「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 163 164 165 166 167 168 169 170 171 .... 366 367 次へ＞- The semiconductor light emitting device includes on a substrate 10 a group III-V nitride semiconductor layer 30 composed of a low defect region 30A made of a crystal having first average dislocation density and of a high defect region 30B made of a crystal having a higher second average dislocation density than the first one.
基板１０上に、第１平均転位密度を有する結晶からなる低欠陥領域３０Ａと、第１平均転位密度より高い第２平均転位密度を有する結晶からなる高欠陥領域３０Ｂとを有するＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体層３０を備える。 - 特許庁 - To provide a wet towel preparing apparatus capable of being promptly maintained even when it has supply defect or cutting defect of a sheet material, surely sending the sheet material to the downstream side of molding means and surely forming a rolled wet towel.
シート材の送給不良或いは切断不良があったとしても、メンテナンスを速やかに行うことができると共に、前記シート材を確実に前記成形手段の下流側に送って確実に巻きおしぼりを成形することができる巻きおしぼり製造装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a round tooth for cutting, a tool for cutting and a cutting device of low costs providing a favorable tape edge cut in a cut part without producing a high edge defect or an unequal elongation defect in a cut surface when cutting a film like strip object such as a thin magnetic tape with a smooth surface.
薄く表面の平滑な磁気テープのようなフィルム状の帯状物を切断するときに、その切断面にハイエッヂ不良及び片伸び不良が生じることはなく、切断部におけるテープエッヂ切れが良好でかつ低コストの切断用丸刃、切断用工具及び切断装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect management method for an information recording medium, notifying whether defect management by a drive has abnormally ended due to an unpredictable abnormal event during data recording in the information recording medium, and to provide an information recording medium drive, and the information recording medium.
情報記録媒体にデータ記録中に予測不可能な非正常的事態により、ドライブによる欠陥管理が非正常的に終了しているか否かが容易に分かる情報記録媒体の欠陥管理方法、情報記録媒体ドライブ装置、及びその情報記録媒体を提供する。 - 特許庁 - The digital still camera 10 includes a CCD 12 wherein pixels whose values in each of three primary colors are detected through color filters are respectively placed to each of prescribed regions and one defective pixel or below causing the temperature white defect is specified to exist in each region, and a temperature white defect correction unit 14.
色フィルタを通して３原色の各色の画素値を検出する画素が所定の領域のそれぞれに配置され、温度白キズを生じる欠陥画素が各領域内に１つ以下と規定されているＣＣＤ１２と、温度白キズ補正装置１４とを備えるデジタルスチルカメラ１０。 - 特許庁 - To provide a technology for detecting a minute concavo-convex defect (phase defect) of only several nm with high sensitivity in a mask blank inspection method that uses DUV light that allows usage of an inspection optical system which has high degree of completion as a mass production device and uses a lens in the atmospheric air.
量産装置としての完成度が高く、かつ、大気中でのレンズを使用した検査光学系を使用できるＤＵＶ光を使用したマスクブランクの検査方法において、わずか数ｎｍの微細な凹凸欠陥（位相欠陥）を高感度に検出できる技術を提供する。 - 特許庁 - Defect position data is acquired from a plurality of kinds of examination devices such as a bus line resistance device or an electric characteristic examination device 4 and a defect examination device 3 for appearance examination and is collated in a collation part 9 to generate data obtained by narrowing down the correction objects more.
バスライン抵抗装置もしくは電気的特性検査装置４、および外観検査による欠陥検査装置３など、複数種類の検査装置から欠陥位置データを取得して、照合部９にて照合することによって、修正対象をより絞り込んだデータを作成する。 - 特許庁 - To provide a resist composition, a resist layer, an imprint method, a pattern forming body, and their associated technique in which there is not a peel-off defect or a pattern defect over the whole pattern forming body, a pattern shape and a remained film are uniform, and productivity is improved for short peel-off time.
パターン形成体の全面にわたって、剥離不良やパターン不良がなく、パターン形状及び残膜を均一なものとし、短い剥離時間で生産性を向上させるレジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、及びこれらに関連する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an oil-based ink composition for a ball-point pen capable of suppressing discharge defect of the ink as much as possible while imparting a thick handwriting density, suppressing handwriting defect such as blurring, dropping of intermittent ink, splitting of handwriting line and thinning of handwriting in continuous handwriting as much as possible.
筆跡濃度が濃いものとしながら、インキが吐出不良を極力抑制し得、筆跡かすれ、線飛びインキのボタ落ち、筆跡の線割れ、連続筆記中に筆跡が薄くなるという筆跡の不良を極力抑制したボールペン用油性インキ組成物を提供する。 - 特許庁 - This plate glass is sorted to make, as a defective, the plate glass having the maximum dimension of 30 μm or more of internal defect, and having the maximum depth or maximum height exceeding 0.1 μm with respect to a translucent face in a translucent partial area corresponding to a position of the internal defect, and to make the other plate glasses as nondefectives.
内部欠陥の最大寸法が３０μｍ以上であり、かつ、内部欠陥の位置に対応する透光面一部領域の透光面に対する最大深さ又は最大高さが０.１μｍを超える板ガラスを不良品とし、それ以外の板ガラスを良品として選別する。 - 特許庁 - To provide a temperature variable heater that includes a small connector, is not bulky and excellent in usability even when applied to a surface heater which uses a surface heat generation body as a heat generation source, and is free of a failure factor due to an insulation defect, a component defect, etc., even if the surface heater gets wet with urine of a small animal.
発熱源に面状発熱体を用いた面ヒーターに実施しても、小さなコネクターで済み、嵩張らずに使い勝手も良好であり、小動物の排尿などで面ヒーターが濡れても、絶縁不良や部品不良などを招いて故障要因となるおそれがないようにする。 - 特許庁 - The defect-determining part 52 determines that there are the defects on the back face R, an intermediate part I or the back face H, when the captured image is an abnormal image including the defect Df, Dr, Di on the front face H, the back face R or the intermediate part I and the defects appear at one, two or three locations.
欠陥判断部５２は、取り入れた画像が表面Ｈ、裏面Ｒ及び中間Ｉの欠陥Df,Dr,Diの何れかを含む異常画像であるときに、これが一ヶ所、二カ所又は三ヶ所に出たときにそれぞれＲ、Ｉ又はＨに欠陥があると判断する。 - 特許庁 - The image correction apparatus is provided with an image acquisition section for acquiring image data representing an image, a correction section for detecting the eye-related defect in the image represented by the image data acquired by the image acquisition section and for correcting the detected defect and an image display section for displaying the image based on the image data.
画像を表す画像データを取得する画像取得部と、画像取得部により取得された画像データにより表わされる画像中の目の不具合を検出し、検出された不具合を修正する修正部と、画像データに基づく画像を表示する画像表示部とを備える。 - 特許庁 - When the defect portion of the film 3 is fed to a joining section 22, supply of a substrate 2 to the joining section is stopped and a joining mechanism 67 is moved to a retracted position not contacting with the substrate 2 and the film 3, and the defect portion of the film 3 is passed from a pressure position of the joining mechanism 67.
フイルム３の欠点部位が接合区間２２に送り込まれる際に、接合区間２２への基板２の供給を停止させ、かつ基板２とフイルム３とに接触しない退避位置に接合機構６７を移動させ、フイルム３の欠点部位を接合機構６７の加圧位置から通過させる。 - 特許庁 - The defect analyzing memory 7 is composed of a multi-bit memory having plural data input/output terminals, and the device is provided with a control circuit 6 in which when uncoincidence is detected by the logical comparator 4, and uncoincidence detected signal detected by a test of the present time is added to a signal stored in the defect analyzing memory 7 in a test of the previous time.
不良解析メモリ７を複数のデータ入出力端子を持つ多ビットメモリで構成し、論理比較器４で不一致が検出されると前回のテストで不良解析メモリ７に記憶させた信号に今回のテストで検出された不一致検出信号を加える。 - 特許庁 - An electromagnetic wave is transmitted to the concrete structure and a reflected wave is received, and A_0×r is determined by the relation between A/G on an initial motion peak of the measured internal defect reflected wave and a round-trip propagation time t and the following expression, and the kind of the defect part is discriminated based on A_0×r.
電磁波をコンクリート構造物に送信すると共に反射波を受信し、測定された内部欠陥反射波の初動ピークに関するＡ／Ｇ及び往復伝播時間ｔと次式との関係によりＡ_０・ｒを求め、このＡ_０・ｒに基づいて欠陥部の種別を判別する。 - 特許庁 - According to this constitution, since not only the information regarding the operation of the image formation device, but also the information regarding the operation are registered with the information memorizing unit 4 in relation to times, respectively when the defect is detected, the information for easily specifying the cause of the defect can be efficiently registered.
この構成によれば、不具合を検出した場合に、画像形成装置の動作に関する情報のみならず操作に関する情報をも時刻に関連付けて情報記憶部に登録するので、不具合の原因を容易に特定するための情報を効率的に登録できる。 - 特許庁 - Further, the Cz silicon wafer contains void defects in its inside and has a characteristic that in an optional rectangle which circumscribes the void defect image formed by projecting a void defect to optional {110} face, the maximum ratio (L1/L2) of length (L1) of the long side to the length (L2) of the short side of the rectangle is at least 2.5.
およびＣＺシリコンウエーハであって、その内部に空洞欠陥を含み、任意の{１１０}面に投影された該空洞欠陥像に外接する任意の長方形における、長い辺の長さＬ１と短い辺の長さＬ２との比（Ｌ１／Ｌ２）の最大値が２．５以上であるシリコンウエーハ。 - 特許庁 - To provide a joint inspection method by which the end part of a joint interface of metallic pipes joined by a diffusion joining method, especially the presence or absence of a difference level and a defect on the inner peripheral surface side can be detected in the non-destructive condition and also the size of the difference in level and the defect can be detected with high accuracy.
拡散接合法により接合された金属管の接合界面の端部、特に、内周面側における段差及び欠陥の有無を非破壊で検出でき、しかも段差及び欠陥の大きさを高い精度で検出することが可能な接合部の検査方法を提供すること。 - 特許庁 - To improve the display quality of a liquid crystal display element of hybrid aligned nematic type display mode by preventing a display defect from being caused by an alignment defect of liquid crystal molecules due to steps of unevenness in an electrode substrate surface that a structure formed on an electrode substrate has.
ハイブリッド・アラインド・ネマティック型表示モードの液晶表示素子において、電極基板上に形成される構造物が有する電極基板面内の凹凸の段差により液晶分子の配向が乱れ、配向不良による表示不良を生じるのを防止して、表示品位を向上する。 - 特許庁 - The method includes: a process (4) to form defects in a semiconductor material (2) during formation of a defect region by mechanical action or by oxygen injection; and then performing heat treatment of the semiconductor material (2) during generation of a material precipitate in the defect region.
機械的作用によって、または、酸素注入によって欠陥領域を形成する間に、半導体材料（２）内に欠陥を形成する工程（４）と、その後、欠陥領域内に材料析出物を生成する間に、上記半導体材料（２）の熱処理を行う工程とを含む。 - 特許庁 - To provide a device in which a circuit performing read-out of a ROM is separated from the other circuit to determine which circuit has caused defect, or defective read-out of a ROM caused by drop of power source voltage is prevented, when defect is caused in operation of a device.
装置の動作に不良が発生した場合、ＲＯＭ読み出し動作を行う回路と他の回路とを切り分けていずれに不良の原因があるかを特定し、あるいは電源電圧の低下によりＲＯＭ読み出しに不良が発生することを防止することが可能な装置を提供する。 - 特許庁 - To drastically reduce the defect density of a structure defect in a semiconductor layer, especially the dislocation density of through dislocation, without requiring complex processes, when forming a thin film such as GaN and a thick-film semiconductor layer on a substrate or the like made of each kind of material.
各種の材料からなる基板上などにＧａＮなどの薄膜や厚膜の半導体層を形成する場合において、煩雑な工程を必要とすることなしに、当該半導体層中の構造欠陥の欠陥密度、特に、貫通転位の転位密度を大幅に低減させる。 - 特許庁 - To observe a defect efficiently in a short time without lowering a detection rate by improving a processing procedure of detect detection or the like so that a reutilization rate of a recorded reference image is raised, when inspecting in detail by enlarging a defect portion or the like.
欠陥部分を拡大するなどして詳細に検査するときに、記録した参照画像の再利用率があがるように欠陥検出の処理手順などを改良することで、検出率を下げずに短時間に効率よく欠陥を観察することができるようにする。 - 特許庁 - Furthermore, as defect such as overheating of the source electrode 41 can be rapidly detected by the temperature sensor 41, breakage of the semiconductor device 1 can be prevented by arranging a protection circuit for stopping operation of the semiconductor device 1 when the defect is detected by the temperature sensor 41.
また温度センサ４１でソース電極４１の過熱などの異常を迅速に検出することができるので、温度センサ４１で異常が検出されたときに、半導体装置１の動作を止める保護回路を設置することによって、半導体装置１の破壊を防ぐことが可能である。 - 特許庁 - To realize a C-2-phase, at least having a contrast ratio of about 200:1 or higher with excellent reproducibility, by suppressing generation of zigzag defect and hairpin defect causing contrast ratio lowering in the manufacture of an active matrix drive ferroelectric liquid crystal display element.
アクティヴマトリクス駆動強誘電性液晶表示素子の作製において、コントラスト比低下の原因となるジグ−ザグ欠陥及びヘアピン欠陥の発生を抑えて少なくともコントラスト比が２００：１程度またはそれ以上となるＣ−２一様相を再現性よく実現する。 - 特許庁 - To detect automatically with high sensitivity a print defect of a phosphor formed on a glass substrate such as a plasma display panel without being influenced by a phosphor applied pattern, and to realize low-cost and high-speed defect inspection by being installed easily on a manufacture line of the panel.
プラズマディスプレイパネル等のガラス基板に形成された蛍光体の印刷欠陥を、蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度に自動的に検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide an automatic analyzer capable of extracting easily a measured result obtained using a consumable with a defect-generated production lot number, out of the consumables used in the analyzer, and capable of preventing the consumable having the defect lot number from being used for analysis hereafter.
分析装置で使用する消耗品のうち、欠陥が発生した製造ロット番号のものを使用して得られた測定結果を容易に抽出するとともに、該欠陥ロット番号を有する消耗品の以降の分析への使用を防止することができる自動分析装置を提供する。 - 特許庁 - Preferably, the dislocation defect density of a second clad layer 5 composed of an n-type gallium nitride series semiconductor forming a part of an underlaying layer of the active layer 6 is 10^9 to 10^11/cm^2, and preferably, the gap of a dislocation defect in the second clad layer 5 is 120 to 170 nm.
活性層６の下地層の一部をなすｎ型窒化ガリウム系半導体からなる第２クラッド層５の転位欠陥密度が１０^９〜１０^１１／ｃｍ^２であることが好ましく、第２クラッド層５における転位欠陥の間隔が１２０〜１７０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁 - To provide an electrophotographic photoreceptor capable of avoiding problems in anodic coating by removing a defect on a base body of a photoreceptor with a method other than the anodic coating and capable of suppressing the degradation of image quality caused by leakage of electric current due to the defect.
感光体の基体上の欠陥をアルマイト処理以外の方法で除去することで、アルマイト処理における問題点を回避すると共に、欠陥に起因する電流のリークに伴う画像の品質低下を抑えるようにした電子写真感光体を提供するものである。 - 特許庁 - An exposure mask is formed into a constitution, wherein the exposure mask is provided with a main mask MM constituted of a plurality of split masks MDM and a compensating mask CM, which is formed into the same constitution as that of the split mask MDM inhering in the main mask MM and having a defect and comprises split masks CDM having no defect.
露光用マスクＥＭ１を、複数の分割マスクＭＤＭで構成される主マスクＭＭと、主マスクＭＭに内在する欠陥のある分割マスクＭＤＭと同一構成でかつ欠陥のない分割マスクＣＤＭを含む補償マスクＣＭとを備えた構成とする。 - 特許庁 - To provide a defect analysis method and its system for analyzing defect, based on an emission image that is detected by an emission microscope corresponding to a circuit block in an LSI chip for a semiconductor device where LSI chips such as system LSIs are arranged.
システムＬＳＩなどのようなＬＳＩチップが配列された半導体装置に対してＬＳＩチップ内部における回路ブロックに対応付けしてエミッション顕微鏡によって検出される発光像に基いて不良解析をできるようにした不良解析方法およびそのシステムである。 - 特許庁 - The depth of a material removed from a substrate capable of transmitting light is controlled in accordance with the depth of ion implantation of a light absorbing material such as gallium, arsenic, boron, phosphorus, antimony or a compound of these into a defect on the substrate and/or a region surrounding the defect.
光透過可能基板上の欠陥またはその欠陥を取り囲む領域あるいはその両方へのガリウム、砒素、ホウ素、燐、アンチモン、またはこれらの化合物などの吸光材料のイオン注入の深さにより、基板から除去される材料の深さが制御される。 - 特許庁 - LINEAR DEFECT DETECTOR, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING DEVICE, LINEAR DEFECT DETECTION METHOD, SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, PROGRAM FOR CAUSING COMPUTER TO FUNCTION AS THE DETECTOR OR THE MANUFACTURING DEVICE, AND STORAGE MEDIUM FOR STORING THE PROGRAM THEREIN
線状の欠陥の検出装置および半導体基板の製造装置、線状の欠陥の検出方法および半導体基板の製造方法、コンピュータを当該検出装置または当該製造装置として機能させるためのプログラム、ならびに当該プログラムを格納した記録媒体 - 特許庁 - To classify defects very effectively, simply and exactly by using the minimum defect information, by obtaining only defect information required to classify the defects, when identifying and classifying the defects of objects to be inspected by using an optical microscope and an electron microscope.
光学顕微鏡及び電子顕微鏡を用いて被検査体の欠陥を識別して分類するに際して、欠陥の分類を行うのに必要な欠陥情報のみを取得し、最小限の欠陥情報により極めて効率良く、極めて簡易且つ正確に欠陥の分類を行う。 - 特許庁 - The defect position identifying means identifies the position of the strip-shaped defect which extends in the same direction of the first area 40a, based on brightness in the first area 40a and the brightness in the second areas 40b, when the search window 43 is set inside the cell image.
欠陥位置特定手段は、探索窓４３がセル画像内に定められたときの第１の領域４０ａ内の明度と第２の領域４０ｂ内の明度とに基づいて、第１の領域４０ａと同じ方向に延伸する帯状の欠陥の位置を特定する。 - 特許庁 - The grinding device 1 comprises a grinding unit 20 capable of grind-removing the projection defect by pressing a grinding tape against the substrate 2, and an adhesive unit 40 capable of adhering and removing the projection defect by pressing a single-sided adhesive tape having the adhesiveness on one side against the substrate 2.
研磨装置１は、研磨テープを基板２に対して押し当てて突起欠陥を研磨除去可能な研磨ユニット２０と、片面に粘着性を有する片面粘着テープを基板２に対して押し当てて突起欠陥を粘着除去可能な粘着ユニット４０とを備える。 - 特許庁 - To provide a defective pixel detection method and an image processing apparatus, which can accurately detect a position, in which image correction is required, to accurately perform image correction even in the case where normal pixels adjacent to a line defect generate abnormal output signals due to an influence of the line defect.
線欠陥の影響により、隣接する正常な画素が異常な出力信号を発生する場合でも、画像補正が必要な箇所を正確に検出し、正確に画像補正することができる欠陥画素検出方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for detailed observation of defects detected by an optical defect inspection apparatus or by an optical visual inspection apparatus capable of placing a defect to be observed into the field of view of an electronic microscope or the like, without fail, and reducing the size of the apparatus.
光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡等で詳細に観察する装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ装置規模を小さくできる装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect detection method can obtain existence or a kind of a defect of thread comprising a bundle of many continuous single fibers, on an online basis regardless of existence of twist of the thread, and performing speedily quality control of a thread package manufactured by a thread manufacturing process.
多数の連続した単繊維の束からなる糸条の欠陥の有無や種類を、糸条の撚りの有無にかかわらずオンラインで把握できかつ糸条の製造工程により製造される糸条パッケージの品質管理を、迅速に行うことができる欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁 - A light reception signal outputted from the photomultiplier tube 21d on which the scattered light 3b impinges is inputted to a defect determination circuit 37, while a light reception signal outputted from the photomultiplier tube 21d on which the regular transmission light 3a impinges is not inputted to the defect determination circuit 37.
散乱光３ｂが入射した光電子増倍管２１ｄから出力された受光信号は、欠陥判定回路３７に入力され、正透過光３ａが入射した光電子増倍管２１ｄから出力された受光信号は、欠陥判定回路３７に入力されない。 - 特許庁 - To develop a defect inspection method and a defect inspection device of a polarizing plate which can accurately detect only defects caused by a popularizing plate and an adhesive layer with simple device configuration, without detecting defects which are caused by a separate film and are not problematic, when inspecting defects of a polarizing plate with a separate film.
セパレートフィルム付き偏光板の欠陥を検査する際に、簡便な装置構成にて、問題とならないセパレートフィルムに起因する欠陥を検出せず、偏光板本体および粘着剤層に起因する欠陥のみを精度よく検出できる欠陥検査方法・検査装置も開発。 - 特許庁 - Firstly, strain energy in the P-type region as the base is fixed in a minimum state and secondly, a linear defect region is provided nearby an element which may cause a problem to adsorb interstitial silicon produced in an important junction part of the element by the defect IG capability.
１つ目は下地となるＰ型領域内の歪エネルギーを最小の状態で固定化することで、２つ目は問題となる素子の近傍に線状欠陥領域を設け、素子の重要な接合部中に発生している格子間シリコンを欠陥のＩＧ能力で吸着せしめる。 - 特許庁 - To provide a heat exchanger improved in heat exchange efficiency by simultaneously solving a defect of pipe arrangement and a defect of elongate holes in the heat exchanger with refrigerant tubes bent in a meandering manner so that straight portions and bent tube portions are continuous and plurally lie in a row direction and a column direction.
直管部および曲管部が連続し、かつ列方向および段方向に複数となるように蛇行状に曲げ加工された冷媒チューブを具備する熱交換器における管配列の欠点と長孔の欠点を同時に解決し、熱交換効率を向上させた熱交換器を提供する。 - 特許庁 - A high sensitivity inspection is made possible by performing a pattern inspection which comprises steps of preliminarily obtaining a GP image, designating an inspection location and a threshold value map to the GP image on a GUI, setting an identification reference for a defect, obtaining an inspection image, and applying the identification reference to the inspection image to identify the defect.
予めＧＰ画像を取得し、ＧＰ画像に対して検査箇所及び閾値マップをＧＵＩ上で指定し、欠陥の識別基準を設定し、次に検査画像を取得し、検査画像に識別基準を適用し欠陥を識別することでパターン検査を行い高感度検査を可能にした。 - 特許庁 - The method of detecting the defect of the silicon carbide single crystal is characterized in etching the n-type silicon carbide single crystal with an etchant prepared by adding at least one kind among Na_2O_2, BaO_2, NaNO_3, and KNO_3 to molten KOH, and detecting the defect of the crystal from a formed etch pit.
溶融ＫＯＨにＮａ_２Ｏ_２，ＢａＯ_２，ＮａＮＯ_３，ＫＮＯ_３の少なくとも１種を添加したエッチング液によりｎ型炭化珪素単結晶をエッチングし、形成されたエッチピットにより結晶の欠陥を検出することを特徴とする炭化珪素単結晶の欠陥検出方法。 - 特許庁 - The defect correcting device correcting or removing a protrusion defect 53 is equipped with: a stage 14 holding a workpiece 13; a polishing unit carrying out polishing processing; and a moving means moving the polishing unit in a direction orthogonal to a traveling direction of a polishing tape 42 in regard to the workpiece 13 on the stage 14.
突起欠陥５３を修正又は除去する欠陥修正装置であり、ワーク１３を保持するステージ１４と、研磨処理を行う研磨ユニットと、研磨ユニットを、ステージ１４のワーク１３に対して、研磨テープ４２の走行方向と直交する方向に移動させる移動手段とを具える。 - 特許庁 - The application unit includes an application part 10 for applying a correction ink 14 to a white defect 6a of a liquid crystal color filter substrate 1, and a solvent vapor supply part 15 for supplying vapor of a solvent 18 of the correction ink 14 to the correction ink 14 applied to the white defect 6a.
この塗布ユニットは、液晶カラーフィルタ基板１の白欠陥６ａに修正インク１４を塗布する塗布部１０と、白欠陥６ａに塗布された修正インク１４に修正インク１４の溶媒１８の蒸気を供給する溶媒蒸気供給部１５とを備える。 - 特許庁 - To provide a visual inspection method and a device for a defect part of a glass plate for simply creating conditions allowing visual observation from front without imposing impossible posture on an inspector, and reasonably, certainly, and safely detecting a defect part of a large-sized glass plate for FPD.
検査者に無理な姿勢を強いることなく、正面視により目視しやすい条件を簡単に作り出すことができ、大型のＦＰＤ用ガラス板の欠陥部分を無理なく確実に安全に検出することのできる、ガラス板の欠陥部分の目視検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To solve the problem, wherein it is difficult to detect a plurality of defect kinds at the same time under a single integrated condition, and when a plurality of defects are detected by handling the defect as multidimensional feature quantity, the calculation cost required in signal processing increases together with the increase in the number of detectors.
単一の統合条件においては複数の欠陥種を同時に検出することは困難であり、また、多次元の特徴量として扱って複数の欠陥を検出すると、信号処理にかかる計算コストが検出器の増加とともに増大するという問題が発生する。 - 特許庁
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