「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • After all three defects are corrected, only a center defect part is further irradiated with a laser beam LB and a hole is further bored in a color filter to increase transmission light brightness.
    3つの欠陥全てを修正した後、真中の欠陥部位のみに更にレーザ光LBを照射して、カラーフィルタCFに更に孔を開け、透過光輝度を上昇させる。 - 特許庁
  • To minimize degradation in system performance and the occurrence of a defect due to execution of a TSN (Transmission Sequence Number) flush in a receiver adopting the HSDPA (High Speed Downlink Packet Access) data transmission method.
    HSDPA(High Speed Downlink Packet Access)データ伝送方式の受信装置においてTSNフラッシュ実行によるシステムの性能低下や不具合の発生を最小限に抑制する。 - 特許庁
  • To provide an original reading apparatus that can prevent image defect due to deposition of a foreign material and surely read information described on an original.
    この発明は、異物の付着による画像欠損を防止でき、原稿の記載情報を確実に読み取ることができる原稿読取装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • There is registered a position corresponding to an error defect position of the recording layer being reproduced of the recording layer arranged at a lower layer of the recording layer being reproduced.
    また、データ再生中の記録層に対して下層側に配置された記録層の、データ再生中の記録層の誤り欠陥位置に対応する位置の欠陥登録を行う。 - 特許庁
  • A jig fixture 5 is inserted from multiple directions between the cap part 2-1 and the cap part 2-2 of the insulator 2 and, by applying stress on the cap part, the defect of the cap part is detected.
    ガイシ2の笠部2−1と笠部2−2との間に治具5を多方向より挿入し、笠部に応力を加えることにより、笠部の欠陥を検出する。 - 特許庁
  • The recording position of an STA area and the recording start position of a Lead-Out area are changed when there is a defect in an SIP recording position.
    SIP記録位置に欠陥が存在する場合にSTA領域の記録位置を変更すると共にLead−Out領域の記録開始位置を変更する。 - 特許庁
  • To provide a pattern correcting method in which an electrode broken part can be corrected by using a thin wire of about 10 μm and contamination of a periphery of a defect part is small.
    10μm前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a press-forming method with which a projecting part having no defect can be press-formed without increasing the number of processes and without using a complicated die.
    工程数を増やすことなく、また、複雑な金型を使用することなく欠陥のない突起部をプレス成形することができるプレス成形方法を提供する。 - 特許庁
  • A change in electrification current for each plating cell is measured by a plating rectifier and from the waveform change of the electrification current, and the position where a plating appearance defect occurs is specified.
    各めっきセル毎の通電電流の変化を、めっき整流器により測定し、該通電電流の波形変化により、めっき外観不良の発生箇所を特定する。 - 特許庁
  • To reduce a defect fraction rate by preventing occurrence of a deformation, a disconnection or the like of a lead of a semiconductor device and to contribute to reductions in size and thickness of a semiconductor device.
    半導体装置におけるリードの変形、断線等の発生を防止し、不良率を低減すること、及び半導体装置の小型化、薄型化に貢献すること。 - 特許庁
  • To suppress generation of lamination defects and the enlargement of area of lamination defect which are generated by continuing the supply of electric power, in a silicon carbide bipolar semiconductor device.
    炭化珪素バイポーラ型半導体装置において、通電を続けることにより生じる積層欠陥の発生および積層欠陥の面積拡大を抑制すること。 - 特許庁
  • To restore a restorable three-dimensional shape defect to secure a storage medium wherein a normal image is formed as a product for improving productivity.
    修復可能な三次元的な形状欠陥を修復することで、正常な画像が形成された記録媒体を成果物として確保して、生産性を向上させる。 - 特許庁
  • The difference in temperature between the dope flowing thereinto and the dwelling dope 10a and mixing of air bubbles by the liquid receptacle 32 are controlled, and the formation of a face defect is inhibited.
    流入ドープと滞留ドープ10aとの液温差及び液受け容器32によって気泡の混入が抑制され、面状欠陥の発生が抑えられる。 - 特許庁
  • To avoid the reduction of a light condensing ratio due to alignment precision defect of a light source, a micro lens and a liquid crystal panel and to simplify an alignment stage in a transmission type liquid crystal device.
    透過型液晶装置において光源とマイクロレンズと液晶パネルとのアライメント精度不良による集光率の低下を回避し、アライメント工程を簡略化する。 - 特許庁
  • A temperature measuring instrument 19 measures the temperature on a surface of the inspected object in time sequence and outputs measurement data to a data recording means 13 of a defect inspection controlling apparatus 10.
    温度計測器19は、被検査体の表面温度を時系列で計測し、計測データを欠陥検査制御装置10のデータ記録手段13に出力する。 - 特許庁
  • To prevent the generation of an image defect without depending on the lifetime determination of a developer by the number of printed sheets in an electrophotography process using the developer which is composed of two components.
    2成分からなる現像剤を用いる電子写真プロセスにおいて、プリント枚数による現像剤の寿命判定に頼らず、画像ディフェクトの発生を防止する。 - 特許庁
  • The measurement part 48 obtains the Q of the coil from the detected current and voltage of the coil, and judges the presence/absence of the disconnection defect of the coil component on the basis of the obtained Q.
    計測部48は、検出したコイルの電流及び電圧から該コイルのQを求め、求めたQに基づいてコイル部品の断線不良の有無を判定する。 - 特許庁
  • A defect improper to classification is extracted after classification, and a classification parameter is adjusted, to thereby enable to change the degree for determining that the classification is improper.
    また,分類後に分類に不適当な欠陥を抽出して分類パラメータを調整することにより,分類を不適当だと判定する程度を変更することを可能とする。 - 特許庁
  • To rearrange data by a simple method without managing servo signal defects, and to prevent data from being lost by rearranging the data before the defect of a servo signal part spreads to a data recording area.
    トラック本数、ヘッド本数が増大するに従って、サーボ信号の欠陥位置管理は複雑な計算と管理のためのメモリ消費量が増大する傾向にある。 - 特許庁
  • If there is a detect 3, such as foreign particle, damages, the light L, entering into the optical film 2, may be randomly reflected or scattered at a location of the defect 3.
    光学フィルムに異物・損傷等の欠点3がある場合、光学フィルム2に入射した光Lは、欠点3のある場所で、乱反射したり、散乱を起こしたりする。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a reflective board for eliminating display defect of a display by dissolving a scratch of the outside surface of a film, and to provide a TFT display with an inexpensive reflective board.
    フィルムの外側表面の擦り傷を解消し、ディスプレーの表示欠陥をなくす反射板の製造方法、また、安価な反射板付きTFTディスプレーを提供する。 - 特許庁
  • To provide a connection detecting circuit for detecting a defect in a connection between a substrate within a device and its ancillary apparatus by utilizing the characteristics of a high-frequency signal.
    高周波信号の特性を利用して、装置内部における基板とその付属機器との間の接続不良を検出する接続検出回路を提供する。 - 特許庁
  • To make it possible to prevent an aperture ratio from decreasing, in particular, even if a crack occurs in a pixel electrode and to prevent a pixel defect area from being produced in a liquid crystal display.
    液晶表示装置において、 画素電極にクラックが発生するにしても開口率が特に低下せず画素欠陥領域を生じないようにできるものとする。 - 特許庁
  • To provide a controller installation structure of a battery forklift truck capable of reducing the number of components to reduce a cost, and preventing a casting defect in a counter weight.
    部品点数を減少してコストダウンを図ることが可能であり、また、カウンタウェイトの鋳物不良を防止することが可能なバッテリフォークリフトのコントローラ取付構造を提供する。 - 特許庁
  • In the image exposure data, the defect or distortion of images is corrected by using the dark image offset data provided from the dark image and the reference data provided from the reference area.
    このとき、前記画像露光データは、暗画像から得られた暗画像オフセットデータと、基準領域から得られた基準データとを用いて、画像の欠陥や乱れが補正される。 - 特許庁
  • Only a defect image part is extracted by a difference processing of an absorption current image of inspection wiring and a reference wiring pattern image, and it is overlapped with an SEM image.
    検査配線の吸収電流像と、基準配線パターン像との差分処理で欠陥像部分のみを抽出し、さらにこれをSEM像に重畳する。 - 特許庁
  • To easily find out a micro leak or a pin hole defect with simple constitution and high sensitivity without using a special equipment or device.
    特別な機械や装置を使用することなく簡単、かつ高い感度で微細な漏れ個所及び貫通欠陥を容易に見つけることができる有機溶剤漏洩検出具の提供。 - 特許庁
  • The arrangement of a formation area of the circuit pattern is determined avoiding a detected defect to remove a continuous pattern formed outside the formation area of the circuit pattern.
    検出された欠陥を避けるように回路パターンの形成領域の配置を決定し、回路パターンの形成領域外に形成された連続パターンを除去する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of an original plate for lithography and a printing method which enable attainment a stable printed matter free of a coating defect, without any trouble in manufacture.
    塗布欠陥なく、安定した印刷物を製造上のトラブルなく得ることができる平版印刷用原版の製造方法及び印刷方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a system and method for inspecting and editing a film carrier tape for mounting electronic components capable of continuously and efficiently performing an inner lead inspection step, a defect punch step, and an edit step and reducing the number of workers.
    インナーリード検査工程、不良パンチ工程、編集工程を、連続的にしかも効率良く行うことが可能で、作業員の人数も低減する。 - 特許庁
  • To provide an inspection device and method which inspects precisely and quickly a defect in an image display panel for displaying images in two or more of different directions.
    異なる2つ以上の方向に画像を表示する画像表示パネルの欠陥を高精度、かつ、高速に検出する検査方法、および、検査装置を実現する。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming apparatus flexibly adaptable to a diversified small-quantity production and easily forming a smooth and defect-free pattern on a desired position.
    少量多品種生産に柔軟に対応でき、かつ滑らかで欠陥のないパターンを所望位置に形成し易いパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide an electrode structure for a small sized surface acoustic wave element where defect of an interdigital transducer is suppressed due to a discharge caused by a pyroelectric effect in the manufacture process.
    製造過程で焦電効果に起因して発生する放電によるインタディジタルトランスデューサーの破損を抑制する弾性表面波素子の電極構造を提供する。 - 特許庁
  • The negotiations continued while the company devised ways to get its main customer to understand the situation, such as showing the customer data breakdowns of defect causes for returned products.
    交渉は、返品された製品に関する不良原因の内訳データを示すなど、主要販売先に理解してもらえるよう工夫しながら継続的に行った。 - 経済産業省
  • To provide a liquid crystal panel device capable of suppressing a display defect even when disclination occurs in a liquid crystal panel, and a projector, a liquid crystal display device and an image processor.
    液晶パネルにディスクリネーションが発生しても表示欠陥を抑制することができる液晶パネル装置、プロジェクタ、液晶表示装置および画像処理装置を提供する。 - 特許庁
  • This silicon wafer inspection is to inspect the defect that is an aggregate of micro-defects like a colony and the whole defective size is more 0.5 μm or more.
    シリコンウエーハを検査するにあたり、微小欠陥がコロニー状に集合しかつ全体の欠陥サイズが0.5μm以上である欠陥を検査することを特徴とする。 - 特許庁
  • To certainly detect a defect part inside a program not rightly set with a protection section even if the program is a program wherein execution order of an instruction is not uniquely determined.
    命令の実行順序が一意に決まらないプログラムであっても、保護区間が正しく設定されていないプログラム中の欠陥箇所を確実に検出できるようにする。 - 特許庁
  • In such a manner, the defective pixel is corrected by using the defect information stored in the memory space block 10 and image signals after the correction are sent out to output equipment.
    このようにして、メモリ空間ブロック10に格納した欠陥情報を用いて欠陥画素の補正を行い、補正後の画像信号を出力機器に送出する。 - 特許庁
  • The whisker is inhibited by taking-off the distortion or defect of a structure by heat treatment which occurs in an electrodeposition structure in the formation of the plating layer and causes the generation of the whisker.
    めっき層形成時の電着組織内に生じた、ウイスカの発生起因である組織の歪や欠陥を熱処理によって取り除くことでウイスカの抑制を図る。 - 特許庁
  • 2. Through lightness of heart and neglect of our shortcomings we feel not the sorrows of our soul, but often vainly laugh when we have good cause to weep.
    Lighthearted and heedless of our defect, 私達は魂の本当の悲しみを感じることはありません、しかし私達は涙を流すよい理由があるとき、しばしば空虚な笑いにふけります。 - Thomas a Kempis『キリストにならいて』
  • A compound represented by general formula (1) or a salt thereof exhibits excellent ameliorating effects in a keratoconjunctival trouble model, and is useful as the agent for treating the keratoconjunctival troubles such as dry eye, corneal ulcer, keratitis, pinkeye, superficial punctate keratitis, corneal epithelial defect, conjunctival epithelial defect, keratoconjunctivitis sicca, superior limbic keratoconjunctivitis, filamentary keratitis.
    下記一般式(1)で表される化合物またはその塩は、角膜障害モデルにおいて優れた改善効果を発揮し、ドライアイ、角膜潰瘍、角膜炎、結膜炎、点状表層角膜症、角膜上皮欠損、結膜上皮欠損、乾性角結膜炎、上輪部角結膜炎、糸状角膜炎などの角結膜障害の治療剤として有用である。 - 特許庁
  • This repair method for corrosion-proof coating of the steel structure is characterized in that a resin sheet or a resin sheet with an inorganic layer of metallic foil, metal vapor deposition, or the like is bonded to a defect part through an adhesive sheet when a defect such as a hit mark of a corrosion-proof coating occurs in the corrosion-proof coating of the steel structure installed underwater.
    水中に設置された鉄鋼構造物の防食被覆に、防食皮膜の打痕等の欠陥が生じた際に、粘着シートを介して、樹脂シート、又は、金属箔あるいは金属蒸着等の無機物層を有する樹脂シートをこの欠陥部位に接着することを特徴とする鉄鋼構造物の防食被覆の補修方法である。 - 特許庁
  • The state monitoring system of train vehicles detects defect of the train vehicles, and includes: one acceleration sensor 11 placed in each carriage 2 of a train vehicle 1 for diagnosing vertical movement system travel device of the train vehicle; and an acceleration sensor 12 placed in a specific axle box for diagnosing defect of a track.
    鉄道車両の状態監視システムにおいて、鉄道車両1の上下動系走行装置の診断を行うための鉄道車両1の各台車2に配置される1つの加速度センサ11と、軌道の不具合の診断を行うための特定の軸箱に配置される加速度センサ12とを備え、鉄道車両の不具合を検知する。 - 特許庁
  • To provide a method of repairing a reactor structure, and the reactor structure, capable of suppressing progression of a crack-shaped defect by suppressing corrosion of a metal material constituting the structure inside a repaired crack, when a crack-shaped defect part is generated on the metal surface of the reactor structure and its repair welding is performed.
    原子炉構造物の金属表面に亀裂状欠陥部が生じてその補修溶接を行なう場合に、補修亀裂内部の構造物を構成する金属材料の腐食を抑制し、亀裂状欠陥の進展を抑制することが可能な原子炉構造物の補修方法、及び原子炉構造物を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • The repair method includes: specifying processes (S101, S102) for specifying defective parts generating the bright spot defect; and applying processes (S103, S104) for applying a correction material for correcting the bright spot defect to become difficult to be viewed to the specified defective parts by an ink jet method on at least one substrate of a pair of the substrates.
    リペア方法は、一対の基板のうち少なくとも一方の基板について、輝点不良が生じる不良箇所を特定する特定工程(S101、S102)と、該特定された不良箇所に対して、輝点不良が視認され難くなるように修正するための修正材料を、インクジェット法により塗布する塗布工程(S103、S104)とを備える。 - 特許庁
  • A divided zone in the circumferential direction of an optical disk is associated with a rotation control pulse generated corresponding to the rotation of a spindle motor for the rotation of the optical disk to specify the position of a defect part on the recording surface of the optical disk based on the rotation control pulse and to discriminate whether to avoid the position of the defect part in recording or reproducing.
    光ディスク回転用のスピンドルモータの回転に対応して発生する回転制御パルスに、光ディスクの周方向の分割ゾーンを対応付け、該回転制御パルスに基づいて該光ディスクの記録面上の欠陥部位置を特定するとともに、記録または再生時に該欠陥部位置を回避するか否かを判別する。 - 特許庁
  • At retry time, prescribed improvement processing is executed in periods GS to GE in such a manner that the periods HS to HE (or a period (y)) of defect signals included in an RF signal are included based on the position information of the data having an error in retrying and that the defect processing signal G is generated only in the periods GS to GE prior to the start of the period.
    本発明では、リトライ時に、誤りのあるデータの位置情報に基づき、RF信号に含まれる欠陥信号の期間HS〜HE(あるいは期間y)を含むように、かつ、その期間が開始される前に欠陥処理信号Gが期間GS〜GEだけ生成され、そのGS〜GEの期間所定の改善処理が実行される。 - 特許庁
  • This silicon wafer is a silicon wafer which is obtained from a silicon single crystal rod grown by doping with nitrogen by CZ method, has 2-12 μm defect-free layer depth after gettering heat treatment and after device production and heat treatment of silicon wafer and 1×108 to 2×1010 defects/cm3 internal fine defect density after gettering heat treatment and after device production and heat treatment.
    CZ法により窒素をドープして育成されたシリコン単結晶棒から得たシリコンウエーハであって、該シリコンウエーハのゲッタリング熱処理後またはデバイス製造熱処理後の無欠陥層深さが2〜12μmであり、かつゲッタリング熱処理後またはデバイス製造熱処理後の内部微小欠陥密度が1×10^8〜2×10^10ケ/cm^3であるシリコンウエーハ。 - 特許庁
  • To provide ink for correcting a minute defect in a colored pattern and its method for suppressing fluctuation of amount and size of application to small extent, preventing an application implement from being clogged, preventing the occurrence of a defect in color mixing and reduction of intensity in coloring due to spread of an applied spot after application, and achieving continuous use of the ink for many hours.
    塗布量及び塗布サイズの変動が小さく、塗布器具の目詰まりが発生し難く、且つ、塗布後に塗布スポットが広がることによる混色欠陥の発生や着色濃度の低下が起こり難い、長時間連続使用可能な微小着色パターン欠陥修正用インキ、及び微小着色パターン欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
  • A column electron microscope combined device has a structure of arranging: an electron microscope capable of beam tilting for obtaining images by irradiating charged particle beams on an observation defect and detecting electrons emitted from a surface of the observation defect; and compact column electron microscopes enabling imaging from an arbitrary angle on a column of the electron microscope.
    本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子ビームを観察欠陥に照射し、観察欠陥の表面から放出される電子を検出して画像を取得するビームチルトが可能な電子顕微鏡と、当該電子顕微鏡カラムに任意の角度から撮像可能とする小型カラム電子顕微鏡を複数配置した構造とする。 - 特許庁
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  • 原題:”The Imitation of Christ”

    邦題:『キリストにならいて』
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