「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 165 166 167 168 169 170 171 172 173 .... 366 367 次へ＞- A defect address storage unit 46 comprises first and second defect address storage units 46a and 46b which store the address of a longitudinal line flaw of image data outputted during long-time exposure of 1/30 sec., and the address of a longitudinal line flaw of image data outputted during the short-time exposure of 1/60 sec.
欠陥アドレス格納部４６は、１／３０秒の長時間露光時に出力された画像データの縦線キズのアドレスと、１／６０秒の短時間露光時に出力された画像データの縦線キズのアドレスとをそれぞれ格納する第１及び第２欠陥アドレス格納部４６ａ，４６ｂからなる。 - 特許庁 - To provide a defect correction method for a color filter by which a defect in a color filter is corrected in a stable discharged amount of a correction liquid without being affected by the lapse of time when the liquid is not discharged even when a thixotropic correction liquid is used in the case of performing the correction using a microdispenser.
マイクロディスペンサを用いた修正を行う際に、チクソトロピー性を有する修正液を用いても、吐出していない時間の経過に影響されず安定した吐出量でカラーフィルタの欠陥の修正を行うカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a conductive roll, an electrification roll, and a transfer roll which prevent an image defect due to contamination resulting from sticking of foreign matters on a surface, minimizes an image defect when the foreign matters stick, and also prevents a photoreceptor surface from being filmed with the foreign matters.
表面への異物の付着による汚染に起因する画像欠陥の発生を防止するとともに、異物が付着した際の画像欠陥を最小限とし、さらに感光体表面への異物のフィルミングを防止できる導電性ロール、帯電ロール、及び転写ロールの提供である。 - 特許庁 - To provide a multi-color thermal recording material which can detect the coating defect of the upper layer thermal coloring layer in a thermal coloring layer made of two layers in the multi-color thermal recording material, and to provide the manufacturing process of the multi-color thermal recording material which excludes a coating defect position.
多色感熱記録体において、２層からなる感熱発色層中の上層の感熱発色層の塗工欠陥検出を可能した多色感熱記録体および塗工欠陥箇所を排除する多色感熱記録体の製造方法に関するものである。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor which provides an image of high resolution, reduces the occurrence of an image defect even in repeated use, makes such image defect inconspicuous even under severe conditions for the high resolution, and is excellent in electrical characteristics, and an image forming method using the electrophotographic photoreceptor.
解像性の高い画像を得ることができ、繰り返し使用においても画像欠陥の発生が少なく、高解像性という厳しい条件下でも、かかる画像欠陥が目立たず、また電気特性に優れた電子写真プロセスを用いた画像形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To inspect whether the defect of contact is produced or not in contact points applying cathode potential to conductor layers in substrates in a state where the substrates are set, and in the case the defect of contact is found, the substrates are reset, thus the yield can be improved.
基板の導電体層に陰極電位を与える接点に接触不良が生じているか否かを、基板をセッティングした状態で検査し、接点に接触不良が生じていた場合は、基板を再度セッティングし直すことで、歩留りを向上させることができるようにする。 - 特許庁 - In this method of correcting a defect part of a barrier rib of a substrate (back plate) for the plasma display panel provided with the barrier rib formed by patterning a barrier rib forming material and baking the same at a predetermined temperature, a barrier rib mending material is packed in the defect part of the barrier, and re-baked again.
障壁形成用材料をパターンニングし、所定の温度で焼成して障壁を形成したプラズマディスプレイパネル用の基板（背面板）の障壁の欠損箇所を修正する方法であって、障壁の欠損箇所を障壁補修材料で充填し、再度焼成する。 - 特許庁 - When a defect 3 such as a lattice defect or the like in a material 2 to be measured is detected and evaluated by utilizing position annihilation for generating γ-rays from a positron as it annihilates, X-rays are radiated toward the material 2, and a pulse positron group is generated in the material 2.
消滅する際のポジトロンがγ線を生じさせる陽電子消滅を利用して被測定物２内における格子欠陥などの欠陥３を検出し評価する際、Ｘ線を被測定物２に照射して被測定物２内にてパルスポジトロン群を発生させる。 - 特許庁 - Thereby, the visual inspection of a multiple layers phase defect becomes possible by an easy and practical through-put in a hole pattern which cannot be inspected easily by a mask inspection, and the yield is improved by supplying a defect free mask which is performed with a defective relief according to classification of the cause of failure.
これにより、マスク検査では容易に検査できないホールパターンにおける、多層膜位相欠陥を容易かつ実用的なスループットで外観検査が可能となり、欠陥の原因の分類に応じた欠陥救済を行った無欠陥マスクを供給することで歩留まりが向上する。 - 特許庁 - Moreover, as this method for inspecting water stain deposited on a transparent film, a water stain inspection method is used which is characterized by comprising a water stain imaging process for imaging the water stain, a contrast improvement process for improving the contrast of the water stain, and a defect determination process for determining the water stain to be a defect.
また、透明フィルムに付着した水しみを検査する方法において、水しみを撮像する水しみ撮像工程、水しみのコントラストを改善するコントラスト改善工程、水しみを欠陥として判定する欠陥判定工程を有することを特徴とする水しみ検査方法を用いる。 - 特許庁 - In the surface defect evaluation, the surface area defined by a mismatching measurement point group as the surface defect, on the basis of a distribution density of the mismatching measurement point group, including a plurality of measurement points that do not properly correspond to the reference point and adjacent to one another.
表面欠陥評価において、基準点と適正に対応せず互いに隣接する複数の測定点からなる誤対応測定点群の分布密度に基づいて当該誤対応測定点群によって規定される表面領域を表面欠陥と判定する。 - 特許庁 - To provide an inexpensive magnetic flaw detection apparatus having a simple structure and detecting a location and a depth of an internal defect etc. of a thickness decrease etc. of a piping material caused by a pin hole defect, corrosion, etc. generated in a crack, a welding part, etc. in a test object.
簡単な構成で、被試験体における亀裂や溶接部等で生成されるピンホール欠陥、腐食等によって生じる配管材の肉厚減少等の内部欠陥などの位置、深さを検出できる簡単、安価な磁気探傷装置を提供することが課題である。 - 特許庁 - A defect determination means 19b recognizes as the absence area an area other than the the area of the content extracted by the content area extracting means 18, and determines the presence of the defect, based on whether the unnecessary object exists in the recognized absence area or not.
欠陥判別手段１９ｂは、内容物領域抽出手段１８が抽出した内容物の領域以外の領域を不存在領域として認識し、この認識した不存在領域内に不用物が存在するか否かにより欠陥の有無を判別する。 - 特許庁 - Then, based on the stored sample data, an offset signal for offsetting an influence of the control signal based on a false error signal obtained within a prescribed time corresponding to the delay in detecting the defect is generated, and such an offset signal is outputted immediately after the defect is detected.
そして、記憶されたサンプルデータに基づいて、ディフェクトの検出遅れに相当する所定時間内に得られる偽のエラー信号に基づく制御信号の影響を打ち消すためのキャンセル信号が生成され、かかるキャンセル信号がディフェクトの検出直後に制御信号として出力される。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus for detecting a linear defect extended in a vertical direction produced due to a potential dip of a horizontal transfer register and correcting a pixel signal of the detected linear defect when an operating temperature of a solid-state image sensor is low, and to provide a correction method of the pixel signal.
固体撮像素子の動作温度が低い場合、水平転送レジスタのポテンシャルディップに起因して発生する垂直方向に延びる線状欠陥を検出し、検出された線状欠陥の画素信号を補正する撮像装置および画素信号の補正方法を提供する。 - 特許庁 - The image defect inspection device 10 of the present invention is provided with a correlation value calculating means 20 for calculating a correlation value between a differential image in the two collated images and at least one out of the two images, and the detection of the defect is restrained in response to an increase of the correlation value.
画像欠陥検査装置１０を、本発明では対比される２画像の差画像とこれら２画像のうちの少なくとも一方との間の相関値を算出する相関値算出手段（２０）を備えて構成し、この相関値の増加に応じて欠陥の検出を抑制する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a single crystal, by which a value of V/G having a desired defect area and/or a desired defect-free area can be determined more precisely when the single crystal is pulled by controlling the value of V/G, and a desired quality single crystal can be pulled more exactly.
Ｖ／Ｇ値を制御して単結晶を引上げる際に、より正確に所望欠陥領域及び／又は所望無欠陥領域を有するＶ／Ｇ値を決定することができ、より確実に所望品質の単結晶を引上げることができる単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁 - With further scanning, since reflected light from a right slope of the protruding defect 201 is reflected in a direction of retreating from the reflected light intensity measuring device 108 as shown in 207 when the reflected light intensity measuring device 108 passes through the right slope, the protruding defect looks dark at this part.
さらに走査して、反射強度測定器１０８が凸欠陥２０１の右斜面を通過すると、右斜面からの反射光は、２０７に示すように反射光強度測定器１０８からより遠ざかる方向に反射するので、この部分では凸欠陥が暗く見える。 - 特許庁 - Disclosed is the stencil mask defect inspecting method and device which irradiates the stencil mask obliquely with linear parallel light and measures the shape of the opening 8 using a non-reflection image of an image obtained by imaging surface reflected light, so as to inspect a defect of the opening 8.
ステンシルマスクに対して斜め方向から線状平行光を照射し、表面反射光を撮像した撮像画像における非反射像により開口部の形状を測定することにより開口部の欠陥を検査するステンシルマスク欠陥検査方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To disclose a manufacturing method by which, even if a defect 8 in material is present in the rear surface 7 of a veneer laminate 1, a smooth-surfaced composite base material 10 can be obtained that has no transfer trace remaining on the surface of a composite body 4b located beneath the defect 8 in the manufacturing process.
単板積層板１の乙板（裏面）７に材料欠点８が存在する場合であっても、製造過程において下位に位置する複合体４ｂの表面にその転写痕が残らない表面が平滑な複合基材１０を得ることができる製造方法を開示する。 - 特許庁 - To restrain the influence of a defect such as faulty etching or deformation in a color selecting mechanism to the utmost even when the defect occurs in the color selecting mechanism in the case of radiating ultraviolet rays to the inner surface of a face panel through the color selecting mechanism in the fluorescent surface manufacturing stage of a cathode ray tube.
陰極線管の蛍光面製造工程において、フェースパネル内面に色選別機構を介して紫外線を照射する場合に、その色選別機構にエッチング不良や変形等の欠陥があっても、その欠陥の影響を極力抑制できるようにする。 - 特許庁 - To provide an automatic analyzer for extracting easily a measured result obtained using a consumable with a defect-generated production lot number, out of the consumables used in the analyzer, and for preventing the consumable having the defect lot number from being used for analysis hereafter.
分析装置で使用する消耗品のうち、欠陥が発生した製造ロット番号のものを使用して得られた測定結果を容易に抽出するとともに、該欠陥ロット番号を有する消耗品の以降の分析への使用を防止することができる自動分析装置を提供する。 - 特許庁 - To avoid an influence by saturation pixels contained in an inspection image and a reference image, in defect inspection, for comparing the inspection image with the reference image that are acquired by imaging patterns which should be mutually identical and are the objects of inspection, and for detecting a difference spot as a pattern defect.
検査対象である相互に同一であるべきパターンを撮像して得た検査画像と参照画像とを比較して、相違する箇所を前記パターンの欠陥として検出する欠陥検査において、検査画像と参照画像とに含まれる飽和画素による影響を回避する。 - 特許庁 - To provide a method for determining a correlation value of an object to be inspected, which determines the correlation value unlimitedly close to the measured value of the object to be inspected, namely the optimum threshold in the binarization on the side of image processing, and to provide a defect inspection method using the same and a defect inspection apparatus therefor.
被検査対象の実測値に限りなく近い相関値、即ち、画像処理側での２値化における最適な閾値を決定する被検査対象相関値決定方法、及びこの方法を用いた欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供するものである。 - 特許庁 - The determination is carried out by discriminating an existence of a defect in the measurement position in accordance with whether or not the intensity of the P polarized light component is within the reference intensity range and whether or not the intensity of the S polarized light component is within the reference intensity range and discriminating the type when there is a defect.
この判定は、Ｐ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとＳ偏光成分の強度が基準強度範囲外であるか否かとに応じて、測定位置での欠陥の有無を判別し且つ欠陥がある場合にはその種類を判別することでなされる。 - 特許庁 - To provide a method of correcting the electrode defect of an organic EL panel in which the short circuit defective part of the electrode of the organic EL panel is corrected by removing by irradiation of YAG laser and in which the defect is corrected without giving damage to the under layer of the defective part by laser irradiation, and a device implementing such method.
有機ＥＬパネル用の電極のショート欠陥部を、ＹＡＧレーザを照射して除去することにより修正する、有機ＥＬ用パネルの電極欠陥修正方法で、欠陥部の下層に、レーザ照射によるダメージを与えることなく、修正できる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for correcting a defect on a color filter substrate improving a defective part by locally forming a favorable transparent conductive film without damaging a periphery of a correction part when correcting it; and to provide a color filter substrate corrected by the method for correcting the defect.
修正する際に修正箇所周辺に損傷を与えることなく、局所的に良好な透明導電膜の形成を行うことで、欠陥部分を良品化するカラーフィルタ基板の欠陥修正方法と、この欠陥修正方法によって修正されたカラーフィルタ基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate for a liquid crystal display device having a wiring structure which can avoid problems arising when a Cu material is used and suppress a disclination defect due to a step of a lower-layer side wiring line and a wire breaking defect of an upper-layer side wiring line, and its manufacturing method.
Ｃｕ材料を用いる場合に生じる問題を回避するとともに、下層側の配線の段差に起因するディスクリネーション不良や上層側配線の断線不良の発生を抑制することができる配線構造を備えた液晶表示装置用基板及びその製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide an electrophoretic front plate inspection device and its inspection method that display an abnormal response defect, wherein driving speed is different from the surroundings more clearly, imaging the display, and accurately extracting the abnormal response defect included as local unevenness in the imaged image.
周囲と駆動速度の異なる応答異常欠陥をよりはっきり表示させ、その表示を撮像し、撮像画像内において局所的なムラとして含まれる応答異常欠陥を高精度に抽出するための電気泳動型前面板検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, there is provided a highly reliable grade computing device capable of computing the quality grade of components and the grade of suppliers of components in consideration of the defect rate after shipment as well as the defect rate during assembly.
したがって組立時における部品の不良発生率に加えて、出荷後における部品の不良発生率を考慮した部品の品質等級および部品の供給者等級を算出することができ、信頼度の高い等級演算装置を提供することができる。 - 特許庁 - To provide a product manufacturing method capable of detecting a defect of which a customer does not practically take no notice on a half- product step on the way of manufacture, completing the product while holding the defect and delivering the completed product without losing customer's credit with a manufacturer.
顧客において実質上問題にならない欠陥を、製造途中の半製品の段階で検出し、その欠陥を有すまま製品を完成させ、顧客の製造者に対する信用を損ねることなく、これを納入することができる、製品の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The information recording device includes an initialization processing section 1072 which, during the physical reformatting of the information recording medium, while maintaining at least the defect location information among the defect management information, rewrites the defective status information with attributes indicating that the said defective area has been physically reformatted.
情報記録装置は、情報記録媒体の物理再フォーマット時に、欠陥管理情報のうち少なくとも欠陥位置情報を維持する一方、欠陥状態情報を、当該欠陥領域に対して物理再フォーマットを行った旨を示す属性に書き換える初期化処理部１０７２を備える。 - 特許庁 - By using a transfer film on which an absorption layer absorbing laser beam wavelengths of a laser correction system is laminated as a thin film shape, the absorption layer 15 is thermally transferred on the black defect 10, the laser beam of the laser correction system is applied to the thermally transferred absorption layer and the black defect is corrected.
１）レーザ修正装置のレーザ光の波長を吸収する吸収層が薄膜状に積層された転写フィルムを用いて、黒欠陥１０上に吸収層１５を熱転写し、２）熱転写した吸収層にレーザ修正装置のレーザ光を照射し、黒欠陥を修正すること。 - 特許庁 - To provide a flaw type classification boundary setting method in surface defect detection allowing even an operator without having a special technique to simply realize complicated defect classification, and enabling evaluation capable of remarkably reducing work and of rapidly responding to change of an operation state.
特殊な技術をもたないオペレータでも簡便に複雑な欠陥分類が実現され、労力が大幅に削減されるとともに操業状態の変化に迅速に対応した評価が可能となるような表面欠陥検出における疵種分類境界設定方法を提供する。 - 特許庁 - The method and device inspect the defect generated in the outward appearance of the object to be inspected through the image processing and the defect is detected by comparing image data at respective inspection points of the object to be inspected with a specific mean value.
検査対象物の外観に生じている欠陥を画像処理により検査する欠陥検出方法及び欠陥検出装置であって、検査対象物の各検査ポイントにおける画像データを、所定の平均値と比較することにより欠陥を検出するものである。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing semiconductor device which prevents the protrusion of a silicide film formed in a source/drain contact region toward a silicon substrate side, wherein a driving force is given by giving stress to a channel region, and avoids the occurrence of a junction leakage defect and a gate leakage defect, and a manufactured semiconductor.
チャネル領域に応力を与えるため、ソース・ドレイン・コンタクト領域に形成されるシリサイド膜がシリコン基板側に突出することを防ぎ、接合リーク不良の発生やゲートリーク不良の発生を回避する半導体装置の製造方法及び製造された半導体装置の提供。 - 特許庁 - To provide a defect detecting method or the like capable of surely detecting only a defect of a substrate of an object to be inspected which has the substrate and a component disposed on the substrate and in which the component can be viewed through the substrate from the opposite side of the substrate surface having the component.
基板と、該基板に配された構成部材と、を含み、該構成部材が配された側とは反対の側から該構成部材が基板を介して視認可能である検査対象物における基板の欠陥のみを確実に検出することができる欠陥検出方法等を提供する。 - 特許庁 - To improve operation reliability by preventing development of transportation defect and information reading defect by returning a position of a dry analysis element when position of the dry analysis element stored in a element cartridge for loading at an element loading part of an automatic analysis device is deviated such that the dry analysis element pops out of an ejection port.
自動分析装置の素子搭載部に搭載する素子カートリッジに収容した乾式分析素子が取出口より飛び出るように位置がずれたときに、その位置を戻して搬送不良、情報読み取り不良の発生を防止し、動作信頼性を向上する。 - 特許庁 - As this device for inspecting water stain deposited on a transparent film, a water stain inspection device is used which is characterized by being equipped with a water stain imaging means imaging the water stain, a contrast improvement means improving the contrast of the water stain, and a defect determination means determining the water stain to be a defect.
透明フィルムに付着した水しみを検査する装置において、水しみを撮像する水しみ撮像手段、水しみのコントラストを改善するコントラスト改善手段、水しみを欠陥として判定する欠陥判定手段を備えることを特徴とする水しみ検査装置を用いる。 - 特許庁 - Image data of longitudinal or transverse plural adjacent lines is read out from the image memory part 20 as a first image data, average data of a data level in a direction orthogonal to a reading-out direction is calculated, and a line-shaped defect in an image is detected by a defect detecting part 24.
画像メモリ部２０から、第１の画像データとして縦方向あるいは横方向に隣接する複数ライン分の画像データを読み出し、読み出し方向と直交する方向のデータレベルの平均値を算出し、ライン状の画像欠陥を欠陥検出部２４で検出する。 - 特許庁 - In this way, the surface defect which becomes problems so that defects are caused by working in the succeeding working stage by the rolling deformation can not be generated and the products made of the bar material which is excellent in the surface quality which deals with the severe warranty of the surface defect in the late years can be provided.
それにより、圧延変形によって後続の加工工程で加工欠陥を引き起こすような問題となる表面疵が発生えず、近年の厳しい表面疵保証にも対応できる表面品質の優れた条材製品を提供することが可能となる。 - 特許庁 - When a determination unit 220 determines that the defect portion exists, the unit determines whether to recover the defect portion based on at least one of a communication status between the data reception terminal 20 and the data distribution server 10 and a data related status relating to data.
判断部２２０は、欠損部分があると判断した場合に、データ受信端末２０とデータ配信サーバ１０との間における通信状況、およびデータに関連する状況であるデータ関連状況のうちの少なくとも一方に基づき、欠損部分を修復するか否かを判断する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which prevents a recording material from sticking to a heating roller due to pressure does not output the recording material having an image defect in fixation regardless of the recording material and the transfer state of the recording material, and provides a high-quality output image free from image defect without degrading the productivity.
加熱ローラに記録材の圧痕付着を防止し、記録材及び記録材の搬送状態にかかわらず、定着に係る画像欠陥がある記録材を出力せず、該画像欠陥がない高品質の出力画像を得ることが可能な、生産性を低下させない画像形成装置の提供。 - 特許庁 - In the method for correcting defects of an ITO film, an applying process in which a mixed solution obtained by dispersing a solid electroconductive material (electroconductive particles) in a solvent, is applied to the defect part of the ITO film, is performed one or more times at needed and a transparent electroconductive film is formed on the defect part of the ITO film.
ＩＴＯ膜の欠損箇所に、固形の導電性材（導電性粒子）を溶剤中に分散させた混合溶液を、塗布する塗布工程を、必要に応じて１回以上行い、前記ＩＴＯ膜の欠損箇所に、透明、且つ、導電性の導電膜を配設する。 - 特許庁 - A defect correcting method is carried out by applying correcting ink 5 on a white defect 3, irradiating the applied correcting ink 5 with ultraviolet ray and infrared ray at the same time to cure the correcting ink 5 by the irradiation with the ultraviolet ray and to remove a solvent component in the correcting ink 5 by the irradiation of the infrared ray.
この欠陥修正方法では、白欠陥３に修正インク５を塗布し、塗布した修正インク５に紫外線と赤外線を同時に照射し、紫外線照射によって修正インク５を硬化させ、赤外線照射によって修正インク５の溶剤成分を除去する。 - 特許庁 - To provide an aluminum alloy-coated plate for a can lid which does not cause the defective appearances such as a blister defect and a dent defect, and has a coating film excellent in coating performances such as film adhesion and corrosion resistance, and to provide a method for manufacturing the aluminum alloy-coated plate for the can lid.
膨れ状欠陥や凹み状欠陥などの外観不良が発生せず、しかも、塗膜密着性および耐食性等の塗膜性能にも優れる塗膜を有する缶蓋用アルミニウム合金塗装板、及び、缶蓋用アルミニウム合金塗装板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, the errors due to the intrinsic defect signal can be reduced as far as possible and when the reproduced RF signal is inputted into the AGC circuit, the transient response of AGC generated due to a low-frequency or DC component before and behind the defect signal can be reduced.
これにより、本来の欠陥信号によるエラーを極力低減することができ、ＡＧＣ回路に再生されたＲＦ信号が入力される場合、欠陥信号の前後の低域またはＤＣ成分が原因で発生するＡＧＣの過渡応答を抑制することができる。 - 特許庁 - The memory test circuit constitutes a part of a test pattern, executes the test to a memory 2 according to a pattern mode signal for specifying the partial pattern consisting of a plurality of operation and stores the pattern mode signal in a defect information storing register 17 as the part of the defect information.
本発明にかかるメモリテスト回路は、テストパタンの一部を構成し、複数の動作からなる部分パタンを指定するパタンモード信号に応じてメモリ２に対するテストを実行するとともに、パタンモード信号を不良情報の一部として不良情報格納レジスタ１７に格納するものである。 - 特許庁 - The surface of the steel sheet 100 flowing the production line is inspected by a surface inspection device 20, and the surface defect of the steel sheet 100 is automatically dressed by a grinding mechanism 20 according to the type and degree of a defect without stopping the production line.
生産ラインを流れる薄鉄鋼１００の表面を表面検査装置２０４により検査し、この検査により発見された薄鋼板１００の表面欠陥を、生産ラインを止めず、かつ欠陥の種類や程度に応じて、研磨機構２０７により自動的に手入れする。 - 特許庁 - In signal charges corresponding to all pixels of the imaging sensor 16, signal charges relating to a defect spot are ordinarily transferred but signal charges relating to spots other than the defect spot are fast transferred and discarded, thereby reading out the signal charges for detecting the level of the V-line flaw.
そして、撮像センサ１６の全画素に対応する信号電荷のうち、欠陥箇所に係る信号電荷を通常転送する一方で、欠陥箇所以外に係る信号電荷を高速転送して捨てることで、Ｖライン傷のレベルを検出するための信号電荷を読出す。 - 特許庁
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