力操作の煩わしさから解放する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection apparatus for substrates, which substantially improves accuracy in defect inspection when light reflected from substrates are detected to inspect defects of the substrates on the basis of results of the detection despite a simple constitution and having cost advantage.
基材からの反射光を検出してその結果に基づいて基材の欠陥検査をおこなうにあたり、構成が簡易であると共にコスト的に有利でありながら、欠陥検査の精度を著しく向上することができる基材の欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect detection apparatus capable of shortening an imaging tact as further as possible when detecting a defect in a plane display panel such as a liquid crystal panel in which pixels of a plurality of colors constituting a picture element are arranged in a matrix shape through pixel displacement.
絵素を構成する複数色の画素がマトリクス状に配列された液晶パネルなどの平面表示パネルにおける欠陥を画素ずらしによって検出する場合に、撮像タクトを可及的に短縮することができる欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁 - At the time of inspection a pixel brighter than a corresponding pixel on the extended image and a pixel darker than a corresponding pixel on the reduced image about the image to be inspected are extracted and the existence of a defect is discriminated from a defect extraction image obtained by integrating the extracted results.
検査時には、検査対象画像について、膨張画像上の対応画素よりも明るい画素と収縮画像上の対応画素よりも暗い画素とを抽出し、その抽出結果を統合した欠陥抽出画像から欠陥の有無を判別する。 - 特許庁 - To avoid a failure due to a fact that a normal pixel erroneously detected from some reasons in the case of defect detection or a temporarily generated defective pixel are additionally registered as a defective pixel by realizing optimal control of additional registration regarding detected defect data.
検出欠陥データに関する最適な追記登録制御を実現し、欠陥検出時に何らかの原因で誤って検出された正常画素あるいは一時的に生じた欠陥画素を欠陥画素として追加登録してしまうことによる不具合を回避する。 - 特許庁 - When presence of defect in the read objective storage area is determined by the defect discriminating circuit 2 at the reading access to the memory section 1, the data written into the scan flip-flop SFF 5 are outputted from a selection circuit 7 as the read data of the memory section 1.
メモリ部１への読み出しアクセスの際に、欠陥判定回路２において読み出し対象の記憶領域に欠陥があると判定されると、選択回路７からは、スキャンフリップフロップＳＦＦ５に書き込まれたデータがメモリ部１の読み出しデータとして出力される。 - 特許庁 - To surely mark a defect position so as to encircle a defect of pressing flaw, scratch, etc., generated in rolling and to easily identify presence/absence and the defective positions of a steel plate in visual inspection.
圧延時に生じた押し疵や擦り疵等の欠陥を囲むように欠陥位置を示すマーキングを鋼板表面に確実に施すことができ、この結果、客先での鋼板の目視検査時において、鋼板に存在する欠陥の有無および位置を容易に認識することができる。 - 特許庁 - To provide an electrooptical device capable of preventing the occurrence of a point defect and line defect due to the disconnection of an upper electrode material by preventing the deformation of an element portion and a holding capacitor portion due to a heat treatment process, and to provide electronic equipment.
熱処理工程による素子部分および保持容量部分の変形を防止することにより、上電極材料の断線に起因する点欠陥や線欠陥が発生することを防止可能な電気光学装置および電子機器を提供すること。 - 特許庁 - To provide an injection molding machine and a method for evaluating resin moldability, which enable the efficient selection of a material hardly causing a defect in appearance, by enabling the difficulty of the occurrence of the defect in the appearance of a resin-to-be-evaluated to be evaluated by using an index.
被評価樹脂の外観不具合に対する発生のしにくさを指標によって評価できるようにして、外観不具合が発生しにくい材料を効率的に選定できるようにする射出成形機及び樹脂成形性評価方法を提供する。 - 特許庁 - In the defect inspection method for a display device, a defect is detected on the basis of lightness differences D1, D2 in an image domain of a display panel on the occasion of application of an intermediate voltage B between a first voltage A for making the transmittance approximately maximum and a second voltage C for making the transmittance approximately minimum.
透過率を略最大とする第１電圧Ａと透過率を略最小とする第２電圧Ｃとの間の中間電圧Ｂを表示パネルに印加した際の表示パネルの画像領域における明度差Ｄ１，Ｄ２に基づいて、欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide an oscilloscope for automobile inspection which can accurately measure an object to be inspected without depending upon the ability of an operator and easily specify an electric component where a defect is generated or electric component having a defect always in a short time.
作業者の能力に依存することなく検査対象の的確な測定が可能で不良が発生した電気部品、或いは欠陥を持った電気部品が常に短時間で容易に特定できるようにした自動車検査用オシロスコープを提供すること。 - 特許庁 - The control part 401 discriminates a scanning finished domain from a scanning unfinished domain, based on the defect inspection result data, displays the result on a monitor 402, discriminates a defect detection position in the scanning finished domain, and displays the result on the monitor.
制御部４０１は、欠陥検査結果データに基づいて、走査終了領域及び走査未終了領域を識別して、モニタ４０２上に表示させるとともに、走査終了領域中の欠陥検出位置を識別して、モニタ上に表示させる。 - 特許庁 - In this constitution, the unit 107 and the defect detection means 108 are moved to different positions in the generatrix direction of the photoreceptor 101 to be able to simultaneously operate the surface potential measuring means 106 and the defect detection means 108.
この構成により、ユニット１０７及び欠陥検出手段１０８を感光体１０１の母線方向において互いに異なる位置に移動させ、表面電位測定手段１０６及び欠陥検出手段１０８を同時に動作させることが可能になる。 - 特許庁 - Predicted registration is added before defect on a magnetic disk grows and reaches a normal sector by writing a pattern for judgement in an predicted registration sector adjacent to the defect and monitoring a read-error of this pattern, and reliability of data of the magnetic disk unit is therefore improved.
欠陥に隣接する予想登録セクタに判定用パターンを書き込み、このパターンのリードエラーを監視することにより、磁気ディスク上の欠陥が成長して正常なセクタに到達する前に予想登録を追加し、磁気ディスク装置のデータ信頼性を向上する。 - 特許庁 - Thus, the fatal region pattern and the inspected pattern are compared to detect the defect from the non-coincidence of both patterns and hence the defect of the necessary indispensable regions corresponding to the center of the wiring pattern can be detected at a high precision.
このように、致命領域パターンと、検査パターンとを比較して、両パターンの不一致により欠陥を検出するため、大型の配線パターンであってもこの配線パターンの中心部に対応する必要不可欠な領域の欠陥を高精度に検出できる。 - 特許庁 - A defect determination section 3 compares the output value of the Q filter for each pixel obtained by the filter application section 3 with a predetermined threshold, and outputs a pixel having an output value that is larger than the threshold and the Q filter output value as defect information.
欠陥判定部３は、フィルタ適用部３により得られた各画素毎のＱフィルタの出力値を、予め定められたしきい値と比較し、しきい値より大きな出力値を持つ画素及びそのＱフィルタ出力値を欠陥情報として出力する。 - 特許庁 - When a defect exists in the substrate 0, light from the illumination system is irregularly reflected in a defect position, light quantity to a corresponding picture element on the image picking-up means 6 corresponding to the position is changed and magnified on the monitor 9 to be reflected.
透光性基板Ｏに欠陥が存在する場合、照明系からの光は該欠陥位置で乱反射され、その位置に対応する撮像手段６上の対応画素への光量が変化し、これがモニタ９上に拡大して反映されることとなる。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor in which the occurrence of a ghost can be suppressed, the occurrence of a fluctuation in electric characteristics and image quality defect is reduced and the occurrence of an image quality defect, such as pinhole leakage, is averted, an electrophotographic cartridge, and an electrophotographic apparatus.
ゴーストの発生を抑えることができ、繰り返し使用しても、電気特性の変動、画質欠陥の発生が少なく、またピンホールリーク等の画質欠陥を生じない電子写真感光体、電子写真用カートリッジ及び電子写真装置を提供することである。 - 特許庁 - The white inspecting image over the whole face is displayed on a screen 2, when no defect exists in the liquid crystal light valve 14G of the inspection object, and the inspecting image with a color is displayed on the screen 2, when a defect exists in the liquid crystal light valve 14G of the inspection object.
検査対象の液晶ライトバルブ１４Ｇに欠陥がなければ、スクリーン２には全面が白色の検査用画像が表示されるが、検査対象の液晶ライトバルブ１４Ｇに欠陥があれば、スクリーン２には色付きの検査用画像が表示される。 - 特許庁 - An analysis processing part 23 of an analyzing device 12 performs analysis processing for specifying a processor that has caused the defect based on the placement position information on the processed body in each processor 13 and defect information detected by the inspecting device 14.
そして、解析装置１２における解析処理部２３が、各処理装置１３における被処理体の載置位置情報と、検査装置１４によって検出された欠陥情報とに基づいて、欠陥を生じさせた処理装置を特定する解析処理を行う。 - 特許庁 - To provide an image forming method where the sticking of wax to a contact charging member is suppressed, further, the generation of an image defect caused by a charging defect is prevented, and image stability can be maintained, to provide a toner composition for electrostatic image developing, to provide an image forming apparatus, and to provide a process cartridge.
接触帯電部材へのワックスの付着を抑制するとともに、帯電不良による画像不良の発生を防止し、画像安定性が維持できる画像形成方法および静電荷現像用トナー組成物、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a silicon single crystal, by which the silicon single crystal, characterized in that the variation of the crystal defect distribution in the radial direction is small over the whole crystal length and the whole surface of a cut surface cut in the radial direction has one kind of crystal defect area, can be easily manufactured.
結晶全長にわたって径方向の結晶欠陥分布の変化が小さく、径方向の切断面の全面が１種類の結晶欠陥領域であるシリコン単結晶を容易に製造できるシリコン単結晶製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a developer execution environment, a defect reproduction part 36 reproduces the defective operation of the test object program based on the test log 3, and a display part 25 displays circumstances of the defect so that the change of the observation object can be clarified with respect to the recording object event.
開発者実行環境の下では、不具合再現部３６が試験ログ３に基づいて試験対象プログラムの不具合動作を再現し、記録対象事象に対し観察対象の変化が明確になるように表示部２５上に表示がなされる。 - 特許庁 - To provide a method for repairing the opening of a coke oven which surely repairs a joint defect and a damaged portion by a simple method even when the joint defect and the damage of the oven wall bricks in the opening of the coke oven are caused at the same portion and enables the prolongation of the life of the repaired portion.
コークス炉窯口において炉壁レンガの目地切れと欠損が同一箇所で生じた場合にも目地切れおよび欠損箇所を簡易な方法で確実に補修し、補修箇所の寿命を延長可能なコークス炉窯口補修方法の提供。 - 特許庁 - To detect a welding defect in a non-destructive manner easily, surely, when the welding defect is yielded at a welded place when a resin product is produced by welding a thermoplastic resin component 20 to a product body 10 made of a thermoplastic resin.
熱可塑性樹脂で作られた製品本体１０に熱可塑性樹脂で作られた部品２０を溶着して樹脂製品を作るときに、溶着箇所に溶着不良が生じた場合、それを非破壊的に容易にかつ確実に検出することを可能とする。 - 特許庁 - A determination part 7 determines that the inspection target is a defective product when the number of pixels in the defect candidate land is larger than a specific pixel number, and determines that the inspection target is a good product when the number of pixels in the defect candidate land is smaller than the specific pixel number.
判定部７は、欠陥候補ランドの画素数が規定画素数以上である場合、検査対象物が不良品であると判定する一方、欠陥候補ランドの画素数が画素数閾値未満である場合、検査対象物が良品であると判定する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for inspecting a defect of a packaging capable of surely and easily inspecting the defect of the packaging even to a work in which an extremely small electronic component is stored on a carrier tape, and a cover tape is stuck on the carrier tape to make the packaging.
キャリアテープに極小の電子部品が収納され、そのキャリアテープにカバーテープを貼着して包装されてなるワークに対しても、その包装不良を確実に、かつ、容易に検査することができる包装不良検査方法及び装置を提供すること。 - 特許庁 - The wafer evaluation method is characterised in that a wafer to be evaluated is dipped in an etchant formed of ammonia and hydrogen peroxide for a long period of time, and thereafter, a defect corresponding to the pit cluster is evaluated using a light scattering-method particle counter or a defect of 0.3 μm or above is evaluated.
被評価ウエーハをアンモニア−過酸化水素水からなるエッチング液に長時間浸漬し、その後、光散乱方式のパーティクルカウンターを用いピットクラスターに相当する欠陥を評価するか、または０．３μｍ以上の欠陥を評価するようにした。 - 特許庁 - An area having less crystal defect that is flat and superior in crystal quality and another area having concentrated crystal defect appear repeatedly at a nearly constant cycle Λ (≈400 μm) in an (a) axis direction on the crystal growth surface σ of a semiconductor substrate 1 made of GaN.
ＧａＮから成る半導体基板１の結晶成長面σでは、結晶欠陥の少ない平坦で結晶品質の良好な領域と、結晶欠陥集中領域とがａ軸方向において、略一定の周期Λ（≒４００μｍ）で繰り返し現れる。 - 特許庁 - To smoothly perform learning by shortening teaching time of learning by making a sorting system automatically control consistency between the sorting reference of a defect defined by a user and an image feature concerning a method for automatically sorting the defect on the basis of a picked-up image.
撮像画像に基づいて欠陥を自動的に分類する方法において、ユーザが定義する欠陥の分類基準と画像的特徴との整合性を分類システムが自動的に調整し、学習の教示時間を短くし、スムーズに学習をおこなえるようにする。 - 特許庁 - If one of the light emitting elements E11 to Enm for display has a defect of a short circuit, the light emitting elements EO1 to E0n corresponding to the supply lines P1 to Pn illuminate in the timing of its scan and then the defect state can be recognized.
表示用発光素子Ｅ11〜Ｅnmのいずれかに短絡状態の欠陥が生じている場合には、その走査のタイミングにおいて電源供給線Ｐ1 〜Ｐn に対応した検査用発光素子Ｅ01〜Ｅ0nが点灯し、これにより欠陥状態を認識することができる。 - 特許庁 - With respect to the processing method of the nitride semiconductor substrate, first, there is prepared a disk-like nitride semiconductor substrate 20 having a plurality of stripe regions 12 each of which comprises a defect concentrating region having a crystal-defect density higher than the ones of its peripheral single-crystal regions 14.
この窒化物半導体基板の加工方法では、まず、周囲の単結晶領域１４よりも結晶欠陥密度が高い欠陥集中領域からなる複数のストライプ領域１２を備えた円盤状の窒化物半導体基板２０を準備する。 - 特許庁 - To provide a method and device for inspecting multilayered mask for defect by which even an extremely small defect that is formed on a multilayered reflection type mask and is difficult to be detected by means of a means using a visible/ ultraviolet laser can be inspected at a high speed by using a compact light source that can be utilized easily by anybody.
可視・紫外レーザーを用いる手段では検出が困難な多層膜反射型マスク上の極微小欠陥を、高速で検査可能とし、かつコンパクトで誰でも簡単に利用できる光源を用いて実現することを可能とする。 - 特許庁 - An excessive surface 22, of bad crystalinity and comprising defect, which is deposited with a remaining gas in a temperature-falling process from a crystal growth temperature at completion of growth of silicon carbide is removed, and a Schottky electrode 25 is formed on a silicon carbide 24 with reduced defect.
炭化珪素成長終了時の結晶成長温度からの降温過程で残留ガスにより堆積した結晶性が悪く欠陥を含んだ余分な表面２２を除去し、欠陥が低減された炭化珪素２４上にショットキー電極２５を形成する。 - 特許庁 - To eliminate a disk discrimination information area in a disk, by using defect address information recorded in a defect information area of the disk to discriminate the disk, with respect to disk discrimination information which has been conventionally recorded in a management area of the disk.
ディスクの管理領域に従来記録されていたディスク識別情報について、ディスクの欠陥情報領域に記録されている欠陥アドレス情報を利用することによってディスク識別を行ってディスク内でディスク識別情報領域を無くすること。 - 特許庁 - To provide an inspecting device and an inspecting method that remove a fine defect desirous of being ignored which originates from an OPC pattern of a scattering bar etc., in defect inspection of a mask with a pattern, and a manufacturing method for a pattern substrate using the inspecting device and inspecting method.
パターン付きマスクの欠陥検査において、スキャッタリングバーなどのＯＰＣパターンに由来する微小な無視したい欠陥を除去する検査装置及び検査方法とその検査装置及び検査方法を用いたパターン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, the protective layer 20C is deformed, and stress is caused in the surface of the protective layer 20C, with the result that a defect may be caused in the surface of the protective layer 20C due to the stress, ending up cracking or distorting the fixing belt 20 from this defect.
これにより、保護層２０Ｃが変形し、保護層２０Ｃの表面に応力が生じてこの応力によって保護層２０Ｃの表面に欠陥が生じ、この欠陥を起点として定着ベルト２０に亀裂や捩じれが生じることが考えられる。 - 特許庁 - To prevent a forming method for an injection-formed material so as to restrain the occurrence of internal defect (particularly, gas defect) in the case of injection-forming molten light metal in the semi-molten state at a temperature less than the melting point or the molten state at a temperature equal to or just above the melting point.
軽金属溶湯を融点未満の半溶融状態、又は融点乃至融点直上の溶融状態で射出成形する場合において、内部欠陥（特にガス欠陥）の発生が抑止されるような射出成形材の成形方法を提供する。 - 特許庁
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