「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • Through this comparison, a member contacting the cathode ray tube is searched and a cause of the defect is specified from the searched member.
    比較によりこの陰極線管に当接した部材を探索して、この探索された部材から欠陥Pの発生原因を特定する。 - 特許庁
  • To provide an electronic circuit unit capable of preventing a mounting defect due to a tilt of a circuit board where a pedestal member is soldered.
    台座部材が半田接合される回路基板の傾きに起因する実装不良を防止できる電子回路ユニットを提供すること。 - 特許庁
  • To provide a retardation film in which a liquid crystalline compound used for an optically anisotropic layer is vertically aligned without unevenness and defect.
    光学異方性層に用いられる液晶性化合物を欠陥無く均一に垂直配向させた位相差膜を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a method for detecting a defect in a mask by patterning a reference substrate by using the mask immediately after the mask is manufactured.
    マスクの製造の直後に、マスクによって参照基板をパターン形成するマスクの欠陥を検出する方法を提供すること。 - 特許庁
  • A laminated ceramic capacitor in which a measured Q-value is less than 2000 is identified as a laminated ceramic capacitor having a structural defect.
    そして、測定したQ値が2000より小さい積層セラミックコンデンサを構造欠陥の有る積層セラミックコンデンサとして選別する。 - 特許庁
  • The defect inspection device is also provided with a spatial filter arranged on a Fourier transformation face for shutting out diffracted rays from the linear part of the circuit pattern.
    更に、回路パターンの直線部分からの回折光を遮光するためにフーリエ変換面上に設けた空間フィルタを有する。 - 特許庁
  • To efficiently carry out production management such as specification of a product number of a product with a machining defect from multiple products.
    多数の製品から加工不良がある製品の製品番号を特定するなど、生産管理を効率的に行なう装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an apparatus for manufacturing an optical fiber cable, preventing generation of a local defect in press-winding tape and suppressing degradation in the quality.
    押え巻きテープの局所的な欠陥の発生を防止し、品質の劣化を抑制する光ファイバケーブルの製造装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide an imaging assembly and an imaging method for processing a photosensitive medium and overcoming a conventional defect.
    本発明は、従来の欠点を克服する、感光媒体を処理するイメージング組立体及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The method for inspecting a stencil mask includes acquiring a differential image between the first image and the second image to inspect a foreign matter or a defect.
    また、第1の画像と第2の画像の差分画像を得ることで異物や欠陥を検査するステンシルマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁
  • To easily manufacture a mineral plate having a film including no defect such as foam, foam breakage or the like on a surface without using a special facility.
    表面に発泡、破泡等の欠陥のない塗膜を有する無機質板を特別な設備を用いることなく容易に製造する。 - 特許庁
  • Existence of the irregularity defect 8 is detected by receiving reflected light 12 from the object work 9 by using a light receiving element 4.
    受光素子4を用いて対象ワーク9からの反射光12を受光することで、凹凸欠陥8の存在を検出する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device whose continuity defect between wires in a connection hole can be suppressed and a method for manufacturing the same.
    接続孔内における配線間の導通不良の発生を抑制できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a process management apparatus capable of reducing costs by quickly detecting and improving the generation of a defect in a production process.
    生産過程において、不良発生を早期に発見し、手直しコストを削減することが可能な工程管理装置を実現する。 - 特許庁
  • To provide a device for repair work guarantee capable of inspecting efficiently even if a defect is newly generated by repair of a defective component.
    不具合部品の改修により新たに不具合が生じても効率的に検査できる改修作業保証装置を提供する。 - 特許庁
  • To accurately measure a defect such as rubbing of a bearing and mixing of foreign matter with an AE sensor, without being affected by an electric noise of motor.
    軸受のコスレ、異物混入等の不良をAEセンサにより、モータの電気的ノイズに影響されることなく正確に測定する。 - 特許庁
  • AUTOMATIC CHECK METHOD FOR APPEARANCE DEFECT OF CONTINUOUS POROUS ELECTRODE BASE MATERIAL AND WINDING BODY OF POROUS ELECTRODE BASE MATERIAL WITH ITS RECORDING MEDIUM
    連続する多孔質電極基材の外観欠陥自動検査方法とその記録媒体を有する多孔質電極基材の巻体 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a two-dimensioal photonic crystal by which the resonance wavelength of a point defect resonator is easily controlled.
    点状欠陥共振器の共振波長を容易に制御することができる2次元フォトニック結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for verifying a defect (a bug) of software difficult to detect by test data check or logic check from a mathematical standpoint.
    テストデータチェックやロジックチェックでは検出が困難なソフトウェアの不具合(バグ)を数学的見地から検証する方法を提供する。 - 特許庁
  • To efficiently suppress charge-up of an isolated pattern without damaging the pattern in photomask defect correction using charged particle beam.
    荷電粒子ビームを用いたフォトマスク欠陥修正において、孤立パターンのチャージアップを、パターンを傷つけることなく、効率よく抑止する。 - 特許庁
  • To provide a high-carbon steel sheet which has stably superior workability and superior hardenability, by overcoming the defect in prior arts.
    従来技術の欠点を克服し、安定して優れた加工性を有し、かつ焼き入れ性の優れた高炭素鋼板の提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for evaluating accurately a size defect below 0.02 μm on the extreme surface layer within 10 μm from the surface of a semiconductor wafer.
    半導体ウエハの表面から10μm以内の極表層における、0,02μm以下のサイズの欠陥を正確に評価する。 - 特許庁
  • When defect information is not contained in the data which is read out from the compact memory 120, data in the corresponding partial address space is not transferred.
    コンパクトメモリ120から読み出されたデータに不良情報がなければ、対応する部分アドレス空間のデータは転送されない。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING SILICON CARRIER EQUIPPED WITH CONDUCTIVE THROUGH-VIA WITH LOW STRESS AND LOW DEFECT DENSITY, AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THE CARRIER
    低応力及び低欠陥密度の導電性貫通ビアを備えたシリコン・キャリアの製造方法及び該キャリアを有する半導体デバイス - 特許庁
  • The monitor decides resource that forms the origin of a bus error and marks the resource as a defect on a status register for resources in the monitor.
    モニタは、バス・エラーの根源を形成する資源を判定し、モニタ内の資源のためのステータス・レジスタに、この資源を欠陥として印する。 - 特許庁
  • INDUCTANCE SENSING CIRCUIT AND POSITION DETECTOR, TEST DEVICE FOR IDENTIFYING DEFECT OF CONDUCTIVE MATERIAL OR ITS PRESENCE OR ABSENCE, AND TORQUE SENSOR USING THE SAME
    インダクタンス検出回路及びそれを用いた位置検出装置及び導体の欠陥或いは有無の識別検査装置及びトルクセンサ - 特許庁
  • To provide a thermoplastic resin film having high heat resistance, transparency, optical isotropy, toughness and no defect properties and nearly free from thickness unevenness.
    高度な耐熱性、透明性、光学等方性、靭性、無欠点性を有する厚みムラの少ない熱可塑性樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁
  • Specifically, the defect detection step further includes a step for providing automatic test generation to a presentation layer associated with the software application.
    具体的には、欠陥検出段階は、ソフトウェアアプリケーションと関連するプレゼンテーション層に自動テスト生成を与える段階を更に有する。 - 特許庁
  • To provide a technique capable of assuring the flatness of pixel electrodes with a simple process and eliminating the light dropout occurring in an alignment defect.
    簡単な工程で画素電極の平坦性を確保し、配向不良に起因する光抜けをなくすことができる技術の提供。 - 特許庁
  • Inspection units 10 and 20 performing macro defect inspection or line width measurement of a pattern are disposed in the indexer ID.
    マクロ欠陥検査やパターンの線幅測定等を行う検査ユニット10および検査ユニット20はインデクサIDの内部に配置している。 - 特許庁
  • A defect is determined thereby in the pattern inspection, by comparing detection signals obtained substantially concurrently in the same circuit patterns.
    これにより、同一の回路パターン同士でほぼ同時に得られた検出信号を比較し、パターン検査の欠陥判定を同時に行う。 - 特許庁
  • To stick a counter substrate and an element substrate together with sufficient fixing strength without producing a contaminant or causing a defect in alignment.
    汚染物質の発生、アライメントの不良を生じさせることなく、十分な固着強度で対向基板と素子基板とを貼り合わせる。 - 特許庁
  • To prevent a transfer defect in an image forming apparatus which uses a transfer roller varying large in impedance with temperature and humidity.
    温湿度によりインピーダンスが大きく変化する転写ローラを用いた画像形成装置において、転写不良の発生を防止する。 - 特許庁
  • To provide a resin-bonded magnet, which is able to resolve a defect of the magnet using a polyamide resin and has a superior magnetic characteristics and adhesion characteristic.
    ポリアミド樹脂を使用した磁石の欠点を解消し、磁気特性と接着特性に優れた樹脂結合型磁石を提供する。 - 特許庁
  • The tape polishing apparatus employs a polishing head 16 having a base area A_total larger than a size of a protrusion defect 12 of a rib 11.
    このテープ研磨装置では、リブ11の突起欠陥部12のサイズよりも大きな底面積A_totalを有する研磨ヘッド16を使用する。 - 特許庁
  • The defect in the image display panel is detected, based on the comparison of the image data imaged from the respective image display directions.
    それぞれの画像表示方向から撮像された画像データの比較に基づいて上記画像表示パネルの欠陥検出を行う。 - 特許庁
  • To provide a CMP slurry capable of forming damascene wiring having high flatness and reduced defect density and a surface impurity concentration.
    平坦性が高く、欠陥密度や表面不純物濃度が低減されたダマシン配線を形成可能なCMP用スラリーを提供する。 - 特許庁
  • A defect in the strong field drift layer 6' is passivated, by applying a hydrogen radical on a surface of the strong field drift layer 6'.
    次に、強電界ドリフト層6’の表面に水素ラジカルを照射することで強電界ドリフト層6’中の欠陥をパッシベーションする。 - 特許庁
  • To propose an optical disk device and a control method therefor for performing fine recording control for minute defect on an optical disk.
    光ディスク上の微細欠陥に対するきめ細やかな記録制御を行ない得る光ディスク装置及びその制御方法を提案する。 - 特許庁
  • To provide a high-quality semiconductor film that is reduced in surface unevenness and crystal defect, and to provide a method of manufacturing the film.
    表面凹凸が低減され、且つ、結晶欠陥が低減された高品質な半導体膜及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an infrared image inspection device inexpensively inspect a defect without disassebling or moving an inspection object.
    検査対象物を分解あるいは移動することなくより安価に欠陥を検査することができる赤外線映像検査装置である。 - 特許庁
  • As a result, a Grown-in defect present on the surface layer of the silicon wafer and caused by crystal pulling can be extinguished.
    その結果、シリコンウェーハの表層に存在する結晶引上げに起因したGrown−in欠陥を消滅させることができる。 - 特許庁
  • A defect compensation circuit 19 compensates for defective pixels according to the position information about defective pixels described on the selected defective pixel map.
    欠陥補正回路19は、選択した欠陥画素マップに記載の欠陥画素の位置情報に基づいて欠陥画素を補正する。 - 特許庁
  • The light reflected on the steel sheet 1 surface is received by a light receiver 5, defect detection is done by a data processing unit 6.
    薄鋼板1表面で反射された光は、受光器5で受光され、データ処理装置6によって欠陥の検出が行われる。 - 特許庁
  • To provide a synchronizing circuit for an optical disk, capable of performing an accurate synchronizing operation, and performing desired defect dealing processing.
    正確な同期動作を実行することができ、所望のディフェクト対応処理が可能な光ディスク装置用同期回路を提供する。 - 特許庁
  • To provide a visual external inspection apparatus for semiconductors capable of surely detecting a defect on a semiconductor wafer or a pellet at a high speed.
    半導体ウエハあるいはペレット上の欠陥を高速で確実に検出することができる半導体外観検査装置を提供する。 - 特許庁
  • The black point defect B is detected on the basis of the detected light luminance data obtained by imaging a liquid crystal pixel 11 by a CCD camera.
    CCDカメラによって液晶画素11を撮像して得られる受光輝度データに基づいて黒点欠陥Bを検出する。 - 特許庁
  • When a defect is caused in a DQ0 region 21, a DQ selecting fuse box unit 48 cuts off a fuse relating to the DQ0 region 21.
    DQ0領域21に欠陥が生じたと、DQ選択ヒューズボックスユニット48は、DQ0領域21に係るヒューズを切る。 - 特許庁
  • Further, the defect compensating circuit 76 performs interpolation using a prepared interpolation pattern selected according to adjacent patterns of the dot flaw and line flaws.
    また、欠陥補正回路76は点キズと線キズの隣接パターンに応じて予め用意された補間パターンから選択して補間する。 - 特許庁
  • Alternatively, the OB signals may be classified for every output terminal of the image pickup apparatus to perform defect correction of the OB signals for every classification.
    その他、撮像部の出力端子別などにOB信号を区分して、その区分別にOB信号の欠陥補正を行ってもよい。 - 特許庁
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