「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • To provide a semiconductor integrated circuit permitting the entire circuit to normally operate by relieving a defect of one part of a circuit if it occurs, reducing a change in signal delay due to the relief of the defect and realizing an optimum architecture in a structured ASIC.
    回路の一部分に欠陥が生じていてもそれを救済して回路全体を正常に動作させることが可能であるとともに、欠陥の救済に伴う信号遅延の変化を小さくすることができることはもとより、ストラクチャードＡＳＩＣにおいて最適なアーキテクチャを実現することが可能な半導体集積回路を提供する。 - 特許庁
  • To provide an image automatic sorting method and its device capable of outputting information required for a countermeasure to the cause of the generation of a fault and information required for predicting the yield of an examination wafer by using the image of a defective site concerning the defect generated in the manufacturing process of a semiconductor wafer detected by a defect examination device.
    欠陥検査装置で検出された半導体ウェハの製造工程で発生した欠陥について、その欠陥部位の画像を用いて、その欠陥の発生原因対策に必要な情報および、該検査ウェハの歩留まりの予測に必要な情報を出力できる画像自動分類方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
  • To stabilize the quality of an annealed wafer by reliably decreasing SSDs (surface shallow defects which are recessed defects of an extremely wide and shallow shape on the surface), while ensuring generation of void defects other than the SSDs and generation of BMDs (bulk micro defects) indispensable as a gettering source in the bulk.
    アニールウェーハにとって必要不可欠なウェーハ表面におけるＳＳＤ（表面の非常に幅広く、浅い形状の凹状欠陥；Surface Shallow Defect）以外のボイド欠陥の低減や、バルク内のゲッタリング源としてのＢＭＤ（バルク微細欠陥；Bulk micro defect）の生成を保証しつつ、ＳＳＤを確実に低減させるようにして、アニールウェーハの品質を安定させる。 - 特許庁
  • The pixel defect inspection method includes a step of accumulating a charge by applying to a light emitting layer 23 a voltage less than the voltage at which the light emitting layer 23 emits light for each pixel area 11, a step of measuring the accumulated charge amount, and a step of judging an existence of a defect at the pixel area 11 from the measured charge amount.
    画素領域１１それぞれについて、発光層２３が発光する電圧以下の電圧を発光層２３に印加して電荷を蓄積する工程と、蓄積された電荷量を測定する工程と、測定した電荷量から画素領域１１における欠陥の有無を判断する工程と、を備える。 - 特許庁
  • To restrain detection precision of a defect from being lowered by reflection of irradiated light due to an image-focusing lens or the like, when the defect is detected by irradiation of the light, in a photomask formed with fine patterns.
    本発明は、微細なパターンが形成されたフォトマスクにおいて、光を照射することにより欠陥を検出する際に、照射した光が結像レンズなどにより反射されることで欠陥の検出精度を低下させることを抑制するための欠陥検出装置及び欠陥検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a lens-defect inspection device capable of inspecting the defects of a lens with high accuracy, while preventing foreign matters adhered to the lens from being deemed a defect by effectively using a facial illuminator, a liquid crystal panel, an imaging means and a foreign-matter removal means and which is made simple in constitution and cane beg formed at low cost.
    面照明と液晶パネル、撮像手段及び異物除去手段等の効果的な使用により、レンズに付着した異物を欠陥として判定することを防止しつつ、レンズ自体の欠陥を高精度に検査できると共に、構成簡易にして安価に形成可能なレンズ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • The light-emitting element inspecting device according to one embodiment includes an inspector for inspecting the presence of a defect by a vision inspection of a light-emitting element, and a defect rejector for discarding a light-emitting element determined as a defective element of the elements fed by the inspector, based on the inspection result by the inspector.
    本発明の一実施形態による発光素子検査装置は、発光素子のビジョン検査により不良の有無を検査する検査部と、前記検査部から供給された前記発光素子のうち、前記検査部の検査結果に基づいて不良と判定された発光素子を廃棄する不良リジェクト部とを含む。 - 特許庁
  • To provide an inspection device for liquid crystal device that can easily observe right under a pressing member that is difficult to observe by the conventional one and reduce missing of detection of potential short-circuit defect, and to provide an inspection method and a method of manufacturing a liquid crystal device by which missing of detection of potential short-circuit defect is suppressed.
    従来、観察が困難であった押圧部材の直下を容易に観察することができ、潜在的な短絡欠陥の検出漏れを低減することができる液晶表示装置の検査装置、検査方法および潜在的な短絡欠陥の検出漏れが少ない液晶表示装置の製造方法を提供する - 特許庁
  • To provide a method for estimating a crystal defect of a large-diameter silicon single crystal capable of estimating a crystal defect of a large-diameter silicon single crystal having a diameter of 450 mm or more at a level equivalent to a small-diameter silicon single crystal having a diameter smaller than this at a low cost and in a short time.
    ４５０ｍｍあるいはそれより大径の大口径シリコン単結晶の結晶欠陥を、これより小さな径の小口径シリコン単結晶と同等の水準で、しかも低コストかつ短時間にて推定することができる大口径シリコン単結晶の結晶欠陥推定方法を提供する。 - 特許庁
  • In the silicon wafer, a wafer surface portion 1 is a non-defective area in which there is no void defect, and a wafer bulk portion 2 positioned deeper than the wafer surface portion 1 contains a void defect 4 composed of a polyhedron basically forming an octahedron with the polyhedron corners curved and an inner wall oxide film removed.
    ウェーハ表面部１はボイド欠陥が存在しない無欠陥領域であり、ウェーハ表面部１よりも深いウェーハバルク部２は、八面体を基本形状とする多面体で構成され、前記多面体の角部が曲面状であり、かつ、内壁酸化膜が除去されたボイド欠陥４が存在しているシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁
  • In the optical film laminate with slit lines, defect-free normal sheets and defective or defect-containing sheets having predefined length corresponding to dimension of the liquid-crystal panel are defined on the carrier film by successively forming the slit lines by cutting a slit line in a direction vertical to its lengthwise direction.
    切込線入り光学フィルム積層体においては、その長手方向に対して直角方向に切り込みを入れて切込線を順次形成することによって、液晶パネルの寸法に対応する所定の長さを有する欠点を含まない正常シート片と欠点を含む不良シート片とがキャリアフィルム上に区画されている。 - 特許庁
  • In a processing section 2, a defect D in a workpiece W0 is detected, by using the image generated by the CCD 10 to generate a projection image 50, by setting an image data brighter than an ambience to an area RP corresponding to an area R, including the defect, provided to the projecting section 11, and projected.
    処理部２では、ＣＣＤ１０により生成された画像を用いてワークＷ０の欠陥Ｄを検出し、その欠陥を含む領域Ｒに対応する領域ＲＰに周囲より明るい画像データが設定された投影用画像５０を生成し、これを投影部１１に与えて投影させる。 - 特許庁
  • To provide an X-ray image photographing apparatus which is dealt with the deformation of a structural object existing between an X-ray source and an X-ray detector, and can specify the position of an image defect after movement and appropriately correcting the position even when the position of the image defect on an X-ray image is moved.
    Ｘ線源とＸ線検出器との間に存在する構造物の変形に応じて、構造物の欠陥に対応する、Ｘ線画像上の画像欠陥の位置が移動された場合であっても、移動後の画像欠陥の位置を特定し、これを適切に補正することができるＸ線画像撮影装置を提供する。 - 特許庁
  • The method includes: a step of directing radiation at the object, the radiation having a wavelength that is substantially equal to twice the optical depth of the recess; a step of detecting radiation that is re-directed by the object or by a defect on the object; and a step of determining the presence or absence of a defect from the re-directed radiation.
    この方法は、凹部の光学的深さの２倍に実質的に等しい波長を有する放射をオブジェクトへ誘導するステップと、オブジェクト又はオブジェクト上の欠陥によって再誘導された放射を検出するステップと、再誘導された放射から欠陥の存在又は不在を判定するステップとを含む。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device typified by a display device having more excellent display quality, in which parasitic resistance generated in a connection portion between a semiconductor layer and an electrode is suppressed and adverse effects such as voltage drop, a defect in signal writing to a pixel, a defect in grayscale, and the like due to wiring resistance are prevented.
    半導体層と電極の接続部に生じる寄生抵抗を抑制し、配線抵抗による電圧降下の影響や画素への信号書き込み不良や階調不良などを防止し、より表示品質の良い表示装置を代表とする半導体装置を提供することを課題の一つとする - 特許庁
  • To provide a piezoelectric vibration reed and a manufacturing method of the piezoelectric vibration reed, as well as a piezoelectric vibrator equipped with the piezoelectric vibration reed, an oscillator, an electronic apparatus and a radio wave clock, which can manufacture the piezoelectric vibration reed without a surface defect, suppressing the influence of the surface defect in a previous process to extend over a subsequent process.
    前工程における表面欠陥の影響が後工程に及ぶのを抑制し、表面欠陥のない圧電振動片を製造することができる圧電振動片の製造方法及び圧電振動片、並びに圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。 - 特許庁
  • To solve a problem that, in a conventional technology, any technology of detecting very small weld defect of the size of around 50 μm in a vicinity of a surface of a tubular body which is generated in a weld part of an electric resistance welded steel tube has not been established yet, and a status in which the electric resistance welded steel tube having such very small weld defect is mixed in products can be hardly prevented.
    従来技術では、電縫鋼管溶接部に稀に発生する管体表面近傍の５０μｍ前後の微小な溶接欠陥を検出する技術は確立されておらず、かかる微小な溶接欠陥を有する電縫鋼管が製品の中に稀に混入する事態を防ぎ難い。 - 特許庁
  • To provide a method for retreating a flaw detection head and a flaw detection apparatus with which a surface flaw can be detected even if shape defect exits in a steel plate which is an object to be detected without breakage of the flaw detection head through contact of the shape defect portions with the surface flaw detection apparatus.
    探傷対象の鋼板に形状不良があっても、この形状不良部分と表面欠陥探傷装置とが接触して欠陥探傷ヘッドを破損することがなく表面欠陥の検出を行うことができる、欠陥探傷ヘッドの退避方法および欠陥探傷装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • To provide a full-color image forming method which prevents a local transfer defect (wormhole and firefly) caused in transfer and a reproducibility defect of an image due to toner and dust as an image forming method which uses an intermediate transfer system, toner for full-color electrophotography used for he method, and a manufacturing method for the toner.
    中間転写方式を用いた画像形成方法において、転写時に発生する局所的な転写不良（虫喰いやホタル）や、トナーのチリによる画像の再現性不良を防止するフルカラー画像形成方法と、それに使用されるフルカラー電子写真用トナー及び該トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for detecting the defect of a photovoltaic element module in which the defective part of a photovoltaic element having a protective layer on the plane of incident can be detected with high sensitivity from above the protective layer without removing it, and a method for repairing the defect of a photovoltaic element from above the protective layer.
    光入射面上に保護層を有する光起電力素子の欠陥部分を、保護層を除去せずに、保護層の上から感度良く検出できる光起電力素子モジュールの欠陥検出方法、及び保護層の上から修復できる光起電力素子の欠陥修復方法を提供する。 - 特許庁
  • To solve a problem that the production capacity of high-plastic formation is low and the running cost is high, a defect that deformation is apt to be caused in die releasing just after forming and a defect that the cost is increased for a temp. control device because a temp. control device is necessarily inserted inside a normal die in warm forming.
    超塑性成形の、生産能力が低く、ランニングコストが高い点、成形加工直後、型から離型する際に変形しやすい欠点と、温間成形の、通常の金型の内部に温度制御装置を挿入する必要があるため温度制御装置分のコストが高くなる欠点を解決する。 - 特許庁
  • To provide a lens defect inspection device capable of forming many parallel light sources having prescribed angles by the use of an illumination means comprising surface illuminations and a louver layer, setting most suitably a focus position of an imaging means, imaging accurately a defect on a lens appearance by the imaging means, and automating inspection.
    面照明とルーバー層からなる照明手段の使用により所定の角度を持った平行光源を多数形成できると共に、撮像手段のフォーカス位置を最適に設定し、レンズの外観上の欠陥を撮像手段で精度良く撮像して検査の自動化を図ることが可能なレンズ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • While the main surface of the semiconductor wafer is scanned by a light beam, the intensity of scattered light from the respective measurement points by the light beam is measured, the measurement point with the intensity of scattered light set above a predetermined threshold value is distinguished as a crystal defect measurement point, and thus the defect measurement is carried out.
    半導体ウェーハの主表面を光ビームにて走査しつつ、該光ビームによる個々の測定点からの散乱光強度を測定し、該散乱光強度が予め定められた閾値以上となっている測定点を結晶欠陥測定点として識別することにより欠陥測定を行なう。 - 特許庁
  • Only a predetermined area is made to be irradiated with a laser beam by an optical pickup 72 to read information, a defect part is detected in an RF circuit 74 based on an electrical signal according to a return light from a disk of this laser beam, and the number of times of defect sensing is counted in a microcomputer 79.
    予め決められる所定領域のみに対して光ピックアップ７２によりレーザ光を照射して情報を読み出すようにし、このレーザ光のディスクからの反射光に応じた電気信号に基づいて、ＲＦ回路７４においてディフェクト部分を検出し、ディフェクトの検出回数をマイクロコンピュータ７９においてカウントする。 - 特許庁
  • To provide an assembly method for a pair of aperture grill and glass panel, that can minimize loss by detecting a defective one before an added value is imparted and by ejecting it, can significantly reduced the defect occurrence rate, can efficiently implement the identification of a defect cause and the repair and adjustment of process, abnormality and can automate the work thereof.
    付加価値が付く前に不良品を検出し直ちに排出して損失を最小とするとともに不良発生率を大幅に低減しかつ不良要因の特定と工程異常の修復、調整を効率よく実施でき、またその作業を自動化するアパーチャグリル及びアパーチャグリルとガラスパネルのペア組立に関する。 - 特許庁
  • The stripe defect detection filtering step comprises a step for carrying out a computation of convolution by filtering the image with each base filter, and a detection result of each base filter is calculated from the result of the computation, and a step defining a median value of the detection result of each base filter as the detection value of the stripe defect.
    筋状欠陥検出フィルタ処理工程は、画像に対して各ベースフィルタの各フィルタをかけて畳み込み演算をそれぞれ行い、各演算結果に基づいて各ベースフィルタの検出結果を算出する工程と、ベースフィルタ毎の検出結果のメディアン値を筋状欠陥の検出値とする工程とを備える。 - 特許庁
  • To provide a practical method and detector for detecting a micro surface roughness and defect, capable of detecting surely such the micro surface roughness and defect having about several μm of roughness difficult generally to be visually confirmed, and difficult to be automatically detected, as detected by grinding using a grinding stone, in an objective specimen with a coarse surface roughness.
    表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認困難で、砥石がけ検査により検出しているような自動検出が困難な凹凸が数μm程度の微小凹凸欠陥を確実に検出できる実用的な微小凹凸表面欠陥の検出方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a method and apparatus for inspecting defects of a glass substrate in which the inspection sensitivity of the defects of the glass substrate can be improved more than before and time to inspect the defects can be shortened, and to provide a method of manufacturing the glass substrate using a defect inspection method or a defect inspection apparatus.
    従来よりもガラス基板の欠陥の検査感度を向上可能であり、かつ、欠陥を検査する時間を短縮できるガラス基板の欠陥検査方法及び欠陥検査装置、並びに、前記欠陥検査方法又は前記欠陥検査装置を用いたガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an automatic system for observing and classifying defects which can solve the problem that, when ADC is not completed by the time ADR acquires the image of a next defect after it acquires the image of one defect, ADC becomes a bottleneck and drops throughput of the entire ADR/ADC system.
    ＡＤＲ／ＡＤＣシステムにおいて、ＡＤＣがＡＤＲによる画像取得終了から次の欠陥の画像取得開始までに完了しない場合、ＡＤＣがボトルネックとなり、ＡＤＲ／ＡＤＣシステム全体のスループット低下を防止する事ができる欠陥自動観察分類システムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a method for correcting defects of a photo mask for projection exposure or a nano imprint mold, in particular, that for correcting a white defect and a missing defect, to be put into practice as a production process for a photo mask with a configuration with commonly-used members without danger.
    本発明は投影露光用フォトマスクやナノインプリントモールドの欠陥修正方法、特に白欠陥、欠落欠陥の修正方法に関するもので、危険を伴わず、汎用的な部材の構成でフォトマスクの製造工程として実用出来るフォトマスク等の欠陥修正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a technology capable of determining intensity of defect detection signal necessary for detection and capable of shortening the inspection time as much as possible, upon inspecting a short circuit defect of conductor on the panel circuit board in the method of detecting the current variation accompanied by the resistance variation caused by the laser irradiation while applying electric bias on the conductor.
    パネル回路基板の導線のショート欠陥を検査するにあたり、導線へ電気バイアスを印加しながら、レーザ光照射による抵抗変化がもたらした電流変化を検出する方法において、必要な欠陥検出信号の強度が得られ、かつ、検査時間を極力短縮することができる技術を提供する。 - 特許庁
  • (2) In the case that a person who has appealed for a review on the recognition of internment status (hereinafter referred to as "the applicant of the appeal for review on the recognition of internment status") fails to correct the defect within the period set forth in the preceding paragraph, the Review Board may dismiss the appeal for review on the recognition of internment status by determination; provided, however, that this shall not apply when such defect is minor.
    ２　審査会は、資格認定審査請求をした者（以下「資格認定審査請求人」という。）が前項の期間内に補正をしないときは、裁決をもって、資格認定審査請求を却下することができる。ただし、その不適法が軽微なものであるときは、この限りでない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • To provide an electrostatic charging member which obviates the occurrence of an image defect by a partial electrostatic charging defect, etc., and eliminates the contamination to a photoreceptor drum while maintaining the advantages in environmental protection, such as the reduction of energy consumption in a production process and the curtailment of wastes by recycling at a low cost.
    製造工程におけるエネルギー消費量の低減及びリサイクルによる廃棄物の削減といった環境保護上のメリットを保持しつつ、部分的帯電不良等による画像欠陥を発生させないようにすると共に感光体ドラムに対する汚染をなくした帯電部材を低コストで提供する。 - 特許庁
  • To provide a defect repairing method for a liquid crystal display device which can easily repair a line breaking part by combining a partial wiring by laser CVD if a line-breaking defect is generated in a display panel.
    本発明は、液晶表示装置及びその欠陥修復方法に係り、表示パネル内に断線欠陥が生じた場合、レーザＣＶＤによる部分配線を組み合わせることにより、簡単に断線個所の修復が行えるようにする液晶表示装置の欠陥修復方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • For example, when an operating condition in the operation data is door lock switch ON despite the fact that a door lock switch must be OFF based on the signal data from the signal device 1, the possibility of any defect between the signal device 1 and the calculation apparatus 2 or the defect of the calculation apparatus 2 itself is considered to be high.
    例えば信号装置１からの信号データに基づけばドアロックスイッチはＯＦＦであるにもかからわず、作動データ中の作動条件がドアロックスイッチＯＮであれば、信号装置１と演算装置２との間での何らかの異常、演算装置２自体の異常の可能性が高いと考えられる。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a glass substrate for magnetic disc capable of enhancing the yield of glass substrates, by discriminating an included substance generated at the manufacturing process of the glass substrate from a recessed defect and a projected defect included in the surface, a glass substrate for magnetic disk, and to provide a magnetic disc.
    本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる内包物と表面に含まれる凹欠陥および凸欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。 - 特許庁
  • To provide a tracking servo circuit which can suppress the disturbance of a tracking error signal owing to defect as much as possible and can suppress the disturbance (a deviation or coming-off) of tracking owing to defect, and also to provide a highly reliably optical disk reproducing device which can adequately reproduced information with little tracking disturbance.
    ディフェクトによってトラッキングエラー信号が乱れることを極力抑え、ディフェクトによるトラッキングの乱れ（ずれや外れ）が発生するのを抑制することのできるトラッキングサーボ回路、更にはトラッキングの乱れが少なく、的確な情報再生が可能で且つ信頼性の高い光ディスク再生装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A non-destructive inspection apparatus is provided with a defect scanning means 20 for scanning the internal defects of the specimen 3 and a defect width changing means 10 for applying a predetermined action to the specimen 3, and forcibly changing the width of the closed internal defects to be within predetermined dimensions, and scans the defects.
    被検査体３の内部欠陥を探傷する欠陥探傷手段２０と、前記被検査体３に所定の作用を施して、前記内部欠陥のうち所定寸法以下の幅に閉ざされた内部欠陥の幅を強制的に変化させる欠陥幅変化手段１０とを備えた非破壊検査装置で欠陥を探傷する。 - 特許庁
  • The device is provided with a camera 14 which detects a defect 2 existing in a metallic member 3, a flux coating device 16 which supplies flux consisting essentially of Ti, Cr, and Si into a welded zone, a washing device 11 which washes the surface of the welded zone, and a welding torch 10 which repairs the defect 2 by welding.
    金属部材３に存在する欠陥２を検出するカメラ１４と、溶接施工部にＴｉ、ＣｒおよびＳｉを主成分とするフラックスを供給するフラックス塗布装置１６と、溶接施工部の表面を洗浄する洗浄装置１１と、欠陥２を溶接により補修する溶接トーチ１０と、を有する。 - 特許庁
  • To provide an inspection apparatus for a phosphor formed on the back plate of a plasma display panel in which even a micro defect, e.g. a point defect, of a phosphor can be detected with high accuracy and highly reliable inspection can be ensured by processing detected information optimally, and a method for manufacturing the back plate of a plasma display panel employing the inspection apparatus.
    蛍光体の点欠点等の微小な欠点まで高精度に検出可能で、検出情報を最適に処理して信頼性の高い検査が可能なプラズマディスプレイパネル背面板に形成された蛍光体の検査装置、およびその検査装置を用いたプラズマディスプレイパネル背面板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • An analysis part AN detects foreign object defect data from the first and second surface data, and the foreign object defect data are classified into three categories of a first mode which is indicated only in the first surface data, a second mode which is indicated only in the second surface data, and a third mode which is indicated in both the first and second surface data.
    解析部ＡＮは、第１及び第２表面情報から異物欠陥情報を検出し、異物欠陥情報を、第１表面情報のみに示された第１モード、第２表面情報のみに示された第２モード、第１及び第２表面情報の両方に示された第３モードに区別する。 - 特許庁
  • This defect detector for detecting the defect of the plate-like body 2 comprises a light projector 5 for making light come into one surface 33 of the plate-like body 2 containing the material having light transmitting properties, and an imaging device 3 for imaging the plate-like body 2 using the reflected light reflected by the plate-like body 2.
    板状体２の欠陥を検出する欠陥検出装置は、透光性を有する材料を含んだ板状体２の一の面３３に光を入射させる投光装置５と、板状体２で反射した光の反射光を用いて板状体２を撮像する撮像装置３と、を有している。 - 特許庁
  • A down-load accounting center 1 divides each pay content into a down-loaded content from which one or a plurality of parts are removed and a defect content containing the defect parts and down-loads the down-loaded content to the receiver 7 of each viewer through a broadcasting station center 3 to store the content in the storing section 75 of the receiver 7.
    ダウンロード課金センタ１は、各有料コンテンツについて、一又は複数の部分を欠損させたダウンロードコンテンツと、欠損部分の欠損コンテンツと、に分離し、放送局センタ３を介して、ダウンロードコンテンツを各視聴者の受信装置７に配信してコンテンツ格納部７５に蓄積記憶させる。 - 特許庁
  • This is because there is no substantial defect in the invention but only a formal defect (two or more patent applications should have been filed to receive examination on the inventions after the amendment) and the third parties' benefits will thus not be directly harmed to a significant extent even if the invention is patented as it is.
    これは、発明に実質的に瑕疵があるわけではなく、補正後の発明について審査を受けるためには二以上の特許出願とすべきであったという手続き上の瑕疵があるのみで、そのまま特許されたとしても直接的に第三者の利益を著しく害することにはならないからである。 - 特許庁
  • To keep flatness of a glass substrate surface, to remedy roughness of the glass substrate surface, and to remove defect on the glass substrate surface, in a polishing process of polishing the locally-worked glass substrate surface for remedying the roughness by the local working and removing the defect.
    局所加工が施されたガラス基板表面を、局所加工による面荒れの改善や表面欠陥の除去を目的として研磨するにあたり、この研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持しつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善するとともに、ガラス基板表面の表面欠陥を除去する。 - 特許庁
  • Although azone or an alcohol having been used as an absorption promoter has a defect for lowering the barrier ability of the skins, the alkali ion water does not have the defect, and is useful not only in the aspect of pharmaceutical safety and but also in the aspect of a sense of use on the side of patients.
    この経皮吸収型薬剤は、従来より吸収促進剤として用いられていたエイゾンや、アルコールは、皮膚バリア能を低下させてしまう欠点があったが、アルカリイオン水を用いると、このような欠点がないので、製剤的な安全性の面だけでなく、患者側の使用感の面でも有用である。 - 特許庁
  • In the laser processing method of removing the residual defect of the photomask, the substrate is set so as to make its surface to be processed face downward, and the surface of the substrate is irradiated with a laser beam from below in an atmosphere containing halogenated hydrocarbon gas (e.g. ethyl iodide gas) to remove the residual defect.
    フォトマスクの残留欠陥をレーザ加工法によって除去するレーザ加工方法において、被加工面を下向きにして、下方からレーザ光を照射する構成として、ハロゲン化炭化水素ガス（一例として沃化エチルガス）を含む雰囲気中でレーザ光を照射して、残留欠陥の除去を行う。 - 特許庁
  • Further, the neural network includes a neural network for a shot defocus defect for classifying the defocus defect produced in a shot unit in the exposure process of the object to be inspected and has an image size converting means for converting an image size corresponding to an input layer size as the preprocessing inputted to the neural network.
    また、ニューラルネットワークは被検物の露光工程においてショット単位で発生するデフォーカス欠陥を分類するショットデフォーカス欠陥用ニューラルネットワークを含み、ニューラルネットワークに入力する前処理として、入力層サイズに対応させて画像サイズの変換を行う画像サイズ変換手段を備える。 - 特許庁
  • Inspection conditions decided by at least the eyelectronic optical conditions in a charged particle source and an irradiating optical means are a plurality of different inspection conditions, and a defect classification means that classifies the defects of a sample using a plurality of defect information obtained by irradiating the sample under a plurality of inspection conditions is provided.
    少なくとも荷電粒子源と照射光学手段における電子光学条件によって決定される検査条件が複数の異なる検査条件であって、該複数の検査条件で試料を照射し得られた複数の欠陥情報を用いて、試料の欠陥を分類する欠陥分類手段を備える。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device for highly precisely detecting a defect of a rotor-shaped measuring object having a surface with high reflectivity on the basis of a two dimensional image by photographing light reflected from the measuring object by irradiating a slit laser beam or the like to the rotor-shaped measuring object.
    本発明は、スリットレーザ光等を、回転体状の測定対象に照射し、測定対象からの反射光を撮影した二次元画像に基づいて、回転体状かつ表面が高い反射率を有する測定対象の欠陥を高精度に検出する欠陥検査装置を実現することを目的とする。 - 特許庁
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