「Roughneſs」を含む例文一覧(6432)
＜前へ 1 2 .... 6 7 8 9 10 11 12 13 14 .... 128 129 次へ＞- Ra value regarding surface roughness is desirably 0.1 to 0.5 μm.
表面粗さについてのＲａ値が０．１μｍ以上、０．５μｍ以下であるのが望ましい。 - 特許庁 - A piping part 3 also has the inner wall roughened into the arithmetic mean surface roughness Ra of 1.0 μm or more.
また、配管部３の内壁も表面平均粗さＲａを１．０μｍ以上に表面粗化する。 - 特許庁 - Surface roughness index φ=φ0×K2/D×Σ (K1×L×P/W)...(A).
面荒れ指数φ＝φ０・Ｋ２／Ｄ・Σ（Ｋ１・Ｌ・Ｐ／Ｗ）・・・・・（Ａ） - 特許庁 - The surface roughness R_P-V at the recessed and projected surface is favorably 0.01-50 μm.
ここで、凹凸表面における表面粗さＲ_P-Vは０．０１μｍ〜５０μｍであることが好ましい。 - 特許庁 - FERRITIC STAINLESS STEEL SHEET HAVING REDUCED SURFACE ROUGHNESS AFTER WORKING AND EXCELLENT FORMABILITY, AND ITS MANUFACTURING METHOD
加工肌荒れの小さい成形性に優れたフェライト系ステンレス鋼板およびその製造方法 - 特許庁 - An arithmetic average roughness Ra of the alignment control films 6a, 6b is controlled to satisfy Ra<0.5 nm.
そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＜０．５ｎｍ にする。 - 特許庁 - Furthermore, arithmetic average roughness Ra of the alignment control layers 6a, 6b is made to satisfy an inequality Ra>0.6 nm.
そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＞０．６ｎｍ にする。 - 特許庁 - The innermost layer of the tube is preferably smooth, having an arithmetic average roughness (Ra) of ≤0.3 μm.
チューブの最内層は平滑であり、算術平均荒さ（Ｒａ）が０．３μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁 - The surface roughness (Ra) of the transfer material (a) is desirably 1 μm-10 μm.
転写材（ａ）の表面粗さ（Ｒａ）は１μｍ以上１０μｍ以下であることが望ましい。 - 特許庁 - To form a gate insulation film having uniform film thickness in which local surface roughness is small.
均一な膜厚でかつ局所的な表面粗さの小さいゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁 - Consequently, S/N of the outputted signal is improved and the blooming and the surface roughness is prevented.
したがって、出力信号のＳ／Ｎが改善され、ブルーミングおよび面ザラが防止される。 - 特許庁 - The powder is characterized by a micron-scale particle diameter and a nano-scale surface roughness.
前記粉体はミクロンスケールの粒径とナノスケールの表面粗さに特徴を持つ。 - 特許庁 - To readily measure in distinction from local roughness, by stably measuring a line width.
線幅を安定して計測し、局所的なラフネスと区別して簡便に測定する。 - 特許庁 - To provide an alkali soap at low cost that prevents skin roughness caused by a free alkali.
遊離のアルカリによる肌荒れを防止するアルカリ石鹸を低コストで提供する。 - 特許庁 - To provide a skin disinfection preparation for external use, surely performing the disinfection of skin and hardly causing skin roughness.
皮膚の消毒を確実に実効しかつ皮膚荒れを起こしにくい皮膚消毒用外用剤を提供する。 - 特許庁 - To measure surface roughness in real time while performing near-field light etching.
近接場光エッチングを実行しつつ、リアルタイムで表面粗さを計測する。 - 特許庁 - The surface of the glass substrate is polished and its surface roughness Ra is no larger than 2 nm.
ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition exhibiting high sensitivity and good line edge roughness.
高い感度及び良好なラインエッジラフネスを示すフォトレジスト組成物を製造。 - 特許庁 - The outermost layer of the coating film 3 comprises a hydrophilic coating film 31 having 0.2 μm or less of surface roughness Ra.
塗膜３の最外層は、表面粗さＲａが０．２μｍ以下の親水性塗膜３１からなる。 - 特許庁 - the ten-point average roughness of the smooth surface 28 is not less than 0.0001 μm and not more than 0.1 μm.
平滑面２８の十点平均粗さは０．０００１μｍ以上０．１μｍ以下である。 - 特許庁 - The surface roughness Ra of the film 2 (outermost layer 4) exceeds 0.5 μm.
そして、この被膜２（最外層４）の表面粗さＲａは、０．５μｍ超過とされている。 - 特許庁 - The surface roughness of a take-off roll T and a guide roll G is made to be Rz=0.5-10 μm.
また、テイクオフロールＴとガイドロールＧの表面粗さを、Ｒｚ＝０．５μｍ〜１０μｍとする。 - 特許庁 - The outer peripheral surface 14 has a surface roughness Ra of ≥1 μm and ≤20 μm.
外周面１４の表面粗さＲａは、１μｍ以上２０μｍ以下である。 - 特許庁 - The geometric shape contains a sidewall having a first roughness caused from the etching processing.
この幾何形状は、エッチング処理に起因する第１の粗さを有する側壁を含んでいる。 - 特許庁 - The surface roughness of the steel sheet Ra is preferably ≥2 μ and Psk is ≥(-0.3).
鋼板の表面粗さは、好ましくはＲａが２μｍ以上、Ｒｓｋが−０.３以上である。 - 特許庁 - To obtain a substrate which has uniform surface roughness and no optical spot while keeping polishing efficiency.
研磨効率を維持したまま、均一な表面粗さと光学的な斑のない基板を得る - 特許庁 - To provide a pattern forming method excellent in both of pattern shapes and roughness characteristics.
パターン形状とラフネス特性との双方に優れたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The thermal treatment is performed in the condition where surface roughness (Ra) of the electrode 8 is 100 Å or smaller.
熱処理は電極８の表面粗さ（Ｒａ）が１００Å以下となる条件で行う。 - 特許庁 - Then the upper surface of the transparent resin body 17 has surface roughness of ≥0.15 μm.
そして、透明樹脂体１７の上面の表面粗さを０．１５μｍ以上とする。 - 特許庁 - To enable manufacturing of a press formed article with high precision and extremely minute surface roughness.
高精度かつ表面粗さの極めて小さいプレス成形品の作製を可能とする。 - 特許庁 - To uniformize data roughness and fineness near the center of K space by nonorthogonal coordinate system scanning and to improve image quality.
非直交座標系走査でK空間中心付近のデータ粗密を均一化して、画質を向上する。 - 特許庁 - A lower surface 23a of the eaves section 23 is finished at a level of a surface with a mirror surface or designated surface roughness.
庇部２３の下面２３ａは、鏡面または指定の表面粗さの面の仕上げとされる。 - 特許庁 - To provide a resist composition enabling an excellent line edge roughness to be performed.
優れたラインエッジラフネスを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - Further, the flat parts 13 have a surface roughness (Ra) of ≤0.6 μm and has the diffusion function of light.
また、平坦部１３は、０．６μｍ以下の表面粗度（Ｒａ）を有し、光の拡散機能を有する。 - 特許庁 - The surface of the strained second semiconductor crystalline material has a reduced roughness.
歪んだ第２の半導体結晶材料の表面の粗さは、低減されている。 - 特許庁 - To eliminate roughness of a position in a changeable imaging range by a pan head mechanism in an imaging system.
撮像システムにおいて、雲台機構により変更可能な撮像範囲の位置の粗さを解消する。 - 特許庁 - To provide a thermal transfer double-sided image receiving sheet not having "blocking" and "print roughness".
「ブロッキング」及び「印画ざらつき」のない熱転写両面受像シートを提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist composition which ensures improved resolution and line edge roughness (LER) of a pattern.
パターンの解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善されたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition capable of forming excellent line edge roughness.
優れたラインエッジラフネスを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a positive type chemical amplification resist composition showing a sufficient shape and high line edge roughness.
良好な形状及び良好なラインエッジラフネスを示す化学増幅ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁 - To suppress roughness of a display picture caused by a leakage current in the off period of a sampling transistor.
サンプリングトランジスタのオフ時のリーク電流に起因する表示画面のザラツキを抑制する。 - 特許庁 - Roughness generated on the inner wall of the groove 8 is removed and the inner wall of the groove 8 is flattened.
これにより、溝８の内壁に生じた荒れは除去されて、溝８の内壁が平坦化される。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device capable of obtaining nongranular display without roughness and preventing luminance from decreasing.
ざらつきのない表示品質が得られ且つ輝度低下を防止できる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a device for measuring a road-surface roughness distribution wherein the partial rough distribution of a road surface is acquired.
路面の部分的な凹凸分布を求めることができる路面凹凸分布の測定装置を提供する。 - 特許庁 - Or the surface roughness Ra (arithmetic mean deviation of profile) of the inner peripheral surface is set at 1 to 20 μm.
あるいは、内周面の表面粗さＲａ（中心線平均粗さ）を1μｍ〜20μｍとする。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity and improved edge roughness of a pattern.
高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁 - The margin part 19a formed on the outer peripheral part of the backing is also given the same surface roughness.
裏打ちの外周部に形成されたマージン部１９ａも同じ面粗さにしてある。 - 特許庁 - Furthermore, the roughness on the surface of part 13 above mentioned, must be formed below 9 μm, in the maximum height (Ry).
また、前記逃げ部13の表面粗さが、最大高さ（Ｒｙ）９μｍ以下に形成されている。 - 特許庁 - The surface roughness of unfinished part for dry-honing is preferred to be 0.3 μmRa or less.
ドライホーニングによる非仕上加工部の表面粗さは０．３μｍＲａ以下が望ましい。 - 特許庁 - In addition, the surface roughness of the flat surface body is preferably within a range of 0.01-1.0 nm.
また、平坦表面体の表面粗さは、0.01〜1.0 nmの範囲内にあることが好ましい。 - 特許庁
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