「Defect」を含む例文一覧(18306)
＜前へ 1 2 .... 198 199 200 201 202 203 204 205 206 .... 366 367 次へ＞- To provide a semiconductor integrated circuit that can decrease a design margin by suppressing an operation defect due to a difference in characteristic deterioration amount between elements during actual operation.
実動作時の素子間の特性劣化量の差による動作不良の発生を抑制し、設計マージンを削減できる半導体集積回路を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device that can suppress or prevent the generation of crystal defect such as slip or the like of wafer or the like as a substrate, and can optimize the rotational frequency of the wafer.
ウエハ等の基板のスリップ等の結晶欠陥の発生を抑制または防止でき、ウエハ回転数を最適化できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a sanitary tissue paper which does not cause a defect in cutting a sheet and discharging a roll in a process, prevents the sheet from being caught, and has a good surface property.
工程上のシートカット、ロールの排出等において不具合がなく、シート取られが少なく、表面性の良好な衛生薄葉紙を得ることにある。 - 特許庁 - To provide a defect inspecting apparatus or the like capable of eliminating the influence of the optical characteristics of the apparatus on the inspection without requiring complicated work.
煩雑な作業を要することなく、装置の光学特性の検査への影響を排除することができる欠陥検査装置等を提供する。 - 特許庁 - To provide a developing method for suppressing the occurrence of a precipitation-induced defect in a developing process, changes in a CD or dissolution of a resist pattern caused by a rinsing liquid.
現像処理における析出系欠陥の発生、ＣＤ変動、リンス液によるレジストパターンの溶解を抑制する現像処理方法を提供する。 - 特許庁 - Here, a perfect crystal means a parallel-sided slab of defect-free crystalline material, which produces an ideal point diffraction pattern when illuminated by a plane wave.
ここで、「完全結晶」とは欠陥がない結晶性の平行平板を意味し、これは平面波で照らされるとき理想的な「点状の」回折図形を作る。 - 科学技術論文動詞集 - In the case where a suit is unlawful and such defect cannot be corrected, the court may dismiss the suit by judgment without oral argument
訴えが不適法でその不備を補正することができないときは、裁判所は、口頭弁論を経ないで、判決で、訴えを却下することができる - 法令用語日英標準対訳辞書 - To avoid the influence of a defect occurred in a disk recording medium without spending time, and not to incur a loss of user data.
ディスク記録媒体に生じたディフェクト（欠陥）の影響を時間をかけることなく回避し、ユーザーデータの損失を発生させることもないようにする。 - 特許庁 - To enhance an aperture ratio in a display device using organic light emitting elements and also to perform a display having high quality by preventing display failure such as line defect.
有機発光素子を用いた表示装置における開口率を向上し、かつ線欠陥等の表示不良を防止して高品質の表示を可能とする。 - 特許庁 - A defect such as a chip or crack is detected based on the variation of the first and second detection positions when the inspection part is scanned along the edge.
そしてエッジに沿って検査部位を走査したときの第１および第２の検出位置の変化から欠けやひび割れ等の欠陥を検出する。 - 特許庁 - To provide a display device in which the occurrence of a short circuit defect is prevented at the connection part between a display panel and a drive circuit, and its manufacturing method.
表示パネルと駆動回路との接続部における短絡不良の発生が防止された表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display capable of controlling occurrence of magnetic noise from a recovery line arranged for the purpose of recovering a display defect in an LCD panel.
ＬＣＤパネルにおける表示欠陥を修復すべく設けられた修復用ラインからの電磁ノイズの発生を抑制し得る液晶ディスプレイを提供する。 - 特許庁 - To provide an information storage medium in which reliable defect management is possible even when the medium is one whose durability is relative low for overwriting.
オーバーライトに対する耐久性が比較的低い媒体であっても、信頼性の高い欠陥管理が可能な情報記憶媒体を提供すること。 - 特許庁 - To suppress a difference in dimension between patterns formed on resist films on all the area of a substrate and a microscopic region and to reduce a defect in the patterns, which is generated in a developing process.
レジスト膜に形成されたパターンの基板全域及び微小領域における寸法差を抑制し、現像工程で生じる欠陥を低減する。 - 特許庁 - To provide a high-quality plasma display device without causing deficiency such as a withstand voltage defect due to the inclusion of bubbles or a projection in sticking a dielectric sheet.
誘電体シート貼付け時の泡噛みや突起による絶縁耐圧不良などの欠陥がない高品質のプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁 - Now, you remark in this note of yours, Mr. Windibank, that in every case there is some little slurring over of the 'e,' and a slight defect in the tail of the 'r.'
さて、あなたのこの手紙ですがね、ウィンディバンクさん、『ｅ』はどの場合も上が少し不明瞭ですし、『ｒ』の尻尾がわずかに欠けていますでしょう。 - Arthur Conan Doyle『シャーロック・ホームズの冒険』 - Consequently, the recording paper is sent in a postprocessing device at a recording paper interval Tis based upon the switching time, so paper postprocessing corresponding to each print job can be performed without causing the decrease in productivity of the image forming apparatus, or a conveyance defect nor a postprocessing defect of recording paper in the postprocessing device.
これにより、記録紙は、切換え時間に基づいた記録紙間隔Ｔisで後処理装置へ送り込まれるので、画像形成装置の生産性低下、後処理装置で記録紙の搬送不良や後処理不良を生じさせることなく、それぞれの印刷ジョブに応じた適正な後処理が可能となる。 - 特許庁 - To provide an electrodeposition apparatus and electrodeposition method which are capable of preventing a continuation defect by detecting the continuation defect by shorting between rear surface electrodes and a conductive substrate and are capable of preventing the occurrence of gouge by early discovering the occurrence of the flow by the film peeling of the oxide sticking to the rear surface electrodes.
裏面電極と導電性基板との間の短絡による通電不良を検知して、通電不良を防止することができ、また裏面電極に付着する酸化物の膜剥がれによる打痕発生を早期に発見して、打痕発生を防止することができる電析装置及び電析方法を提供する。 - 特許庁 - The opaque substance 6 is disposed corresponding to the pixel area with the bright spot defect formed on the thin film transistor panel after completing a liquid crystal panel, or the opaque substance 6 is disposed corresponding to the pixel area with the bright spot defect formed on the liquid crystal display panel after forming a liquid crystal panel.
また、液晶パネルを完成する前に、薄膜トランジスタパネル上にブライトスポット欠陥が形成された画素領域に対応して不透明物質６を配置し、又は、液晶パネルを形成した後、液晶ディスプレイパネル上にブライトスポット欠陥が形成された画素領域に対応して不透明物質６を配置する。 - 特許庁 - The circuit design of a product mask is analyzed, and a conventional test defect structure is modified in such a manner as to simulate the product mask and incorporate one or more isolated features or other features including product mask circuit features with high possibility of causing processing image induced defects into the test defect structure.
製品マスクの回路設計を分析するとともに、製品マスクを模擬して、プロセス画像誘起欠陥を引き起こす可能性が高い製品マスク回路フィーチャを含む、１つ以上の分離したフィーチャまたは他のフィーチャを検査欠陥構造に組み込むように、従来の検査欠陥構造を変更する。 - 特許庁 - A method for the inspection is provided, in which a semiconductor wafer is inspected, and a defect image detected by the inspection is displayed on a screen, and an input interface is employed, capable of selecting any one from defects whose image is displayed, and the inspection is carried out after adjusting the inspection condition such that the ability for detecting the defect taught by a user rises.
半導体ウェハを検査し、検査で検出した欠陥の画像を画面に表示し、画像を表示された欠陥から任意の欠陥を選択可能な入力インターフェースを設け、ユーザによって教示された欠陥の検出性能が高くなるように検査条件を調整し、検査を行う。 - 特許庁 - The defect in the inspected image is detected locally in the defect detecting part 53, by comparing a picture element value included in a local area with a corresponding picture element value of the reference image, while moving two-dimensionally the local area of the inspected image after position-corrected from a corresponding position of the reference image.
欠陥検出部５３では、位置補正後の被検査画像の局所領域を、参照画像の対応する位置から２次元的に移動しつつ局所領域に含まれる画素値と参照画像の対応する画素値とを比較することにより、被検査画像中の欠陥が局所的に検出される。 - 特許庁 - To eliminate the defect that visitors increase when the number of a visitor counter in a homepage on a computer network is close to a specific value for giving privilege to a visitor, but do not increase at other time and the defect that fairness, evenness, etc., are not kept since the specific value is already known.
コンピュータネットワークのホームページ上の訪問者数カウンターの数字が訪問者に特典が与えられる所定値に近い時には訪問者が増えても、それ以外の値の場合には訪問者が増えない、及び所定値が当初よりわかっているので、公平性や平等性が保たれないという欠点を解消する。 - 特許庁 - When a release force that is applied in the case of mold releasing for separating a molded article and a mold 30 is detected and the molded article is continuously molded, a control section 50 determines whether there is a transfer defect in the molded article after transferring according to a variation in the detected release force to achieve transfer defect detection.
被成形物とモールド３０とを引き離す離型時に加わる力である離型力を検出し、被成形物の形成を連続して行う場合に、制御部５０によって、検出された離型力の変動から、転写後の被成形物に転写欠陥があるかどうかを判定することで実現する。 - 特許庁 - To accurately measure a distance even when a beam defect is generated, by correcting the beam defect based on respective distance informations provided by projecting toward distance measuring objects in order three kind of the same beams in luminous gravity center positions and different in luminous intensity distributions each other releting in a base line direction.
基線長方向に関して発光重心位置が互いに同一であり発光強度分布が互いに異なる３種類のビームを順次に測距対象物に向けて投光して得られた各距離情報に基づいてビーム欠け補正を行うことにより、ビーム欠けが生じた場合であっても正確な測距を行う。 - 特許庁 - This pattern defect inspection device detects a defect by comparing a detection image acquired by scanning patterns, which are sequentially arranged in the line direction at equal intervals on the object under inspection and provided with the same shape, by means of an image sensor with a reference image acquired by scanning the patterns arranged adjacently in the line direction and provided with the same shape.
被検査物体上に行列方向に等間隔で連続的に配列された同一形状を有するパターンをイメージセンサを走査して得られる検出画像とその行列方向に隣接する同一形状のパターンを走査して得られる参照画像とを比較して欠陥を検出するパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for putting a defect of an observational object in a view of an electron microscope, etc. without failure, and further making a scale of the apparatus small, in the method and the apparatus for observing the defect detected by an optical foreign matter inspection device or an optical visual inspection device with the electron microscope in detail.
光学式異物検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を電子顕微鏡で詳細に観察する方法およびその装置において、観察対象の欠陥を確実に電子顕微鏡等の視野内に入れることができ、かつ、装置規模を小さくできる方法およびその装置を提供する。 - 特許庁 - An image processing apparatus 100 comprises a histogram creation part 42, a defect candidate region decision part 43, a defective region decision part 44 and a defect correction part 45 for automatically detecting and correcting a defective region which can be included in image data acquired via a film scanner 1 and an image data acquisition part 2.
画像処理装置１００は、フィルムスキャナ１、画像データ取得部２を介して取得された画像データに含まれる可能性がある欠陥領域を自動的に検出して修正するために、ヒストグラム作成部４２、欠陥候補領域判定部４３、欠陥領域判定部４４および欠陥修正部４５を備えている。 - 特許庁 - When the cholesteric liquid crystal layer 20 as the object has a defect, abnormality is generated in the polarization state of light at the spot where the defect is present on the plane of the cholesteric liquid crystal layer 20, and this generates difference in brightness (in-plane distribution) of the illumination light L emitted from the absorption type linearly polarizing layer 12.
検査対象となるコレステリック液晶層２０に欠陥がある場合には、コレステリック液晶層２０の平面のうち欠陥が存在する箇所で光の偏光状態に異常が生じるので、吸収型直線偏光層１２から出射した照明光Ｌに明暗の差（面内分布）が生じる。 - 特許庁 - The error probability value Er thus obtained represents the degree of defect concerning to each pixel of the image to be inspected S and a decision is made whether a defect of an object to be inspected is presents or not at a position corresponding to each pixel of the image to be inspected S based on the relation of magnitude between the error probability value Er and a specified threshold value.
得られたエラー確率値Ｅｒは、被検査画像Ｓの各画素に関する欠陥度合いを表しており、このエラー確率値Ｅｒと所定の閾値との大小関係に基づいて、被検査画像Ｓの各画素に対応する位置における被検査対象物の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁 - To provide a defect detection method and system capable of accurately removing in a short time a chip including a defect such as a microvoid which is formed on a wafer stuck by a direct bonding method or through an adhesive and is difficult and takes time to be found by visual observation, and to provide a method of manufacturing a light emitting device.
直接接合方法または接着剤を介して貼り合わせたウエーハにできる目視では発見が困難で時間がかかるマイクロボイド等の欠陥を含むチップを、正確にそして短時間で取り除くことができる欠陥検出方法および欠陥検出システムならびに発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a process cartridge and an image forming apparatus capable of highly precisely uniformizing and optimizing a gap between an image carrier and a developer carrier in the longitudinal direction without causing a defect of damaging the image carrier or a defect that the image carrier or the developer carrier cannot be positioned in the longitudinal direction.
像担持体を傷つける不具合や、像担持体や現像剤担持体の長手方向の位置が定まらない不具合、を生じさせることなく、像担持体と現像剤担持体とのギャップが長手方向にわたって高精度に均一化かつ適性化される、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The variation of the intensity of the monitor light with time reflects the degree of progress of the defect formation and the time at which the irradiation of the electromagnetic wave is halted is decided on the basis of the variation of the intensity of the monitor light in time, thus the electromagnetic wave for generating the glass defect is irradiated for a necessary and sufficient period of time.
モニター光強度の時間的変化は欠陥生成の進行度合いを反映することから、モニター光強度の時間的変化に基づいて電磁波の照射を停止する時期を決定することにより、ガラス欠陥生成用の電磁波照射を必要十分な時間にわたって行うことができる。 - 特許庁 - The semiconductor integrated circuit for display control is provided with: a display memory 206 capable of storing display data in a storage region; a preliminary storage region disposed besides a regular storage region of storing the display data; and a redressing circuit 230b capable of redressing a defect by replacing a region containing the defect of the display memory into the preliminary storage region.
表示データを記憶領域に記憶可能な表示メモリ（２０６）と、上記表示データを記憶する正規の記憶領域以外に設けられた予備の記憶領域と、上記表示メモリの欠陥を含む領域を上記予備の記憶領域に置き換えることで欠陥救済を可能とする救済回路（２３０ｂ）とを設ける。 - 特許庁 - An information recording medium has a volume space 6 in which user data are recorded, a spare area 7 including a substitute area by which a defective area included in the volume space 6 is substituted and a defect management information area 4b in which defect management information 10 for the management of a defective area is recorded.
情報記録媒体１は、ユーザデータが記録されるボリューム空間６と、ボリューム空間６に含まれる欠陥領域の代わりに使用され得る交替領域を含むスペア領域７と、欠陥領域を管理するための欠陥管理情報１０が記録される欠陥管理情報領域４ｂとを備えている。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus and an image forming method which is improved, in terms of an image defect, such as, image deletion caused by activated gas, such as, NOx and ozone, especially for providing an image forming apparatus and an image forming method improved, in terms of an image defect such as image deletion which is apt to occur, immediately under an electrification pole.
本願発明の目的は、ＮＯｘやオゾン等の活性ガスによる画像流れ等の画像欠陥を改善した画像形成装置、画像形成方法を提供することであり、特に、帯電極直下で発生しやすい画像流れ等の画像欠陥を改善した画像形成装置、画像形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate defect checkup system and a substrate defect checkup method that enable the quantity of distortion a substrate itself involves to be corrected and the substrate to be checked up accurately even if the substrate has lost much of its thickness, and a conveying apparatus that can convey a substrate while correcting the quantity of distortion a substrate itself involves and maintaining the substrate in an examinable range.
本発明は、基板が薄くなっても、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を精度よく検査できる基板欠陥検査システム及び基板欠陥検査方法並びに、基板自体の有する歪量を矯正し、基板を検査可能範囲に維持して搬送できる搬送装置を提供することにある。 - 特許庁 - A controller (20) performs processing (20-2) in which an off-track occurrence point is detected when off-track is caused and defect determination processing (20-1) in which continuous off-track in the same point is detected and it is determined as defect (dust, scratch), in read operation, detection conditions of off-track detection processing (22-1) are relaxed.
コントローラ（２０）が、オフトラック発生時に、オフトラック発生箇所を検出する処理（２０−２）と、同一箇所でオフトラックが連続したことを検出し、欠陥（ごみ、傷）と判断する欠陥判断処理（２０−１）を実行し、リード動作の場合は、オフトラック検出処理（２２−１）の検出条件を緩和する。 - 特許庁 - To provide a cleaning device that can prevent an image defect caused by a cleaning defect by preventing toner from cohering even in an environment wherein the toner is apt to cohere by reducing pressure to collected toner removed by a cleaning blade, and an inexpensive image forming apparatus with simple configuration using the same.
クリーニングブレードにより除去された回収トナーに対する圧力を緩和し、トナーが凝集し易い環境においてもその凝集を防止してクリーニング不良に伴う画像欠陥の発生を未然に防止することができるクリーニング装置及びこれを用いた画像形成装置を簡易な構成で安価に提供する。 - 特許庁 - The semiconductor element in which the resistive contact is formed in the high defect-density region of the semiconductor, and the non-resistive contact is formed in the low defect-density region, is used.
少なくとも一つの抵抗性接触を有する電極と、少なくとも一つの非抵抗性接触を有する半導体素子であって、前記半導体の高欠陥密度領域に抵抗性接触が形成され、かつ低欠陥密度領域に非抵抗性接触が形成されていることを特徴とする半導体素子。 - 特許庁 - To provide a nitrogen-doped silicone single crystal from any part of which is obtained a sliced wafer having a reduced variations in the non-defect region on its surface and in the density of the residual defect after annealing regardless of the doped nitrogen concentration on the silicon single crystal and to provide its manufacturing method.
シリコン単結晶にドープされた窒素濃度に影響されることなく、シリコン単結晶の各部位からスライスされたシリコン単結晶ウエーハにおけるアニール後の残留欠陥密度及び表層の無欠陥領域のばらつきが緩和された窒素ドープしたシリコン単結晶及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a three-dimensional photonic crystal operated by a plurality of designed wave lengths with which a photonic band gap wavelength band is controlled to a desired wavelength without varying a lattice period or an optical element having a point defect resonator structure and a line defect waveguide structure in the inside.
複数の設計波長で動作する３次元フォトニック結晶において、格子周期を変化させることなくフォトニックバンドギャップ波長帯域を所望の波長に制御することができる３次元フォトニック結晶、もしくはその内部に点欠陥共振器構造や線欠陥導波路構造を備えた光学素子を提供する。 - 特許庁 - Eprosartan or the salt thereof expresses excellent improved activity in a corneal disorder model, and is useful as a therapeutic agent for corneal/conjunctival disorders such as dry eye, corneal ulcer, keratitis, conjunctivitis, superficial punctuate keratopathy, corneal epithelial defect, conjunctival epithelial defect, keratoconjunctivitis sicca, superior limbic keratoconjunctivitis, filamentary keratitis and the like.
エプロサルタンまたはその塩は、角膜障害モデルにおいて優れた改善効果を発揮し、ドライアイ、角膜潰瘍、角膜炎、結膜炎、点状表層角膜症、角膜上皮欠損、結膜上皮欠損、乾性角結膜炎、上輪部角結膜炎、糸状角膜炎などの角結膜障害の治療剤として有用である。 - 特許庁 - The defect detection unit then has a detection pixel data holder for temporarily holding pixel data to be written in the SRAM, and a detector for detecting the defect address of the SRAM when the pixel data read from the SRAM are not matched with the pixel data read from the detection pixel data holder.
そして、欠陥検出部は、ＳＲＡＭに書き込まれる画素データを一時的に保持する検出用画素データ保持部と、ＳＲＡＭから読み出された画素データと検出用画素データ保持部から読み出された画素データとが一致しないときに、ＳＲＡＭの欠陥アドレスを検出する検出器と、を有する。 - 特許庁 - A haze region is formed at least in a part of the main surface of the semiconductor wafer, and when the defect measurement is carried out in the haze region, the threshold value Vref2 of the scattered light intensity for distinguishing the crystal defect measurement point is set higher than the average scattered light intensity level of the entire haze region.
半導体ウェーハは、主表面の少なくとも一部にヘイズ領域が形成されているものであり、該ヘイズ領域における欠陥測定を行なう際に、結晶欠陥測定点を識別するための散乱光強度の閾値Ｖref２を、ヘイズ領域全体の平均的な散乱光強度レベルよりも高く設定する。 - 特許庁 - To reduce a defect, such as a Ga hole, by doping Al at the time of GaN growing, to reduce the defect, such as a dislocation, caused by lattice mismatch, and to provide a high quality GaN semiconductor light emitting element and its manufacturing method capable of improving electrical characteristics and optical characteristics.
本発明はGaN成長時AlをドープすることによりGa空孔のような欠陥を減少させると共に転位などのような格子不整合による欠陥を減少させ、電気的特性及び光学的特性を向上させられる高品質GaN半導体発光素子及びその製造方法に関するものである。 - 特許庁 - The defect inspection method for a resist pattern includes (a) a step of forming the resist pattern on a semiconductor substrate, (b) a step of etching the semiconductor substrate with the resist pattern used as a mask, and (c) a step of inspecting the etched semiconductor substrate for a defect as a substitute of the resist pattern.
本発明のレジストパターンの欠陥検査方法は、（ａ）半導体基板上にレジストパターンを形成する工程と、（ｂ）前記レジストパターンをマスクとして用いて半導体基板をエッチングする工程と、（ｃ）レジストパターンの代替えとして前記エッチング後の半導体基板の欠陥検査を行う工程を備える。 - 特許庁 - Error detection is carried out when reproducing continuous image information, such as animation images and when an error is detected, the physical address information of the defect region is recorded in a management information recording region of a recording medium, by which the information may be recorded by averting the defect region when the information is next recorded to the same recording medium.
動画等の連続した画像情報を再生する際に、エラー検出を行い、エラーが検出された場合には、記録媒体の管理情報記録領域に、欠陥領域の物理アドレス情報を記録することにより、次に同一の記録媒体に記録する場合、欠陥領域を避けて記録することが出来る。 - 特許庁 - A correcting signal generating circuit 9 generates a correcting signal being the edge pulse signal of a signal from the signal which is outputted from a defect period detecting circuit 4 and indicates a defect period, the correcting signal is added to a TE signal by a prescribed polarity by a correction adder 10 and, then, the TE signal is corrected.
ディフェクト期間検出回路４から出力されるディフェクト期間の示す信号からその信号のエッジパルス信号である補正信号を補正信号生成回路９で生成し、補正加算器１０でその補正信号を所定の極性でＴＥ信号に加算してＴＥ信号の補正を行う。 - 特許庁 - The amplifying circuit 1301 for reading data has a clamp part 1212 for reading data stored in a data memory cell, a clamp part 1211 for detecting defect of data cell short circuit of the data memory cell, and a clamp part 1213 for detecting defect of open of the data memory cell.
データ読出し用増幅回路１３０１は、データメモリセルに記憶されたデータの読出し用のデータ読出し用クランプ部１２１２と、データメモリセルのショート不良の検出用のデータセルショート不良検出用クランプ部１２１１と、データメモリセルのオープン不良検出用のデータセルオープン不良検出用クランプ部１２１３とを有している。 - 特許庁
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- ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年1月現在の情報を転載しております。
- 特許庁
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- 日英対訳文対応付けデータ
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- 原題：”The Adventures of Sherlock Holmes”
邦題：『シャーロック・ホームズの冒険』 - This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide.
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- 原題：”The Adventures of Sherlock Holmes”
