However, if the light bulb itself is a defect しかし もし電球自体に欠陥があれば - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
Codename music man. failed attempt to defect. コードネームは"音楽家"で 離反に失敗しました - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
Children defect for all kinds of reasons. 子供がグレるには いろんな理由があるのよ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
The style is faultless, except for this single defect.
欠点はこれだけでまあ無疵の文章だ - 斎藤和英大辞典
To be perfect she lacked just one defect. 完璧であるには、欠点だけが欠けていた。 - Tatoeba例文
DEFECT POSITION SPECIFICATION METHOD IN LAYERED PRODUCT 積層体における欠陥位置特定方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DETECTING LINE DEFECT ON PANEL パネルの線欠陥検出方法及び装置 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF DLC MEMBRANE MASK DLCメンブレンマスクの欠陥修正方法 - 特許庁
EDGE DEFECT DETECTION METHOD AND DETECTION DEVICE エッジ欠陥検出方法、及び検出装置 - 特許庁
DISPLAY DEVICE AND ITS DEFECT REPAIR METHOD 表示装置及びその欠陥修復方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTING AND REPAIRING CIRCUIT DEFECT 回路欠陥検査補修装置及び方法 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING DEFECT OF CERAMIC GAS SEPARATION MODULE セラミックガス分離モジュールの欠陥検査方法 - 特許庁
TEMPLATE INSPECTING METHOD AND DEFECT INSPECTION DEVICE テンプレート検査方法および欠陥検査装置 - 特許庁
SURFACE DEFECT INSPECTION SYSTEM, METHOD, AND PROGRAM 表面欠陥検査システム、方法及びプログラム - 特許庁
DEFECT RELIEVING DEVICE AND METHOD FOR MEMORY DEVICE メモリデバイスの不良救済装置及び方法 - 特許庁
METHOD FOR DEFECT INSPECTION OF HOLLOW FIBER MEMBRANE MODULE 中空糸膜モジュールの欠陥検査方法 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR ANALYZING DEFECT OF SEMICONDUCTOR 半導体欠陥解析システムおよび方法 - 特許庁
SOS SUBSTRATE REDUCED IN SURFACE DEFECT DENSITY 表面欠陥密度が少ないSOS基板 - 特許庁
Each photovoltaic cell defect is classified according to defect types and a shape of the dark region is compared with the defect types (S50), and the presence or absence of the defect is determined to determine whether the photovoltaice cells are good or not. 太陽電池セルの欠陥をタイプごとに分け、暗部の形状を各タイプと比較して解析し(S50)欠陥の有無を判定し、太陽電池セルの良否判断を行う。 - 特許庁
METHOD OF INSPECTING PATTERN DEFECT, AND APPARATUS OF THE SAME パターン欠陥検査方法及びその装置 - 特許庁
However, if the bulb itself is a defect しかし もし電球自体に欠陥があれば - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
For a V line defect generated in an image due to defect in VCCD of an imaging sensor, the position (initial defect position) of a V line defect generated in an initial state of activation of an imaging apparatus is previously stored in a defect address memory. 撮像センサのVCCDにおける欠陥に起因して画像において発生するVライン傷について、撮像装置の起動初期状態において発生するVライン傷の位置(初期傷位置)を傷アドレスメモリに予め記憶しておく。 - 特許庁
The first defect detection for detecting the first true device defect, and the second defect detection for detecting the second true device defect and a pseudo defect together are performed by using inspection signals having each different signal pattern. 異なる信号パターンの検査信号を用いることで、第1の真のデバイス欠陥を検出する第1の欠陥検出と、第2の真のデバイス欠陥と擬似欠陥とを合わせて検出する第2の欠陥検出とを行う。 - 特許庁
The comparison and determination part 7 compares the defect probability of the semiconductor integrated circuit chip with the prescribed defect rate, and determines as an operation timing quality product when the defect probability is lower than the prescribed defect rate, and determines as an operation timing defective product, when the defect probability is higher. 比較判定部7は、半導体集積回路チップの不良確率を所定の不良率と比較し、所定の不良率よりも低ければ動作タイミング良品と判定し、高ければ動作タイミング不良品と判定する。 - 特許庁
Discrimination between the VC defect and the surface defect is enabled by paying attention to the difference between displacement of a VC defect generation position to a hole pattern and displacement of a surface defect generation position, to thereby enable classification into each defect. 穴パターンに対するVC欠陥発生位置のずれ量と表面欠陥発生位置のずれ量との違いに着目することで,VC欠陥と表面欠陥とを弁別することを可能にし、それぞれに分類するようにした。 - 特許庁
In the defect detecting apparatus 13a, the extraction of the candidate parts of the defect is performed on the basis of a signal level or the like and informations such as the signal level of defect indicating part, the position of the indicated part and the indicated length of the defect are transmitted to a defect selecting apparatus 15a. 欠陥検出装置13aでは、信号レベルなどに基づき、欠陥候補部の抽出を行い、欠陥選択装置15aに対し、欠陥指示部信号レベル、指示部位置、欠陥指示長さなどの情報を伝送する。 - 特許庁
To provide a defect correction method to locate and appropriately fix a small defect in a defect correction process of a photomask; a defect correction system of a photomask; and a defect correction program of a photomask. フォトマスクの欠陥修正工程において微小な欠陥の位置を特定し、適切に修正することが可能となるフォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの欠陥修正システム及びフォトマスクの欠陥修正プログラムを提供する。 - 特許庁
To reproduce defect management information from a defect management area in time shorter than the time required by a conventional defect information reproducing method by eliminating the track jump of the program searching of the defect management area generated at the time of reproducing the defect management information from a plurality of adjacent defect management areas. 近接する複数の欠陥管理領域から欠陥管理情報を再生する際に、発生していた欠陥管理領域の頭出しのトラックジャンプを削除し、従来の欠陥情報再生方法よりも短い時間で、欠陥管理領域から欠陥管理情報を再生する。 - 特許庁
In the case of a plurality of defect data, the defect map is displayed by searching for a similar defect on an image, performing trend display of the searched result, and specifying one searched result on the trend, and the defect on the defect map is specified, thus displaying the defect image in inspection. 複数枚の欠陥データの場合には、画像上で類似の欠陥を検索、検索結果をトレンド表示すること、トレンド上の1枚を指定することでその欠陥マップを表示し、欠陥マップ上の欠陥を指定することで検査時の欠陥画像の表示を可能とする。 - 特許庁
To realize a white defect correction circuit, which cancels a white defect signal more appropriately about three pixels being a white defect pixel of a CCD and the left and right defect pixels adjacent to the white defect pixel by replacing them with the video signals of the peripheral pixels of the pixels, in a white defect correction circuit. 白欠陥補正回路において、CCDの白欠陥画素と、その欠陥画素の左隣、右隣の三つの画素について、それら画素の周辺の画素の映像信号に置き換えることで、より適正に白欠陥信号をキャンセルするようにした白欠陥補正回路を実現する。 - 特許庁
A control device determines whether or not the same defect is registered repeatedly into at least two defect detection data, based on position information of each defect registered in the defect detection data respectively, and acknowledges that a defect acknowledged to be registered repeatedly is a repeated defect. 制御装置が、欠陥検出データの各々に登録されている欠陥の位置情報に基づいて、同一の欠陥が少なくとも2つの欠陥検出データに重複して登録されているか否かを判定し、重複して登録されていると認定される欠陥を重複欠陥と認定する。 - 特許庁
The control device 6 includes an edge defect enhancement means 62 for enhancing a defect in contact with a continuous pattern edge by applying an edge defect enhancement filter to the imaged image and acquiring an edge defect enhancement value, and an edge defect detection means 63 for detecting an edge defect based on the edge defect enhancement value acquired by the edge defect enhancement means 62. 制御装置6は、撮像画像にエッジ欠陥強調フィルタを適用して連続するパターンのエッジに接する欠陥を強調し、エッジ欠陥強調値を取得するエッジ欠陥強調手段62と、エッジ欠陥強調手段62で取得されるエッジ欠陥強調値に基づいてエッジ欠陥を検出するエッジ欠陥検出手段63とを備える。 - 特許庁
METHOD FOR ANALYZING DEFECT INFORMATION AND ITS APPARATUS 欠陥情報解析方法およびその装置 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR COLOR FILTER DEFECT REPAIR AND METHOD FOR REPAIRING COLOR FILTER DEFECT カラーフィルタ欠陥修復用感放射線性樹脂組成物およびカラーフィルタ欠陥の修復方法 - 特許庁
FLAW TYPE CLASSIFICATION BOUNDARY SETTING METHOD IN SURFACE DEFECT DETECTION, AND DEFECT DETECTION METHOD 表面欠陥検出における疵種分類境界設定方法、及び欠陥検出方法 - 特許庁
To minimize the detection of a pseudo defect and to surely detect an actual defect when the defect of a semiconductor IC device is detected. 半導体ICデバイスの欠陥の検出において擬似欠陥の検出を最小化するとともに実際の欠陥の検出を確実にする。 - 特許庁
To detect a defect by pixels by avoiding a detection error by an artificial defect. 疑似欠陥による誤検出の問題を回避して、画素単位の欠陥の検出を行うこと。 - 特許庁
The defect identification and defect classification of each area are done using the selected parameter. そして、選択されたパラメータを用いて、各領域の欠陥識別と欠陥分類とを実施する。 - 特許庁
METHOD OF DETERMINING DEFECT SIZE OF PATTERN USED TO EVALUATE DEFECT DETECTION SENSITIVITY AND METHOD OF CREATING SENSITIVITY TABLE 欠陥検出感度評価用パターンの欠陥サイズ算出方法及び感度表作成方法 - 特許庁
CORRECTION DEVICE FOR DEFECT AND METHOD THEREFOR 欠陥の修正装置及びその修正方法 - 特許庁
DEFECT DETECTION DEVICE FOR MACHINED METAL PART 切削加工金属部品の欠陥検出装置。 - 特許庁
To provide a digital still camera for correcting a temperature white defect without the need for using a temperature sensor for sensing the temperature white defect and an address table for the temperature white defect. 温度白キズを検出する温度センサと温度白キズのアドレステーブルとを用いずに、温度白キズを補正するデジタルスチルカメラを提供する。 - 特許庁
DEFECT INSPECTION APPARATUS, DEFECT INSPECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME 欠陥検査装置、欠陥検査方法並びにこれを用いた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEFECT INSPECTION DEVICE AND METHOD THEREOF 半導体の欠陥検査装置及びその方法 - 特許庁
Defect part sensors 2211, 2212, and a defect part removing devices 2221, 2222 are also provided. また,欠陥部分センサ2211,2212と,欠陥部分除去装置2221,2222とを有している。 - 特許庁
BLACK DEFECT DETECTING DEVICE FOR SOLID STATE IMAGE SENSING DEVICE AND IMAGING APPARATUS, AND BLACK DEFECT DETECTING METHOD 固体撮像素子の黒欠陥検出装置及び撮像装置、並びに黒欠陥検出方法 - 特許庁
To prevent the image defect caused by a cleaning defect of toner remaining after transfer, for a long period of time. 転写残トナーのクリーニング不良に起因する画像不良を長期にわたって防止する。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF ITS DEFECT INSPECTION 半導体装置およびその欠陥検査方法 - 特許庁
The defect detection sensitivity of the inspection apparatus for a pattern defect is inspected by the above detection result. そして、その検出結果から、パターン欠陥検査装置の欠陥検出感度を検査する。 - 特許庁
A defect present on the element formation surface is detected by the defect inspection device (S4). 前記欠陥検査装置により前記素子形成面に存在する欠陥を検出する(S4)。 - 特許庁