「Defect」を含む例文一覧(18306)

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  • OPTICAL DEFECT DETECTION DEVICE AND METHOD, AND DEFECT OBSERVATION DEVICE PROVIDED WITH THE SAME
    光学式欠陥検出装置及び方法並びにこれを備えた欠陥観察装置 - 特許庁
  • To provide a mask defect inspection method, and a mask defect inspection device used therefor.
    マスク欠陥検査方法及びこれに使用されるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • Thus, the defect occurrence rate is easily predicted based on the defect inspection results.
    したがって、欠陥検査結果から不良発生率を容易に予測することが可能となる。 - 特許庁
  • The read defect correction method is superimposed with the defect image 34 and displayed.
    読み出した欠陥修正方法は、欠陥画像３４と重ねて表示装置に表示する。 - 特許庁
  • On the basis of the result of a defect examination to be performed each time the layer of a wafer is formed, processing 41 is performed for making correspondent defect coordinates between respective examinations to recognize the defect and further, processing 43 is performed for deciding the size of that defect for each recognized defect to unify the defect sizes different for each examination of the defect.
    ウェーハの層形成毎に行われる欠陥検査の結果を元に、各検査間の欠陥座標を対応付ける処理４１を行って、同一欠陥を認識し、さらに、認識した同一欠陥毎に、その欠陥サイズを判定する処理４３を行って、同一欠陥の検査毎に異なる欠陥サイズを統一する。 - 特許庁
  • A defect-counting section 223 counts the classified defects to find the defect densities of each region; and if the defect density of an region is larger than the average value of the defect densities of the other regions, exceeding by a significant difference, a systematic defect determining section 224 determines the defect in the region as being a systematic defect.
    欠陥集計部２２３は、その分類された欠陥を集計し、各領域の欠陥密度を求め、ある領域の欠陥密度が他の領域の欠陥密度の平均値よりも有意差以上に大きい場合には、システマティック欠陥判定部２２４は、その領域の欠陥をシステマティック欠陥と判定する。 - 特許庁
  • The halo component in a corrected part of a white defect, re-deposition near a black defect or deposition near a white defect is removed by an electron beam processing device without damages in the corrected part of the white defect or black defect by a mask defect correcting device using ion beams or by a mask defect correcting device using electron beams.
    イオンビームを用いたマスク欠陥修正装置や電子ビームを用いたマスク欠陥修正装置による白欠陥もしくは黒欠陥の修正個所に対して、ダメージのない電子ビーム加工装置で白欠陥修正個所のハロー成分や黒欠陥周辺の再付着もしくは白欠陥周辺の付着を除去する。 - 特許庁
  • A defect detecting means 2 detects a defect on the surface of a sample at a predetermined inspection sensitivity, a false defect specifying means 4 specifies a false defect from defect information acquired by the defect detection, and a non-inspected region setting means 5 sets the detection part of the specified false defect in a non-inspected region.
    欠陥検出手段２は、所定の検査感度で試料表面の欠陥検出を行い、擬似欠陥特定手段４は、欠陥検出により得られた欠陥情報から擬似欠陥を特定し、非検査領域設定手段５は、特定した擬似欠陥の検出箇所を非検査領域に設定する。 - 特許庁
  • METHOD FOR CORRECTING OUTPUT VALUE OF IMAGING MEANS, SHADING CORRECTION METHOD, DEFECT DETECTION METHOD, DEFECT DETECTION PROGRAM, AND DEFECT DETECTION APPARATUS
    撮像手段の出力値補正方法、シェーディング補正方法、欠陥検出方法、欠陥検出プログラムおよび欠陥検出装置 - 特許庁
  • A processing unit detects a defect on a wafer surface, on the basis of image data, and stores the defect information in the defect information storage area.
    処理装置が、画像データに基づいて、ウエハ表面上の欠陥を検出し、欠陥の情報を、欠陥情報記憶部に記憶させる。 - 特許庁
  • To provide a defect analysis method and a defect analyzer capable of effectively analyzing the cause of a defect of a semiconductor device.
    半導体デバイスに発生した欠陥の要因を効果的に解析できる欠陥解析方法及び欠陥解析装置を提供する。 - 特許庁
  • The defect inspection apparatus 1 comprises a boundary emphasis section 12 having the above functions, a defect detection section 13, and a defect count section 14.
    欠陥検査装置１は、上記機能を有する境界強調部１２、欠陥検出部１３及び欠陥計数部１４からなる。 - 特許庁
  • To provide a defect inspection device and a defect inspection method, being capable of accurately inspecting a fine defect in a short time.
    微細な欠陥の検査を精度よく且つ短時間に行うことができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
  • Then a defect correction unit performing correction of the defect using the read out defect correction method is controlled.
    そして、読み出された欠陥修正手法を利用して前記欠陥の修正を実行する欠陥修正部を制御するようにする。 - 特許庁
  • METHOD FOR INSPECTING MASK DEFECT, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK DEFECT INSPECTION APPARATUS, AND METHOD AND PROGRAM FOR FORMING MAP OF INFLUENTIAL DEGREE OF DEFECT
    マスク欠陥検査方法、半導体装置の製造方法、マスク欠陥検査装置、欠陥影響度マップ作成方法およびプログラム - 特許庁
  • Thus, the correction ink 2 can be applied to the defect part 7a without being affected by static electricity at the defect part 7a and near the defect part 7a.
    したがって、欠陥部７ａおよびその近傍の静電気の影響を受けずに、欠陥部７ａに修正インク２を塗布できる。 - 特許庁
  • SURFACE DEFECT CONFIRMING APPARATUS, SUBSTRATE DEFECT ANALYZING METHOD USING THE SAME AND SUBSTRATE DEFECT ANALYZING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS
    表面欠陥確認装置ならびに該装置を用いた基板欠陥分析方法および液晶表示装置の基板欠陥分析方法 - 特許庁
  • The defect inspection system is constituted of a DF defect inspection device 1 having a spatial filter section 12, and a defect inspection correction device 2.
    空間フィルタ部１２を有するＤＦ欠陥検査装置１及び欠陥検査補正装置２を含み欠陥検査システムが構成される。 - 特許庁
  • To provide a display device, a defect detecting system, and a defect detecting method capable of easily detecting pixel defect generated on pixel.
    画素内に発生する画素欠陥を容易に検出可能な表示装置、欠陥検出システム、および欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
  • To automate defect inspection in an apparatus for defect inspection of an exposure mask and to realize high accuracy and high-speed defect inspection.
    露光用マスクの欠陥検査において、欠陥検査を装置内で自動化し、欠陥検査の高精度化並びに高速化を可能にする。 - 特許庁
  • DEFECT DETECTOR, DEFECT DETECTING METHOD, IMAGE SENSOR DEVICE, IMAGE SENSOR MODULE, DEFECT DETECTING PROGRAM, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM
    欠陥検出装置、欠陥検出方法、イメージセンサデバイス、イメージセンサモジュール、欠陥検出プログラム、およびコンピュータ読取可能な記録媒体 - 特許庁
  • In inspecting defects of a wafer W, the defect observation apparatus 3 inputs defect position data obtained from a defect detector 2.
    ウェハＷの欠陥検査を行う場合、まず欠陥観察装置３は、欠陥検出装置２からの欠陥位置データを入力する。 - 特許庁
  • To provide an antireflection film defect inspection device facilitating a defect extraction even if it is a low-contrast defect of the antireflection film.
    反射防止フィルムの低コントラストの欠陥でも欠陥抽出を容易にする反射防止フィルム欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • DEFECT-MARKING DEVICE FOR TESTING PAINTED SURFACE OF VEHICLE
    車両塗面検査用欠陥マーキング装置 - 特許庁
  • SURFACE DEFECT INSPECTION SYSTEM, METHOD AND PROGRAM
    表面欠陥検査システム、方法及びプログラム - 特許庁
  • DISPLAY DEVICE AND ITS DEFECT CORRECTING METHOD
    表示装置およびその欠陥修正方法 - 特許庁
  • PHOTO LITHOGRAPHY PROCESS DEVICE AND DEFECT INSPECTION DEVICE
    フォトリソプロセス装置および欠陥検査方法 - 特許庁
  • ESTIMATION METHOD FOR DEFECT DIAMETER IN METALLIC MATERIAL
    金属材料中欠陥径の推定方法 - 特許庁
  • DEFECT DETECTION METHOD OF CYLINDRICAL STRUCTURE
    円筒形構造物の欠陥検出方法 - 特許庁
  • DEFECT INSPECTION METHOD FOR PATTERN AND ITS DEVICE
    パターンの欠陥検査方法およびその装置 - 特許庁
  • APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION OF DEFECT
    欠点検査装置および欠点検査方法 - 特許庁
  • WIRING-DEFECT CORRECTING METHOD, AND APPARATUS THEREOF
    配線欠陥修正方法及びその装置 - 特許庁
  • METHOD OF DETERMINING DEFECT OF LIQUID DROPLET DISCHARGE HEAD
    液滴吐出ヘッドの不良判定方法 - 特許庁
  • APPARATUS FOR INSPECTING DEFECT IN LIGHT-SCATTERING TRANSMISSION SHEET
    光散乱透過シートの欠点検査装置 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR DETECTING DEFECT IN THROUGH HOLE
    スルーホールの欠陥検出方法及び装置 - 特許庁
  • SURFACE DEFECT MARKING METHOD TO THIN STEEL SHEET
    薄鋼板への表面欠陥マーキング方法 - 特許庁
  • DEFECT TEST METHOD FOR STATOR OF POLYPHASE MOTOR
    多相電動機ステータの不良検査方法 - 特許庁
  • METHOD OF ESTIMATING DEFECT LEVEL OF SEMICONDUCTOR DEVICE
    半導体装置の欠陥レベル推定方法 - 特許庁
  • A defect detection unit included in a defect correction device generates a defect region image being a difference image between a defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image.
    欠陥修正装置が備える欠陥検出部が、多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像との差画像である欠陥領域画像を生成する。 - 特許庁
  • CORRECTING METHOD AND DEVICE FOR DEFECT OF PORE
    微細孔欠陥の修正方法及び装置 - 特許庁
  • METHOD FOR INSPECTING DEFECT BY INFRARED THERMOGRAPHY
    赤外線サーモグラフィによる欠陥検査方法 - 特許庁
  • The controller 19 tracks the command, when the defect mark reaches the position of a defect mark erasing device 16, drives the defect mark erasing device 16, the defect mark is erased.
    制御装置１９は、この指令をトラッキングし、欠陥マークが欠陥マーク消去装置１６の位置に達したとき、欠陥マーク消去装置１６を駆動し、欠陥マークを消去する。 - 特許庁
  • METHOD FOR DETECTING WELDING DEFECT IN SECONDARY BATTERY
    ２次電池の溶接不良の検出方法 - 特許庁
  • ANALYZING METHOD OF DEFECT IN SEMICONDUCTOR TREATMENT APPARATUS
    半導体処理装置の不良解析方法 - 特許庁
  • IMAGING APPARATUS HAVING PIXEL DEFECT COMPLEMENTARY FUNCTION
    画素欠陥補完機能を備えた撮像装置 - 特許庁
  • To provide a defect inspection method, and a defect inspection device for inspecting a place detected as a pseudo-defect of a transmissivity signal without detecting the place as the pseudo-defect.
    透過率信号の疑似欠陥として検出されてしまう箇所を疑似欠陥として検出することなく検査することが可能な欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
  • DEFECT INSPECTING METHOD FOR PHOTOMASK WITH ADDITIONAL FIGURE
    付加図形付きフォトマスクの欠陥検査方法 - 特許庁
  • To suppress and reduce a seizure defect, a crack defect, a gas defect, and a shrinkage cavity defect, which are casting defects thought to originate in fire-resistant particles and a binder composing a mold.
    鋳型を構成する耐火粒子及び粘結剤に由来すると考えられる鋳造欠陥である焼着欠陥、割れ欠陥、ガス欠陥、引け巣欠陥を抑制し、低減すること。 - 特許庁
  • DEVICE AND METHOD FOR DEFECT MARKING
    欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法 - 特許庁
  • To classify a defect detected by a SEM type appearance inspection into an electric defect (VC defect: Voltage Contrast) inside an inspection object and a surface defect.
    ＳＥＭ式外観検査において，検出した欠陥を、検査対象内部の電気的欠陥（ＶＣ欠陥：Ｖｏｌｔａｇｅ Ｃｏｎｔｒａｓｔ）と表面欠陥とに分類する。 - 特許庁
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